フェロセニル−１，２−ジホスフィン類、それらの製造および使用
本発明は、Ｒ1が、水素原子またはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィンが、非置換もしくは置換環状ホスフィン基あるいは１個もしくは２個の一価のアニオンまたは二価のアニオンを有するそのホスホニウム塩である、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態で提供される、式（Ｉ）の化合物に関する。式（Ｉ）の化合物は、新規な方法により得ることができ、且つ不斉合成において触媒的に活性な金属錯体の有益な配位子である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１個の環状ホスフィン基を有する１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィンフェロセン類、それらの製造方法；これらのジホスフィンフェロセン類を含む金属錯体；およびプロキラルな有機化合物とのエナンチオ選択的付加反応用の触媒としての金属錯体の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
キラルジホスフィン類は、特に、不飽和で、プロキラルな、有機化合物のエナンチオ選択的水素化に対する不斉触媒のための有用な配位子である。近年、環状ｓｅｃ−ホスフィノ基（例えば、ホスフェタンまたはホスホラン基）を有するジホスフィン類も、この目的で知られるようになっている。そこで、ＥＰ−Ｂ１−０５９２５５２号明細書およびM. J. Burk, Acc. of Chem. Res. Vol. 33, No. 6 (2000) 363-372頁には、例えば、ベンゼンまたはエタンおよび１，１’−フェロセニルジホスホラン類から誘導される１，２−ジホスホラン類、環状ブタンジオール硫酸エステルを経由するそれらの製造、およびエナンチオ選択的触媒用の金属錯体におけるそれらの使用が記載されている。所望のキラリティーを達成するために、ホスホラン基は、例えば、メチルまたはエチルでα，α’位が置換されている。１，１’−フェロセニルジホスホラン類の場合には、ホスホラン基は、各々、２個のシクロペンタジエニル環のうちの１個に結合している。U. Berensら、Angew. Chem. 112(11) 2057-2060頁(2000)には、メチルのようなα，α’置換基を有する１，１’−ジホスフェタニルフェロセン類が記載されている。１，１’−ジホスフェタニルフェロセン類は、また、ＷＯ９８／０２４４５号明細書中で言及されている。ホスホラン環がさらにアルコキシ基で置換されているベンゼン−１，２−ジホスホラン類は、ＥＰ−Ｂ１−０８８９０４８号明細書中で提案されている。
【０００３】
環状二級ホスフィン類を製造する最良の方法は、これまでに、一級ジホスフィン類と置換または非置換アルキレンスルファートとの反応であることが証明されている（M. J. Burk, J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 8518-8519頁）。一級ジホスフィン類の製造は、フェロセン系列、例えば、フェロセニル−１，２−ジホスフィン類において、全く記述されていない。少なくとも１個の環状ホスフィン基を有するフェロセニル−１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィン類は、合成的に困難であるが故に、未だに知られていない。
【０００４】
フェロセン−モノホスフィン類におけるホスフィン基に対してオルト位の不活性水素原子は、ホスフィン基がアミノおよび／またはオキシ置換基を含有する場合、有機リチウムまたはマグネシウム化合物により、位置選択的に、高収率で金属化することができることが、ここに驚くことに、見出された。式ＢＨ3のボランがさらにＰ原子に結合している場合に、反応は、特によく進行する。これらの金属化されたフェロセン−モノホスフェイン類は、工業的な規模においても、簡単な方法で、驚くほどの高収率で、少なくとも１個の環状ｓｅｃ−ホスフィン基を有するフェロセニル−１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィン類に変換することができる。
【０００５】
フェロセンにおいて、面性キラリティは、金属化において発生する。驚くことに、モノホスフィンフェロセン類のホスフィン基におけるＮまたはＯ原子が、特にＮまたはＯ原子に対してαまたはβ位にキラルな炭素原子を特に有するキラルな基をもつ場合に、金属化は、高度に立体選択的に進行することが見出された。このように、合成は、直接的にジアステレオマーを高い光学収率で与えるので、複雑な分離操作を回避することができる。フェロセニル−１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィン類を含む金属錯体は、高い化学的および光学収率での不斉水素化に、非常に好適である。
【０００６】
本発明は、第一に、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉ：
【化２０】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィン基は、非置換または置換の環状ホスフィノ基である）
の化合物を提供する。
【０００７】
アルキル基Ｒ1は、例えば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチルであることができる。Ｒ1は、好ましくは水素原子である。
【０００８】
非環状二級ホスフィノ基は、２個の同一のまたは２個の異なる炭化水素基を有することができる。ホスフィノ基は、好ましくは、２個の同一の炭化水素基を有する。炭化水素基は、非置換であるか、または置換されていることができ、１〜２２個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個の炭素原子を有することができる。好ましい非環状二級ホスフィノ基は、ホスフィノ基が、直鎖状または分枝状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル；非置換またはＣ1〜Ｃ6−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6−アルコキシ−置換のＣ5〜Ｃ12−シクロアルキルまたはＣ5〜Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニルまたはベンジル；ハロゲン（例えば、Ｆ、ＣｌまたはＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル（例えば、トリフルオロメチル）、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ（例えば、トリフルオロメトキシ）、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ、ｓｅｃ−アミノまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル（例えば、−ＣＯ2ＣＨ3）で置換されたフェニルまたはベンジルから選択される２個の同一または異なる基を有するものである。
【０００９】
好ましくは１〜６個の炭素原子を有する、Ｐ上のアルキル置換基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチルならびにペンチルおよびヘキシルの異性体が挙げられる。Ｐ上の非置換またはアルキル置換のシクロアルキル置換基の例としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシルおよびエチルシクロヘキシルならびにジメチルシクロヘキシルが挙げられる。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−およびハロアルコキシ−置換のフェニルおよびベンジル置換基の例としては、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニルおよび３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルが挙げられる。
【００１０】
