【課題】高純度な水素ガス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水素ガス製造用の反応器モジュールを提供する。該反応器モジュールは反応器を備え、この反応器はケーシング、該ケーシング内に少なくとも一つのパラジウム膜管および水蒸気リフォーミング触媒を備える。パラジウム膜管はガス流路の上流に位置する封じ込み端を有する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の有機化合物に不均一触媒使用気相部分酸化を触媒床上で受けさせる長時間稼働方法であって、ここでは、前記触媒床が示す失活に対抗する目的で、前記触媒床の稼働時間の間に気相中の作業圧力を高くして行く方法に関する。
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ＦＣＣライザー反応器の底部近くに配置されたフィードノズルアセンブリが複数のフィードノズルを備え、各フィードノズルはライザーの中心に向かって曲げられた吐出し端部を備える。この曲げられた吐出し端部により、炭化水素の供給原料と噴霧化ガスとの放出がライザーの中心部分で結合されることで、ライザー壁への供給原料の衝突を防ぎつつ所望の供給原料／触媒の接触状態が得られる。
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触媒リアクターシステムの補修法であって、内部に含有される触媒活性を温存しながら、少なくとも１個の有害物質を触媒リアクターシステムから削減することを含む補修法。触媒リアクターシステムの補修法であって、約３５０°Ｆ〜約５００°Ｆの温度で触媒リアクターシステムを酸化し、触媒リアクターシステムから少なくとも１個の有害物質を削減し、触媒リアクターシステムの完全再生酸化に要する時間を約５０％短縮することを含む補修法。触媒リアクターシステムの補修法であって、前記触媒リアクターシステムから少なくとも１個の有害物質を削減し、それによって、内部に含有される触媒の汚れ率が補修前後で実質的に同一になることを含む補修法。触媒リアクターシステム中の酸化処理を制御する方法であって、約３５０°Ｆ〜約５００°Ｆの温度で触媒リアクターシステムを酸化し、触媒リアクターシステム内の少なくとも１個の有害物質の削減を監視し、監視に対応して酸化を制御し、その結果、システム内部に含有される触媒の活性を温存し、少なくとも１個の有害物質を安全な曝露レベルまで酸化することを含む制御法。 （もっと読む）

【課題】熱交換領域及び／又は熱交換領域に設けられた充填材料のコークス化を減少させること。
【解決手段】流体を輸送するように接続された、少なくとも１種の固体触媒を含む反応領域と、少なくとも１つのハウジングを含み、ハウジングが少なくとも部分的にインサートを収容し、インサートが複数の部材を含む冷却可能な熱交換領域と、を少なくとも含む反応器、前記反応器を使用して炭化水素を酸化するための方法、前記方法によって得られる酸化炭化水素生成物、前記酸化炭化水素生成物からなる糸、シート、成形体等の化学製品、この種の化学製品における前記酸化炭化水素生成物の使用。 （もっと読む）

本発明は、粉末化基質を官能基化する方法に関する。本方法は以下のステップを含み、本方法は、ガスを、励起および／または不安定ガス種を形成させるための手段、典型的には大気圧プラズマもしくは同様のものの中へと通すこと、ならびに、該手段を離れていく際、実質的に電荷のない励起および／または不安定ガス種を該ガスが含むよう該ガスを処理することを含む。実質的に電荷のない該励起および／または不安定ガス種を含んでいる該ガスが次いで、励起および／または不安定ガスを形成させるための手段外部の下流領域中の粉末化基質および官能基化前駆体を処理するのに使用され、ここで、該粉末化基質も該官能基化前駆体も、ステップ（ｉ）および（ｉｉ）に付されておらず、該官能基化前駆体が、該粉末化基質の導入と同時もしくは引き続いて、導入される。好ましくは本方法は、流動化床において行われる。

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発熱反応の温度を制御する新規な方法を開示する。そのような方法は、とりわけ、フィッシャー・トロプシュ合成反応に適用することができ；そして、フィッシャー・トロプシュ反応器から気相生成物を除去する工程と、該気相生成物の少なくとも一部分を凝縮して、揮発可能な液体を形成する工程と、該揮発可能な液体の少なくとも一部分を該反応器の中に注入する工程とを包含し、しかも、該揮発可能な液体は、該反応器から除去される該気相生成物のうち最高沸点範囲にある炭化水素を含有する。 （もっと読む）

再燃焼または他の望ましくない下流側の副反応を減少させ、高温にて流動触媒床内で化学反応を実施するために用いることができる新規な反応器装置。一つの用途はアクリロニトリルの製造である。
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第１の流れ経路を形成するように適応された内部通路を有する通路と、第２の流れ経路を一括して形成する内部通路を有する導管のアレーを含む、熱交換器。この導管はこの通路の内部通路から延び、このアレーの第１の導管は、このアレーの第２の導管よりも少ない、単位容積当りの全熱交換表面積を有する。この第２の流れ経路内に触媒床を準備することと、この第２の流れ経路中の流体の最高温度とこの第２の流れ経路中のこの流体の最低温度の間の温度差を最小とすることとを含む、化学処理を行う方法が提供される。 （もっと読む）