【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６６〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を７〜１７％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜７％、Ｌｉ_２Ｏを０〜９％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜１３％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が８１〜９２％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜９％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯが４〜１３％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２ＯおよびＣａＯ含有量の合計Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＣａＯが０〜１０％、ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２の含有量の合計ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が０〜５％である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】 特に、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能な圧粉磁心及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 軟磁性粉末５及び絶縁性結着材６を有する混合物を圧縮成形し、熱処理して得られる圧粉磁心であって、前記絶縁性結着材６は、バインダー樹脂と、ガラスとを有してなり、前記ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）は前記熱処理の温度よりも低いことを特徴とするものである。本発明の圧粉磁心及びその製造方法によれば、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能になる。また、絶縁性結着材にガラスのみならず軟磁性粉末よりも粒径の小さい磁性微粒子を添加することで、初透磁率（初期）を高めることができ、また初透磁率のみならず鉄損の熱安定性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】圧粉磁心の材料に用いた際、圧粉磁心の製造時或いは使用時に生じる欠陥を防止することができ、圧粉磁心の性能を長期に亘って維持できる複合軟磁性材料を提供する。
【解決手段】複合軟磁性材料は、軟磁性粉末と絶縁性結着材とを混合してなり、絶縁性結着材が、モル％でB₂O₃を30〜40％、P₂O₅が25〜40％、及び二種以上のアルカリ金属酸化物が合計で20〜35％含む組成からなる鉛フリーガラスである。前記した特定の組成からなるガラスは、熱膨張係数が軟磁性粉末のそれに近く、圧粉磁心の製造時或いは使用時に生じる欠陥を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの融着接合強度と耐摩耗性とを充分に確保しながら、作業環境および廃棄処理に問題のない無鉛系のガラス組成物を用いた磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一対の磁性コアがギャップ材を介して、ガラス３４，３５により融着接合されてなる磁気ヘッド３１において、フロント側３６で摺動面に現れるガラス３４として、規定磨耗試験による磨耗面積が７．３×１０^−６ｍｍ^２以下の無鉛ガラスを用い、バック側３７のガラス３５として、フロント側３６のガラス３４よりもガラス転移点が１５〜２５℃低い無鉛ガラスを用いて、一対の磁性コアを接合する。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高い低融点の無鉛ガラス組成物、及びこの無鉛ガラス組成物を用いた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＢｉ_２Ｏ_３：６０〜６９％、Ｂ_２Ｏ_３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ_２：２〜８％、Ｎａ_２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ_２Ｏ_３：１を超え３％以下、Ａｌ_２Ｏ_３：０．５〜８％、Ｆｅ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ：０〜１％、ＺｒＯ_２：０〜４％からなり、ＰｂＯなどの鉛系成分を含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。酸化物基準の質量％表示でＢｉ_２Ｏ_３：６０〜６９％、Ｂ_２Ｏ_３：１０〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、ＳｉＯ_２：２〜８％、Ｎａ_２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ_２Ｏ_３：１を超え３％以下、ＡｌＦ_３：０．５〜２％からなり、ＰｂＯなどの鉛系成分を含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。これらの無鉛ガラス組成物を用いて磁気ヘッドを構成する。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英（α−ＳｉＯ_２）、二珪酸リチウム（Ｌｉ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、モノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）からなる群より選ばれる１種または２種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は１μｍ以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が３００ＭＰａ以上であり、研磨加工後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が１０Å以下である。 （もっと読む）