好ましいホスフィノ基は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換のシクロペンチルまたはシクロヘキシルおよび、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基で置換されているシクロペンチルまたはシクロヘキシル、ベンジル、および特に、非置換であるか、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルまたはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシ置換基で置換されているフェニルよりなる群から選択される同一または異なる、好ましくは同一の基を有するものである。
【００１１】
ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは、式−ＰＲ2Ｒ3（式中、Ｒ2およびＲ3は、各々互いに独立に、１〜２０個の炭素原子を有し、非置換またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、ジ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルで置換されていてもよい炭化水素基である）に対応する。
【００１２】
Ｒ2およびＲ3は、好ましくは、直鎖状または分枝状のＣ1〜Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチルまたはシクロヘキシル、および１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基で置換されているシクロペンチルまたはシクロヘキシル、非置換ベンジルまたは、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシで置換されているベンジル、および特に、非置換であるか、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシで置換されているフェニルよりなる群から選択される同一または異なる、特には同一の基である。
【００１３】
Ｒ2およびＲ3は、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ならびに非置換フェニルまたは１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび／もしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルキル基で置換されているフェニルよりなる群から選択される同一または異なる、特には同一の基である。
【００１４】
環状ｓｅｃ−ホスフィノは、式II、IIａ、IIｂまたはIIｃに対応することができる。
【化２１】
（これらは、非置換であるか、あるいは１個以上の−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−ヒドロキシアルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシまたはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシ基で置換されている）。
【００１５】
キラルなα−炭素原子を導入するために、置換基は、Ｐ原子に対して、片方のまたは両方のα位に存在することができる。片方のまたは両方のα位の置換基は、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキルまたはベンジル、たとえば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、ヒドロキシメチル、１−もしくは２−ヒドロキシエチル、１−、２−もしくは３−ヒドロキシプロピル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである。
【００１６】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ベンジルオキシまたは−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2−Ｏ−であることができる。いくつかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（メチル）2−Ｏ−である。
【００１７】
置換基の種類および置換基の数に応じて、環状ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラルまたはＣ−およびＰ−キラルであることができる。
【００１８】
脂肪族の５員環もしくは６員環またはベンゼンは、式II〜IIｃの基中の２個の隣接する炭素原子上で縮環することができる。
【００１９】
環状ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは、式（可能なジアステレオマーの一つのみが示されている）に対応する。
【化２２】
（式中、Ｒ4およびＲ5は、各々、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ヒドロキシメチル、１−もしくは２−ヒドロキシエチル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ4およびＲ5は、同一または異なる。
【００２０】
好ましい態様において、式Ｉの化合物は、式IIIまたはIVに対応する。
【化２３】
［式中、Ｒ2およびＲ3は、好ましいものを含めて、上記の意味を有し、
Ｙは、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）−または式：
【化２４】
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、各々互いに独立に、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、基Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の少なくとも１個は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはベンジルであり、
Ｒ10は、ＨまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ11は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである）の基である］。
【００２１】
式IIIおよびIVの化合物の好ましい実施態様は、Ｒ6が、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9が、各々、Ｈであるか、あるいはＲ6およびＲ8が、各々、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ7およびＲ9が、各々、Ｈであるか、あるいはＲ6およびＲ7が、各々、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ8およびＲ9が、各々、Ｈであるものである。アルキルは、好ましくは、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピルである。
【００２２】
式Ｉの新規な化合物は、金属錯体形成用の配位子である。空気中での安定性および操作性に関して、化合物を、１個もしくは２個の一価のアニオンまたは１個の二価のアニオンを有するホスホニウム塩に変換することが有利である。錯体形成は、これにより悪影響を受けることはない。式Ｉの配位子が溶液中に存在する場合、保存および輸送に対して、塩をインサイチュで形成し、塩を単離しないことが有利である。しかしながら、塩形成は、また、使用の前、すなわち、金属錯体の形成前に直接、行うことができる。溶液中での塩形成は、例えば、ハロゲン化水素酸または硫酸等の鉱酸、好ましくはＨＣｌまたはＨＢｒを用いて行うことができる。結晶性で安定な、単離しうる塩を形成するのにより好都合である、ハロカルボン酸、ハロスルホン酸または複合酸を使用することも可能である。そのような酸のアニオンの例は、ＲａＣＯＯ-、ＲａＳＯ3-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-またはＢ（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）4-（ここで、Ｒａは、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ5〜Ｃ10−ハロシクロアルキルまたはＣ6〜Ｃ10−ハロアリールである）である。
【００２３】
