次の工程：
プラズマトロン（１）のチャンバ（２）中で高周波フィールドを製造する工程；
前記チャンバ（２）中へプラズマガスを導入する工程；
プラズマガスを用いて高周波フィールドによりプラズマを製造する工程；
及び
プラズマ中へ出発材料を導入する工程
を有する、変性された材料の製造方法である。
（もっと読む）

透明無定形炭素層が形成される。この透明無定形炭素層は吸収係数が小さく、そのためこの無定形炭素は、可視光範囲において透明である。透明無定形炭素層は、異なる目的のための半導体装置においても使用することができる。透明無定形炭素層は、半導体装置の最終構造に含まれてもよい。また、透明無定形炭素層は、半導体装置の製造中に、エッチング処理のマスクとして使用することもできる。
（もっと読む）

炭素ナノ構造体を製造する方法を提供する。蒸着マスクを備える基質上に、有機金属層を蒸着する。マスクを除去すると、有機金属前駆体のマスク上に蒸着した部分も除去される。有機金属層の残った部分を酸化し、炭素ナノ構造体の合成に用いることのできる金属成長触媒を基質上に得る。
（もっと読む）

【課題】 グラファイトが有する各種諸特性を維持した、配向性の高いグラファイト粉末、及びそれを温度プロセスのみで作製する製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリアミドなど芳香族高分子からなる繊維体を出発原料とし、所定の温度プロファイルに従って前記出発原料を所定雰囲気下で焼成する温度プロセスのみで形成する。具体的には、芳香族高分子繊維体を準備する工程と、前記繊維体を300℃〜1400℃の温度範囲から選ばれる所定の温度で予備焼成する工程と、再び常温から3000℃近傍の所定温度で本焼成する工程で作製する。 （もっと読む）

【課題】 グラファイトが有する各種諸特性を維持した配向性の高いグラファイト粉末、及びそれを温度プロセスのみで作製する製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリイミドなどのシート状の炭素系高分子を出発原料とし、所定の温度プロファイルに従って前記出発原料を所定雰囲気下で焼成する温度プロセスのみで形成する。具体的には、ポリイミド等の芳香族高分子のシートを準備する工程と、前記シートを１０００℃から１４００℃の温度範囲から選ばれる所定の温度で予備焼成する工程と、再び常温から温度上昇させて２５００℃以上の所定温度において本焼成する工程で作製する。 （もっと読む）

グラファイトロッド（１０１）の表面に光を照射するレーザー光源（１１１）と、光の照射によりグラファイトロッド（１０１）から蒸発した炭素蒸気をナノカーボンとして回収するナノカーボン回収チャンバ（１１９）と、を備えたナノカーボン製造装置において、グラファイトロッド（１０１）の表面と接する接触面を有し、接触面におけるグラファイトロッド（１０１）の表面との間に生じる摩擦力によりグラファイトロッド（１０１）を移動可能に保持する保持ローラ（１３１）と、を備え、保持ローラ（１３１）の接触面とグラファイトロッド（１０１）の表面の間に生じる摩擦力によりグラファイトロッド（１０１）を回転および移動させて、グラファイトロッド（１０１）の表面に照射される光の照射位置がグラファイトロッド（１０１）の表面のほぼ全域に亘るように、保持ローラ（１３１）を駆動させる。 （もっと読む）

カーボンナノファイバー系が、非常に高純度（９５％超）で、カーボン形態選択性を有し、特段に高い収量で合成される。粒径が１０ｎｍ以下で、表面積の大きな（５０ｍ^２／ｇ超）カスタムメードの触媒が、より高い形態選択性とより高い収量を提供する。この触媒粒子の反応性は、２４時間の反応後でも、収量が触媒１ｇ当たりカーボン２００ｇ／を超えるほどに維持される。生成物および達成収量にとって必須である触媒は、米国特許第６，１３２，６５３号に教示されるようなフレーム合成法により、指定された特定のパラメーター（粒度分布、組成、および結晶性）に合わせて調製される。
（もっと読む）

