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Fターム[4G169CB80]の内容

Fターム[4G169CB80]に分類される特許

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【解決手段】 平均粒径が10μm〜10mmの金属珪素粒子を銅触媒の存在下にオルガノハライドと反応させてオルガノハロシランを製造する方法において、上記金属珪素粒子として、この金属珪素粒子及び粉砕してこの金属珪素粒子を得るための金属珪素原料の小塊をそれぞれ金属中酸素分析することにより得られた酸素濃度の差を表面酸素量とし、該表面酸素量が0.3重量%以下である金属珪素粒子を選択使用することを特徴とするオルガノハロシラン製造用金属珪素粒子の選定方法。
【効果】 本発明によれば、Rochow反応における活性な金属珪素粒子を提供することができ、これによって、反応速度、特に賦活期での反応速度と賦活期自体の短縮につながり、Rochow反応そのものの成績を向上することができる。また、これにより、ばらつきが大きい予備試験反応を行うことなく、金属珪素粒子の活性度そのものを予め定量的に予見できるものであり、Rochow反応用金属珪素粒子として最適なものが選定でき、工業的に重要であり、実に画期的なものである。 (もっと読む)


白金フリーのニートな銅含有触媒の存在下、ハロゲン化オレフィンと水素化有機ケイ素との反応を介してクロロプロピルシランが調製される。トリエチルシランなどの水素化有機ケイ素、塩化アリルなどのハロゲン化オレフィン、並びに酢酸銅、塩化銅、硫酸銅、水酸化銅、硝酸銅及びシアン化銅などの触媒を、該方法で用いることができる。 (もっと読む)


本発明は、二環系を包含する二座の場合によりN−含有P−配位子及びその合成法、これら化合物の遷移金属錯体及びその触媒としての使用に関する。
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本発明は、R1が、水素原子またはC1〜C4アルキルであり、少なくとも1個のsec−ホスフィンが、非置換もしくは置換環状ホスフィン基あるいは1個もしくは2個の一価のアニオンまたは二価のアニオンを有するそのホスホニウム塩である、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態で提供される、式(I)の化合物に関する。式(I)の化合物は、新規な方法により得ることができ、且つ不斉合成において触媒的に活性な金属錯体の有益な配位子である。
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【課題】本発明は、適当な基で架橋された一般的化学式が(I)または(II)のキラルジ−及びトリホスファイトに関する。
【解決手段】本発明の化合物は、不斉遷移金属触媒反応に及びキラル遷移金属触媒として使用される。 (もっと読む)


本発明は、NHC配位子の2つの窒素原子の1つにSiR’(OR’)3−nを有する基を含む、一般式(I)および(II)のN−ヘテロ環カルベン配位子を有する、固定化可能ルテニウム触媒に関する。本発明は、これらの触媒の、特にオレフィンメタセシスにおけるC−C結合反応の均一触媒としての使用にも関する。さらに、本発明は、N−へテロ環カルベン配位子を有する、類似の固定化ルテニウム触媒の製造のための、出発物質としての化合物の使用に関する。
【化1】

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