ハロアルキル（例えば、Ｃ1〜Ｃ4−ハロアルキル）、ハロシクロアルキル（例えば、Ｃ5〜Ｃ6−ハロシクロアルキル）およびハロアリール（例えば、ハロフェニル）は、１個以上のハロゲン原子を有することができ、ペルハロゲン化された基であることができる。ハロゲンは、好ましくはＣｌであり、極めて特に好ましくはＦである。特に好ましいものは、ペルフルオロ化された基である。いくつかの例は、モノクロロメチル、ジクロロメチルおよびトリクロロメチル、１，１，１−トリクロロエチル、２，２−ジクロロエチル、１，２，２−トリクロロエチル、ペンタクロロエチル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチルおよびトリフルオロメチル、２，２−ジフルオロエチル、１，１，１−トリフルオロエチル、１，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチルならびにペンタフルオロフェニルである。
【００２４】
Ｒａは、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−ペルフルオロアルキルである。特に好ましいアニオンは、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-である。
【００２５】
本発明のフェロセン−ジホスフィン類は、Ｐ−Ｏ−および／またはＰ−Ｎ−結合とキラルまたはアキラルな基を有するフェロセニルモノホスフィン類の選択的なオルト金属化が反応手順中の重要な工程を表す新規な方法により製造することができる。その方法は、２個のＰ原子上に、異なる置換様式を創造するためのモジュールであり、高収率を与える。さらに、純粋なジアステレオマーまたは容易に分離された対のジアステレオマーの対は、簡単な方法で、高収率で直接製造することができる。その方法は、工業的規模で本発明のジホスフィン類を製造するために、特に有用である。
【００２６】
本発明は、さらに、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉ：
【００２７】
【化２５】
【００２８】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィノは、非置換または置換の環状ホスフィノ基である）
の化合物の製造方法であって、工程：
ａ）式Ｖ：
【００２９】
【化２６】
【００３０】
（式中、Ｘ1およびＸ2は、各々互いに独立に、ＯまたはＮであり、Ｃ−結合炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、ＯおよびＮ原子の空き結合に結合している）
の化合物を、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物または脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドと反応させて、式VI：
【００３１】
【化２７】
【００３２】
（式中、Ｍは、−Ｌｉまたは−ＭｇＸ3であり、Ｘ3は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成し、
ｂ）式VIの化合物を、少なくとも当量のハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィン、ハロゲン化ジアルコキシホスフィン、ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）、ハロゲン化ジアルコキシ−Ｐ（Ｏ）またはＰＣｌ3もしくはＰＢｒ3と反応させて、式VII：
【００３３】
【化２８】
【００３４】
（式中、Ｒ12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2、ジ（ｓｅｃ−アミノ）Ｐ−、ジアルコキシＰ−、ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）−、ジアルコキシＰ（Ｏ）−である）
の化合物を形成し、そして
ｂ１）存在する全てのボラン基を式VIIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式VIIIの化合物を形成するか、または
ｂ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、式VIIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式VIIIの化合物を形成するか、
【００３５】
【化２９】
【００３６】
あるいは、
ｃ）式VIの化合物を、ハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式IX：
【００３７】
【化３０】
【００３８】
の化合物を形成し、
ｃ１）存在する全てのボラン基を式IXの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式Ｘの化合物を形成するか、または
ｃ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式IXの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式Ｘ：
【００３９】
【化３１】
【００４０】
の化合物を形成するか、あるいは、
ｄ）式VIの化合物を、ハロゲン化剤と反応させて、式XI：
【００４１】
【化３２】
【００４２】
（式中、Ｘ4は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成する工程、
ｄ１）存在する全てのボラン基を式XIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式XIIの化合物を形成するか、または
ｄ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式XIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式XIIの化合物を形成し、
【００４３】
【化３３】
【００４４】
そして、
ｄ３）式XIIの化合物を金属化ｓｅｃ−リン化物と反応させて式Ｘの化合物を形成し、
ｅ）式VIIの化合物を少なくとも２当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと、そして式Ｘの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、片方もしくは両方のｓｅｃ−ホスフィノ基が環状ｓｅｃ−ホスフィノである式Ｉの化合物を製造するか、あるいは
ｆ）式XIIの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、片方もしくは両方のｓｅｃ−ホスフィノ基が環状ｓｅｃ−ホスフィノである式VIII：
【００４５】
【化３４】
【００４６】
（式中、ｓｅｃ−ホスフィノは、適当な場合には、ＢＨ3で保護されていてもよい環状ｓｅｃ−ホスフィノである）
の化合物を製造し、次いで、式XIIIの化合物を少なくとも１当量のアルキルリチウム、その後少なくとも１当量のハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式Ｉの化合物を形成する、製造方法を提供する。
【００４７】
工程ａ）における脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドは、２〜１８個、好ましくは２〜１２個、特に好ましくは２〜１０個の炭素原子を含有する二級アミンから誘導することができる。Ｎ原子に結合された脂肪族基は、アルキル、シクロアルキルもしくはシクロアルキルアルキルであるか、または４〜１２個、好ましくは５〜７個の炭素原子を有するＮ−ヘテロ環であることができる。Ｎ原子に結合された基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘキシルメチルである。Ｎ−ヘテロ環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよびアザノルボルナンである。好ましい実施態様において、アミド類は、式Ｌｉ−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2またはＸ3Ｍｇ−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2（ここで、アルキルは、特に、メチルである）に対応する。
【００４８】
式Ｖの化合物において、Ｘ1およびＸ2は、好ましくはＮである。
【００４９】
本発明の目的で、以下の炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、例えば、基Ｘ1およびＸ2に結合していることができる：