ナノカーボン製造装置（１８３）において、ナノカーボン回収チャンバー（１１９）の側面に噴霧器（１８１）を設け、噴霧器（１８１）からナノカーボン回収チャンバー（１１９）内全体にミスト（１９５）を噴霧する。 （もっと読む）

マイクロ波プラズマ化学蒸着により成長した単結晶ダイヤモンドは、５０〜９０ ＧＰａの硬さおよび１１〜２０ ＭＰａ ｍ^1/2の破壊靱性を有する。単結晶ダイヤモンドを成長させる方法は、ホルダーに種晶ダイヤモンドを入れ、単結晶ダイヤモンドが１１〜２０ ＭＰａ ｍ^1/2の破壊靱性を有するように約１０００℃から約１１００℃の温度で単結晶ダイヤモンドを成長させることを含む。
（もっと読む）

４．０ ＧＰａを超える圧で焼なましされ１５００度Ｃを超える温度に加熱されるマイクロ波プラズマ化学蒸着により成長した、１２０ ＧＰａより大きい硬さ(hardness)を有する単結晶ダイヤモンド。硬い単結晶ダイヤモンドを製造する方法は、単結晶ダイヤモンドを成長させ、１２０ ＧＰａを超える硬さを有するように４．０ ＧＰａを超える圧および１５００度Ｃを超える温度で単結晶ダイヤモンドを焼なましすることを含む。
（もっと読む）

【課題】固体高分子電解質型燃料電池の電極触媒材料として従来用いられている白金の使用量を著しく低減でき、又は白金に代えて使用できる、触媒活性が高く、且つ、安価な電極触媒材料を提供する。
【解決手段】下記の発明に係る：
（１）金属を含有する有機天然物を、酸素量を制限した雰囲気で熱処理することを特徴とする金属を含有する活性炭の製造方法、
（２）前記製造方法において、熱処理後、さらに含フッ素有機酸及び／又はその塩を活性炭に添着する製造方法、並びに
（３）前記（１）及び（２）の製造方法により製造された活性炭を用いた酸素還元電極及び調湿材料、
（４）前記（１）及び（２）の製造方法により製造された活性炭を含有する電極触媒層を備えた固体高分子電解質型燃料電池の酸素還元電極及びそれを備えた固体高分子型燃料電池。 （もっと読む）

【課題】炭素材料の優れた電気伝導度、熱伝導度、耐食性を有し、かつ、仕事関数が小さい大面積の表示装置用電子放出材料およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】電子放出領域として、表面から所定の領域に炭素以外のイオンを打ち込んだグラファイトシート１０１が基板１０２上に接着層１０３で固定され、前記グラファイトシートと絶縁層１０５と介して導電性ゲート層１０６が設けられ、グラファイトシート１０１に対向して蛍光体層１０９を配置した。この構成により、炭素材料の優れた特性を有し、仕事関数が小さい電子放出材料が得られ、高効率の電界放出素子、大面積表示装置が実現できる。 （もっと読む）

【課題】炭素含有燃料ガス及び酸素含有ガスの噴き出し速度を下げても逆火が起こらず、燃焼炉において安定してフラーレン類を製造可能なフラーレン類の製造用バーナー及びこれを用いたフラーレン類の製造方法を提供する。
【解決手段】反応炉内で、酸素含有ガスと炭素含有燃料ガスとを反応させてフラーレン類を製造するのに使用するフラーレン類の製造用バーナー１０であって、酸素含有ガスの噴出部１３、１４を備えた酸素含有ガスノズル体１５、１６と、炭素含有燃料ガスを噴出する噴出部１１を備えた燃料ガスノズル体１２とが別々にあって、しかも噴出部１３、１４から噴出される酸素含有ガスと、噴出部１１から噴出される炭素含有燃料ガスとが、反応炉内で実質的に交叉する。 （もっと読む）

本発明は、炭素原子の二重層（３）からなる円筒壁部を有するフラーレン炭素ナノチューブ並びにその製造および使用方法に関するものであり、さらに調節数の炭素層を有するナノチューブおよびその大規模量の製造方法、さらにたとえば発光ＣＲＴからなる低温フィールド電子放出装置のようなその使用方法に関するものである。 （もっと読む）