【課題】ウラン及びトリウムの含有量が少なく、かつアルカリ金属及びアルカリ土類金属の含有量が少ない高純度のクリストバライト粒子、及びこのクリストバライト粒子を短時間で効率よく、しかも経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】表面の一部又は全面にアルミニウム、マグネシウム及びチタンから選ばれる金属及び／又はその酸化物が、金属換算で２００〜２，０００ｐｐｍ存在する高純度クリストバライト粒子。 （もっと読む）

【課題】 歯科材料に要求される光学的性質や機械的性質を兼ね備えた歯科用充填材並びにその製造方法、および該歯科用充填材を用いた歯科用複合材料に関する。
【解決手段】シリカ系微粒子の表面を、少なくともジルコニウム、ケイ素および酸素からなる複合酸化物で被覆してなる非晶質の無機酸化物微粒子群を含有する歯科用充填材並びにその製造方法、および該歯科用充填材とアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、ウレタン樹脂等から選ばれた硬化性樹脂とを含む歯科用複合材料。 （もっと読む）

アルカリ金属水酸化物を含む水溶液にヒュームド・シリカを溶解してアルカリ性ケイ酸塩溶液を製造し、イオン交換を介してアルカリ金属を除去してケイ酸溶液を製造し、ケイ酸溶液の温度、濃度及びｐＨを、核生成と粒子成長を始めるのに十分な値に調整し、そしてケイ酸溶液を、コロイダルシリカ分散体を製造するのに十分な速度で冷却することによるコロイダルシリカ分散体の製造方法。コロイダルシリカ分散体中のコロイダルシリカ粒子は、約２ｎｍから約１００ｎｍの平均粒子サイズを有する。また、基材と、本発明による複数のコロイダルシリカ粒子及びこれらの粒子を懸濁させるための媒体を含む組成物を接触させることによる、基材表面の化学機械研磨方法も供される。この接触は、基材を平坦化するために十分な温度と時間で行われる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、陰極にシリコンを用いた二酸化ケイ素の電解還元により、陰極由来の不純物の混入がないシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンを主とする材料から構成される陰極を用いて溶融塩中で電解還元するシリコンの製造方法であって、該陰極にケイ素酸化物を接触させシリコンを製造する。 （もっと読む）

【課題】吸着性能が優れ、しかも使用後の固液分離工程において濾材の目詰りを生じることのない、吸着材として好適な薄板状シリカ多孔体を安定した品質で、かつ効率よく提供する。
【解決手段】平均粒子径１０μｍ以下のケイ酸原料粉末と石灰原料粉末とを、それぞれＳｉＯ₂及びＣａＯに換算したときのモル比ＣａＯ／ＳｉＯ₂が１．０〜４．０になる割合で混合し、水又は水酸化アルカリ水溶液の中で水熱反応を行わせて、薄板状ケイ酸カルシウム含有スラリーを調製したのち、これに酸性物質を導入し、この中の酸化カルシウムを溶解除去し、薄板状シリカ多孔体を形成させるに当り、上記水熱反応を薄板状ケイ酸カルシウム種結晶の存在下で行う。 （もっと読む）

【課題】 光導波路構造や光ファイバーの新しい形成方法、既存の半導体電気回路形成技術を発展させる技術に有用な、空間制御性に優れかつ高温で熱処理する必要のない簡便な非晶質シリカの結晶化方法を提供する。
【解決手段】 非晶質シリカにイオンを添加した後、酸化性雰囲気中で非晶質シリカを熱処理して結晶化させる。 （もっと読む）

少なくとも１種の疎水化された二酸化ケイ素粉末、少なくとも１種の化粧品関連成分および少なくとも５０質量％の水（配合物の全量に対して）を含有する、粉末状の化粧品配合物、を含有する、粉末状化粧品配合物において、この場合、この配合物が、疎水化された二酸化ケイ素粉末が、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ７８７−１１にしたがって測定された、少なくとも７０ｇ／ｌのタップ密度を有することを特徴とする。 （もっと読む）