Ｘ1およびＸ2がＯである場合、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合しているか、または二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2に結合している：
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合している；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合しており、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、結合、メチレンまたはエチレンにより架橋されていることができる；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1に結合し、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合し、一価の基が、二価の（ヘテロ）炭化水素基に結合したメチレンまたはエチレンである；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合し、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合する；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1に結合し、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合する；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合する；
Ｘ1がＯであり、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1に結合し、且つＸ2がＮであり、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基または二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合する；
Ｘ1がＯであり、Ｘ2がＮであり、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2に結合し、且つ一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合する；
Ｘ1およびＸ2がＯである場合、二価の芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素基がＸ1およびＸ2に結合する；あるいは
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、二価の芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素基がＸ1およびＸ2に結合し、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合する。
【００５０】
炭素を介してＸ1およびＸ2に結合した炭化水素またはヘテロ炭化水素は、
ａ）２個の一価基が、Ｎ原子Ｘ1およびＸ2に結合している、飽和または不飽和の、直鎖状、分枝状または環状の一価の基；
ｂ）Ｘ1およびＸ2がＮである場合、Ｘ1および／またはＸ2に結合しており、４〜７員環を形成する、飽和、不飽和、直鎖状、分枝状および／または環式もしくは二環式の二価の基；あるいは
ｃ）Ｏ原子とＮ原子または２個のＮ原子との間で一重のまたは二重の架橋を形成し、且つ基−Ｘ1−Ｐ−Ｘ2−と一緒に５〜７員環を形成する、飽和、不飽和、直鎖状、分枝状および／または環式もしくは二環式の二価の基
であることができる。
【００５１】
ヘテロ炭化水素基は、Ｏ、ＳおよびＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）よりなる群から選択されるヘテロ原子を含有することができる。ヘテロ原子の数は、好ましくは、１〜４個、より好ましくは、１〜３個、特に好ましくは１個または２個である。炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは、１〜８個の炭素原子と、適当である場合には、ヘテロ原子を含有することができる。基は、一置換または多置換、好ましくは一置換〜三置換または一置換もしくは二置換であり、例えば、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルフェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシフェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオフェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオベンジルオキシ、ジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノフェニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノフェノキシ、シクロヘキシル、シクロペンチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルシクロヘキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルシクロペンチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシシクロヘキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシシクロペンチル、フッ素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、ジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである。基Ｘ1およびＸ2に対してαまたはβ位における置換は、その基が金属化およびその後の反応において光学誘起をもたらすキラルな原子を有する場合に、好ましい。いくつかの具体的な置換基は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フェニル、フェノキシ、メトキシフェニルおよびメトキシフェノキシである。
【００５２】
炭素を介してＸ1およびＸ2に結合する一価の炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、例えば、非置換または置換Ｃ1〜Ｃ18−、好ましくはＣ1〜Ｃ12−、特に好ましくはＣ1〜Ｃ8−（ヘテロ）アルキル；非置換または置換Ｃ2〜Ｃ18−、好ましくはＣ2〜Ｃ12−、特に好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）アルケニル；非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル、非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル、非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、非置換または置換Ｃ6〜Ｃ14−（ヘテロ）アリールおよびＣ6〜Ｃ14−（ヘテロ）アリール−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルであることができる。好ましいものは、飽和および芳香族炭化水素またはヘテロ炭化水素基である。
【００５３】
一価の炭化水素基は、直鎖状または分枝状のＣ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ8−アルキル、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキルか、Ｃ3〜Ｃ8−、好ましくはＣ4〜Ｃ6−シクロアルキルか、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル−、好ましくはＣ4〜Ｃ6−シクロアルキル−メチルまたは−エチルか、Ｃ6〜Ｃ14−、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリールか、Ｃ7〜Ｃ15−アラルキル、好ましくはＣ7〜Ｃ11−アラルキルであることができる。いくつかの具体的な例は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルエチル、フェニル、ナフチル、ベンジルおよびフェニルエチルである。キラル誘起が達成される必要があるときには、例えばフェロセンの場合、炭化水素基は、Ｘ1および／またはＸ2に対するαおよび／またはβ位において、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチルまたは−エチル、フェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシ、２−アニシル、ベンジルまたはベンジルオキシで置換されていることが好ましい。