【課題】 結晶化ガラス体の母材であるガラス成形体を安定して製造することができ、該ガラス成形体から、結晶化ガラス体、磁気ディスク基板ブランク、磁気ディスク基板および磁気ディスクを好適に作製することができる方法を提供する。
【解決手段】
中心軸が直線状の貫通孔を有する鋳型を、前記中心軸が垂直になるようにまたは水平に対して傾斜するように配置し、前記貫通孔内に熔融ガラスを流し込み、成形して、結晶化ガラス体の母材となる棒状のガラス成形体を得ることを特徴とするガラス成形体の製造方法であり、上記ガラス成形体を熱処理して結晶化ガラス体を製造する方法、上記ガラス成形体または結晶化ガラスをスライスして磁気ディスク基板ブランクを製造する方法、該磁気ディスク基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】充分な機械的強度があり、かつガラス基板上の金属磁性膜の腐食を改善する磁気ディスク基板用ガラスを提供する。
【解決手段】組成が質量％表示で実質的に、ＳｉＯ_２ ５０〜６５、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１５、Ｎａ_２Ｏ ２〜７、Ｋ_２Ｏ ４〜９、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜１４、ＭｇＯ ０．５〜５、ＣａＯ ２〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ ２．５〜１０、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １２〜２５、ＺｒＯ_２ １〜６、からなる磁気ディスク基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の表面の少なくとも一部分に結晶化層を積層している結晶化層積層ガラス、およびガラス基材の表面に積層された結晶化層の少なくとも一部分の厚みが他の部分とは異なっている結晶化層積層ガラス、および結晶化層積層ガラスを用いた磁気ディスク用ガラス基板、および端面部位の少なくとも一部に結晶化層を持つ磁気ディスク用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラスの母材となる出発原料と必要に応じて添加剤とを所定量電子天秤にて計量して混合して、るつぼで溶融し冷却してガラスとし、再加熱によりガラス表面に結晶化層を積層させて、主表面を部分的に研磨することにより結晶化層積層ガラスを製造する。これを用いて磁気ディスク用ガラス基板などとする。 （もっと読む）

本発明は一般式ａ_ｘｂ_ｙｇ_ｚを有する窒化ガラスに関し、式中、ａは少なくとも一種の陽性元素を含むガラス変性剤であり、ｂはＳｉ，Ｂ，Ｇｅ，Ｇａ及び／又はＡｌでありｇはＮ又はＯを伴うＮであり、Ｏ：Ｎの原子比は６５：３５〜０：１００である。また、本発明は窒化ガラスの製造方法及びそのガラスの用途に関する。結果は硬度、弾性率、破壊靱性、及びガラス転移温度の如き酸化ガラスの物理的及び機械的特性がネットワークの原子構造が酸素原子を窒素原子によって置き換えることによって強化されるときに改良／増加されることを明らかに示す。さらに、結果は極めて高い屈折率を達成できることを示す。 （もっと読む）

【課題】融着温度の低い無鉛ガラス組成物、及びこの無鉛ガラスを用いた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＢｉ_２ Ｏ_３ ：７０％を超え７８％以下、Ｂ_２ Ｏ_３ ：１３〜２０％、ＺｎＯ：５〜７％、Ｎａ_２ Ｏ：０〜５％、Ｋ_２ Ｏ：０〜２％、Ｐ_２Ｏ_５ ：０〜４％、ＴｅＯ_２ ：０〜４％、Ｓｂ_２ Ｏ_３ ：０〜２％、Ｌｉ_２Ｏ：０〜３％、ＳｉＯ_２：０〜６％を含有し、ＰｂＯを含まないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。この無鉛ガラスを用いて磁気ヘッドを構成する。 （もっと読む）

【課題】構造材料それ自体としてまたは接着材料として使用できかつ極低温かつＮＭＲ装置が有する磁場の大きさにおいてほぼゼロの磁気モーメントを有する、エポキシまたは類似のアモルファス組成物の磁化率特性を改変する。
【解決手段】ＮＭＲ装置の部品の製造に使用できる、所望の値の磁化率を示す組成物およびその製造方法であって、前記組成物は、Ｇｄ⁺³、Ｆｅ⁺³およびＭｎ⁺²からなる群から選択される金属イオンと、アモルファス材料とを含み、リガンドまたはキレート剤を用いて前記金属イオンをアモルファス材料に溶解させる。前記組成物の磁化率は、７７゜Ｋ以下においてほぼゼロの磁化率のように、極低温において所望の値を示す。 （もっと読む）