【００５４】
一価の炭化水素基のいくつかの例は、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ7−シクロアルコキシ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ10−（ヘテロ）アリールオキシ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ7−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ10−ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである。いくつかの具体例は、メトキシエチル、エトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロヘキシルオキシエチル、フェノキシエチル、Ｎ−メチルモルホリニルメチルまたはＮ−メチルモルホリニルエチル、Ｎ−メチルピペリジニルメチルまたはＮ−メチルピペリジニルエチル、ピリジニルメチルまたはピリジニルエチルおよびピロリジニルメチルまたはピロリジニルエチルである。
【００５５】
Ｘ1およびＸ2が各々Ｎであり、Ｎ原子と一緒に４〜７員環を形成するＸ1およびＸ2に結合している二価の炭化水素基は、好ましくは、２〜８個、好ましくは２〜６個、より好ましくは２〜４個の炭素原子を有することができ、脂肪族または芳香族環が縮合していてもよい直鎖状または分枝状の非置換または置換アルキレンであることが好ましい。炭化水素鎖は、Ｏ原子および／または−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）で中断されていることができる。二価の炭化水素基の例は、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−である。二価の炭化水素基は、それらが結合している原子と一緒になって、ヘテロ環を形成する。キラル誘起が達成される必要があるときには、例えばフェロセンの場合、炭化水素基は、Ｘ1および／またはＸ2に対するαおよび／またはβ位において、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチルまたは−エチル、フェニル、２−アニシルまたはベンジルで置換されていることが好ましい。２個のＮ原子が２個の二価の基で架橋されているときには、これらの基は、環状ジアミン、例えば、ピペラジンから誘導される。
【００５６】
Ｘ1およびＸ2が各々Ｎであり、Ｘ1およびＸ2に結合している二価の炭化水素基は、好ましくは、１，２−または１，３−ジアミンから誘導され、アミノ基は、環の一部であることができる。その基は、直鎖状または分枝状の１，２−または１，３−Ｃ2〜Ｃ12−アルキレン、好ましくは１，２−または１，３−Ｃ2〜Ｃ8−アルキレン、特に好ましくは１，２−または１，３−Ｃ2〜Ｃ4−アルキレン、１，２−または１，３−Ｃ3〜Ｃ8−、好ましくは１，２−または１，３−Ｃ4〜Ｃ6−シクロアルキレン、１−Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル−、好ましくは１−Ｃ4〜Ｃ6−シクロアルキル−２−メチレンまたは−エチレン、Ｃ6〜Ｃ14−、好ましくは１，２−Ｃ6〜Ｃ10−アリーレンおよびＣ6〜Ｃ10−アラルク−１−イル−２−メチレンである。いくつかの具体例は、エチレン、ｎ−またはｉ−プロピレン、ｎ−またはｉ−ブチレン、シクロプロピル−１，２−エン、シクロブチル−１，２−エン、シクロペンチル−１，２−エン、シクロヘキシル−１，２−エン、シクロヘプチル−１，２−エン、シクロオクチル−１，２−エン、シクロブト−１−イル−２−メチレン、シクロペント−１−イル−２−メチレン、シクロヘクサ−１−イル−２−メチレン、シクロブト−１−イル−２−エチレン、シクロペント−１−イル−２−エチレン、シクロヘクサ−１−イル−２−エチレン、１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、フェン−１−イル−２−メチレンおよびフェン−１−イル−２−エチレンである。キラル誘起が達成される必要があるときには、例えばフェロセンの場合、炭化水素基は、Ｘ1および／またはＸ2に対するαおよび／またはβ位において、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチルまたは−エチル、フェニル、２−アニシルまたはベンジルで置換されていることが好ましい。
【００５７】
Ｘ1およびＸ2が各々Ｎである、Ｘ1およびＸ2に結合している二価の炭化水素基は、１，１’−ビフェニレン、１，１’−ビナフチレンおよび１，１’−ビスピリジンであることもできる。
【００５８】
式Ｖ中の好ましいホスフィノ基は、式：
【００５９】
【化３５】
【００６０】
（式中、Ｒ15およびＲ16は、同一または異なり、好ましくは同一であって、各々、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルであり、
Ｒ13およびＲ14は、同一または異なり、好ましくは同一であって、各々、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、フェニルまたはメチルフェニルであり、
Ｚは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2、フェニル、フェノキシ、メトキシフェニルまたはメトキシフェノキシである）
に相当する。
【００６１】
Ｚのいくつかの更なる例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオおよびジメチルアミノである。
【００６２】
芳香族の金属化は、公知の反応であり、例えば、M. Schlosser（編者）Organometallics in Synthesis, John Wiley & Sons (1994)またはJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)に記載されている。
【００６３】
本発明の目的のために、少なくとも当量との表現は、シクロペンタジエン環中の反応性＝ＣＨ−基あたり、１〜１．２当量のマグネシウムグリニャール化合物または脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドの使用を意味する。
【００６４】
反応は、低い温度、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行うことが有利である。反応時間は、約２〜５時間である。反応は、不活性保護性気体、例えば窒素または希ガス、例えばアルゴン下に行うことが有利である。
【００６５】
反応は、不活性溶媒の存在下に行うことが有利である。そのような溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の組み合わせとして用いることができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素ならびに鎖状または環状エーテルである。具体的な例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルまたはジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンである。
【００６６】
式Ｖの化合物は公知であるか、または公知の方法もしくは公知の方法に類似の方法で製造することができる。例えば、モノリチオ化フェロセンが、原料として使用され、式Ｘ5Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−のモノハロホスフィンと反応させる（ここで、Ｘ5は、好ましくはＣｌ またはＢｒであり、Ｘ1およびＸ2は、ＯまたはＮであり、炭化水素基は、Ｘ1−およびＸ2−の空き結合に結合している）。反応後、ボランＢＨ3は、その存在が望ましい場合、公知の方法で、例えば、反応混合物とＢＨ3・Ｓ（ＣＨ3）2等のボラン錯体とを反応させることにより導入することができる。式Ｘ5Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−のモノハロホスフィンは公知であるか、アルコール、ジオール、アミン、アミノアルコールまたはジアミンとの反応により、三塩化リンから、それ自体公知の方法で得ることができる。
【００６７】
プロセス工程ｂ）で使用されるハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィンおよびハロゲン化ジアルコキシホスフィンさらにまた、ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィン（Ｏ）およびハロゲン化ジアルコキシホスフィン（Ｏ）は、好ましくは、［（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ］2Ｐ−Ｘ5、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキルＯ）2Ｐ−Ｘ5、［（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ］2Ｐ（Ｏ）−Ｘ5、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｐ（Ｏ）−Ｘ5（ここで、Ｘ5は、Ｂｒ、好ましくはＣｌである）である。アルキルのいくつかの例は、メチル、エチルおよびプロピルであり、メチルが特に好ましい。ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィンおよびハロゲン化ジアルコキシホスフィンは、ボランにより保護することができる。反応条件は、プロセス工程ａ）に対する上記の条件に類似しているかまたは同様である。
【００６８】
プロセス工程ｂ１、ｂ２、ｃ１、ｃ２、ｄ１およびｄ２の反応は、それ自体公知である。最後の反応工程においてのみのボラン基の除去は、反応感応性基が保護されたままであるという長所をもたらす。
【００６９】
ボラン基は、例えば、試薬、例えばＣ1〜Ｃ4−アルキル基を有する二級アミン、モルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンを式IIIの溶解された化合物に加え、２０〜１００℃の温度で十分長く撹拌し、さらに有利には減圧下に揮発性成分を除去することにより、切断することができる。ボランの除去方法は、例えば、M. Ohffら、Synthesis (1998),1391頁に記載されている。
【００７０】
−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基の形成は、同様に公知であり、例えば、A. Longeauらにより、Tetrahedron: Asymmetry, 8 (1997) 987-990頁に記載されている。試薬としては、例えばエーテル中の、ＨＣｌまたはＨＢｒの有機溶液を使用することが有利であり、低温（例えば、−２０〜３０℃）で、ボラン基を有するか、有しない式VII、IXまたはXIの溶解された化合物に添加する。
【００７１】
−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基は、それ自体公知の方法で、例えば、ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、Ｌｉ（ＡｌＨ4）、ＮａＢＨ4等の金属水素化物を用いて水素化することができる。反応は、溶媒の存在下に、−８０℃〜５０℃の温度で行うことが有利である。得られた一級ホスフィンは、単離するか、直接さらに反応させることができる。
【００７２】
プロセス工程ｃ）におけるようなｓｅｃ−ホスフィンとの反応は、それ自体公知であり、実施例に記載されている。反応条件は、プロセス工程ａ）に対して上記された条件と類似または同様である。
【００７３】
プロセス工程ｄ）におけるような式VIの化合物とハロゲン化剤との反応は、同様に公知である。適切なハロゲン化剤は、例えば、Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2、ハロゲン間化合物、例えばＣｌＢｒ、ＢｒＩ、またはポリハロゲン化脂肪族炭化水素、例えばＣＦ3Ｂｒ、ヘキサクロロエタン、ＢｒＣＦ2−ＣＦ2Ｂｒまたは１，１，２，２−テトラブロモエタンである。反応温度は、−４０℃〜５０℃であることができる。適切な溶媒は、プロセス工程ａ）について上記されている。得られたハロゲン化化合物は、単離するか、直接さらに反応させることができる。
【００７４】
プロセス工程ｄ３）におけるような金属化ｓｅｃ−ホスフィドとの反応は、同様に公知である。好ましい金属はリチウムである。
【００７５】
プロセス工程ｆ）の反応はそれ自体公知であり、プロセス工程ｃ）と同様な方法で行うことができる。
【００７６】
一級ホスフィンと環状スルファートとの反応は、同様に、M. J. Burk, J. Amer. Chem. Soc., 1991, 113, 8518-9, M. J. Burk, Acc. Chem. Res., 2000, 33, 363-72およびU. Behrens, M. J. Burk, A. Gerlach, W. Hems, Angew. Chemie, int. Ed., 2000, 112, 2057-2060に記載されている。環状スルファートは公知であるか、類似の方法により製造することができる。反応は溶液中、例えば、エーテル中で行われる。当量の強塩基、例えばＬｉ ｓｅｃ−アミド、例えばリチウムジイソプロピルアミドの同時使用が有利である。開鎖ジスルホナートとの反応は、同様に公知であり、例えば、T. V. RajamBabuら、J. Amer. Chem. Soc., 2001, 123, 10207-10213頁に記載されている。スルホナートのいくつかの例は、開鎖ジオールのジ（フェニルスルホナート）、ジトシラート、ジメシラート、ジ（トリフルオロメチルスルホナート）である。
【００７７】
本発明のフェロセン−ジホスフィンの単離および精製は、公知の方法、例えば、析出および濾過または抽出により行うことができる。精製は、蒸留、再結晶により、またはクロマトグラフィー法により行うことができる。
【００７８】
本発明のフェロセン−ジホスフィンは、嵩高い環状ｓｅｃ−ホスフィノ基にもかかわらず、驚くほどの高収率で得られ、１種類のジアステレオマーがしばしば優先的に形成される。
【００７９】
本発明は、また、本発明のプロセスに含まれる式VII、IXおよびXIの中間体を提供する。
【００８０】
【化３６】
【００８１】
（式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1およびＸ4は、好ましいものを含めて、上記の意味を有する）。
【００８２】
本発明は、さらに、式VIII、ＸおよびXIIの化合物を提供する。
【００８３】
【化３７】
【００８４】
（式中、Ｒ’12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2または−ＰＨ2であり、Ｒ1およびＸ4は、好ましいものを含めて、上記の意味を有する）。
【００８５】
本発明は、また、式XIIIの化合物を提供する。
【００８６】
【化３８】
【００８７】
（式中、Ｒ1およびＸ4は、好ましいものを含めて、上記の意味を有し、ｓｅｃ−ホスフィノは、環状ｓｅｃ−ホスフィノである）。
【００８８】
式Ｉの新規化合物は、８族遷移金属よりなる群、特にＲｕ、ＲｈおよびＩｒよりなる群から選択される金属の錯体の配位子であり、それらは不斉合成、例えばプロキラルな不飽和有機化合物の不斉水素化用の優れた触媒または触媒前駆体である。プロキラルな不飽和有機化合物が使用される場合は、光学異性体の極めて高度な過剰を、有機化合物の合成において誘起することができ、高い化学変換率を短い反応時間で達成することができる。達成可能なエナンチオ選択性と触媒活性は際立っている。
【００８９】
本発明は、さらに、配位子として式Ｉの化合物を有する８族遷移金属よりなる群から選択される金属の錯体を提供する。
【００９０】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔである。好ましい金属は、ロジウムおよびイリジウム、そしてまた、ルテニウム、白金およびパラジウムである。
【００９１】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムである。
【００９２】
金属錯体は、金属原子の酸化数および配位数に依存して、さらに配位子および／またはアニオンを含有することができる。それらは、また、カチオン性金属錯体であることができる。そのような類似の金属錯体およびそれらの製造は、広く文献に記載されている。
【００９３】
金属錯体は、例えば、式XIVまたはXV：
【００９４】
【化３９】
【００９５】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｌは、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性一座配位子を表すか、またはＬ2は、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性二座配位子を表し；
Ｌが一座配位子である場合は、ｎは、２、３もしくは４であり、またはＬが一座配位子である場合は、ｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、ＩｒおよびＲｕよりなる群から選択される金属であって；０、１、２、３または４の酸化状態を有する金属であり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンであり；
アニオン配位子は、金属の酸化状態１、２、３または４の電荷と釣り合う）
に相当する。
【００９６】
上記の好ましいものおよび実施態様は、式Ｉの化合物に適用される。
【００９７】
非イオン性一座配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、アリル類（アリル、２−メタリル）、溶媒和する溶媒（ニトリル、鎖状または環状エーテル、アルキル化されていないか、またはＮ−アルキル化されたアミドおよびラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素および一酸化炭素よりなる群から選択することができる。
【００９８】
アニオン性一座配位子は、例えば、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン（シアニド、シアナート、イソシアナート）およびカルボン酸、スルホン酸およびホスホン酸のアニオン（カーボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）よりなる群から選択することができる。
【００９９】
非イオン性二座配位子は、例えば、鎖状または環状ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノニトリル）、アルキル化されていないか、またはＮ−アルキル化されたカルボキサミド、ジアミン類、ジホスフィン、ジオール、アセトニルアセトナート、ジカルボン酸ジエステルおよびジスルホン酸ジエステルよりなる群から選択することができる。
【０１００】
アニオン性二座配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸およびジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸およびメチレンジホスホン酸）のアニオン類よりなる群から選択することができる。
【０１０１】
好ましい金属錯体は、また、Ｅが−Ｃｌ-、−Ｂｒ-、−Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート、例えばＢ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-およびＢ（４−メチルフェニル）4-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-またはＳｂＦ6-であるものが挙げられる。
【０１０２】
ハロゲン化に特に適切である、非常に特に好ましい金属錯体は、式XIIIまたはXIV：
【０１０３】
【化４０】
【０１０４】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｍｅ2は、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィンまたはジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンである）
に相当する。
【０１０５】
上記の実施態様および好ましいものは、式Ｉの化合物に適用される。
【０１０６】
オレフィンＹは、Ｃ2−Ｃ12−、好ましくはＣ2−Ｃ6−および特に好ましくはＣ2−Ｃ4−オレフィンであることができる。例は、プロぺン、１−ブテンおよび特に、エチレンである。ジエンは、５〜１２個、好ましくは５〜８個の炭素原子を有することができ、開鎖状、環状または多環状ジエンであることができる。ジエンの２個のオレフィン基は、好ましくは、１個または２個のＣＨ2基である。例は、１，３−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−または１，５−ヘプタジエン、１，４−または１，５−シクロヘプタジエン、１，４−または１，５−オクタジエン、１，４−または１，５−シクロオクタジエンおよびノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは、２個のエチレンまたは１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンまたはノルボルナジエンを表す。
【０１０７】
式XVIにおいて、Ｚは好ましくはＣｌまたはＢｒである。Ｅ1の例は、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-またはＳｂＦ6-である。
【０１０８】
本発明の金属錯体は、文献で公知の方法により製造される（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１およびE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto（Eds.）、Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999およびその中に記載の参考文献）。
【０１０９】
本発明の金属錯体は、均一な触媒または触媒前駆体であって、プロキラルな不飽和有機化合物への不斉付加反応に使用することができる反応条件下で活性化することができる。
【０１１０】
金属錯体は、例えば、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子多重結合、特に二重結合を有するプロキラルな化合物の不斉水素化（水素の付加）に使用することができる。そのような可溶性で均一な金属錯体を用いる水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138 (1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを含有する。本発明によれば、ロジウムおよびイリジウムの錯体を水素化に使用することが好ましい。
【０１１１】
本発明の金属錯体は、また、炭素−炭素二重結合を有するプロキラルな有機化合物の不斉ヒドロホウ素化（水素化ホウ素の付加）用の触媒として使用することができる。そのようなヒドロホウ素化は、例えば、Tamio HayashiによりE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalyst I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,pp.351-364に記載されている。適切な水素化ホウ素は、例えば、カテコールボランである。キラルなホウ素化合物は、合成において使用することができ、および／または、キラルな中間体および活性な物質の製造用の有益な構造ブロックを表す他のキラルな有機化合物に、それ自体公知の方法で変換することができる。そのような反応の例は、ＤＥ１９８ ０７ ３３０明細書に記載のような）３−ヒドロキシテトラヒドロフランの製造である（。
【０１１２】
本発明の金属錯体は、また、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな有機化合物の不斉ヒドロシリル化（シランの付加）用の触媒として使用することができる。そのようなヒドロシリル化は、例えば、G. PiodaとA. TogliによりTetrahedron:Asymmetry, 1998, 9, 3093に、またはS. UemuraらによりChem. Commun. 1996, 847に記載されている。適切なシランは、例えば、トリクロロシランおよびジフェニルシランである。例えばＣ＝ＯおよびＣ＝Ｎ基のヒドロシリル化に対して、好ましいものは、ロジウムおよびイリジウムの錯体を用いることである。例えばＣ＝Ｃ基のヒドロシリル化に対して、好ましいものは、パラジウムの錯体を用いることである。キラルなシリル化合物は、合成において使用することができ、および／または、キラルな中間体および活性な物質の製造用の有益な構造ブロックを表す他のキラルな有機化合物に、それ自体公知の方法で変換することができる。そのような反応の例は、加水分解してアルコールを生成することである。
【０１１３】
本発明の金属錯体は、また、不斉アリル置換反応（炭素求核剤のアリル化合物への付加）用の触媒として使用することができる。そのようなアリル化は、例えば、A. Pfaltz とM. LautensによりE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalyst I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999, pp.833-884に記載されている。アリル化合物に対する適切な前駆体は、例えば、１，３−ジフェニル−３−アセトキシ−１−プロペンおよび３−アセトキシ−１−シクロヘキセンである。パラジウムの錯体をこの反応に使用することが好ましい。キラルなアリル化合物は、キラルな中間体および活性な物質の製造用の合成に使用することができる。
【０１１４】
本発明の金属錯体は、また、不斉アミノ化（アミンのアリル化合物への付加）用または不斉Ｈｅｃｋ反応における触媒として使用することができる。そのようなアミノ化は、例えば、A. PfaltzとM. LautensによりE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalyst I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,pp.833-884に記載されており、Ｈｅｃｋ反応はO. LoiseleurらによりJournal of Organometallic Chemistry 576 (1999), pp.16-22に記載されている。適切なアミンは、アンモニアならびに一級および二級アミンである。アリル化合物のアミノ化に対してパラジウムの錯体を使用することが好ましい。キラルなアミンは、キラルな中間体および活性な物質の製造用の合成に使用することができる。
【０１１５】
本発明は、さらに、プロキラルな有機化合物中の炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素またはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物の製造用の均一触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１１６】
本発明のさらなる態様は、触媒存在下のプロキラルな有機化合物中の炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素またはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物の製造方法であって、付加反応を、触媒量の本発明の金属錯体の少なくとも１種の存在下に行うことを特徴とする製造方法である。
【０１１７】
好ましい水素化されるプロキラルな不飽和化合物は、開鎖または環状有機化合物中に１個以上の、同一または異なるＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基を含有することができ、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基は環系の一部であることができるか、環外の基である。プロキラルな不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケンならびに開鎖または環状ケトン、ケチミンおよびケトヒドラゾンであることができる。それらは、例えば、式Ｘに相当する。
【０１１８】
【化４１】
【０１１９】
［式中、Ｒ07およびＲ08は、化合物がプロキラルであるように選択され、各々互いに独立に、１〜３０個、好ましくは１〜２０個の炭素原子を有する、開鎖または環状炭化水素基であるか、またはＯ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するヘテロ炭化水素基であり；
Ｄは、Ｏまたは式Ｃ＝Ｒ09Ｒ010またはＮＲ011の基であり；
Ｒ09およびＲ010は、独立に、Ｒ07およびＲ08の意味の一つを有し；
Ｒ011は、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、Ｃ5〜Ｃ13−ヘテロアリール、Ｃ7〜Ｃ16−アラルキルまたはＣ6〜Ｃ14−ヘテロアラルキルであり；
Ｒ07とＲ08はそれらが結合している炭素原子と一緒に、３〜１２個の環原子を有する炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成し；
Ｒ07とＲ08は、各々の場合に、それらが結合しているＣ＝Ｃ基と一緒に、３〜１２個の環原子を有する炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成し；
Ｒ07とＲ011は、各々の場合に、それらが結合しているＣ＝Ｎ基と一緒に、３〜１２個の環原子を有する炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成し；
ヘテロ環中のヘテロ原子は、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択され；
Ｒ07、Ｒ08、Ｒ09、Ｒ010およびＲ011は、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、シクロヘキシル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ7〜Ｃ12−アラルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−Ｃ7〜Ｃ12−アラルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ7〜Ｃ12−アラルキル、−ＯＨ、＝Ｏ、−ＣＯ−ＯＲ012、−ＣＯ−ＮＲ013Ｒ014もしくは−ＮＲ013Ｒ014（ここで、Ｒ012は、Ｈ、アルカリ金属、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはベンジルであり、Ｒ013およびＲ014は、各々互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはベンジルであるか、Ｒ013およびＲ014は一緒に、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンチレンを形成する）で置換される］。
【０１２０】
置換基についての例と好ましいものは上記されている。
【０１２１】
Ｒ07およびＲ08は、例えば、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ12−アルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ1〜Ｃ20−ヘテロアルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ12−ヘテロアルキル、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ−結合Ｃ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−ヘテロシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリール、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ5〜Ｃ13−ヘテロアリール、好ましくはＣ5〜Ｃ9−ヘテロアリール、Ｃ7〜Ｃ15−アラルキル、好ましくはＣ7〜Ｃ11−アラルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ6〜Ｃ12−ヘテロアラルキル、好ましくはＣ6〜Ｃ10−ヘテロアラルキルであることができる。
【０１２２】
Ｒ07とＲ08、Ｒ07とＲ09またはＲ07とＲ011が、各々の場合に、それらが結合している基と一緒に、炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成する場合、環は、好ましくは、４〜８個の環原子を有する。ヘテロ炭化水素環は、例えば、１〜３個、好ましくは１個または２個のヘテロ原子を含有する。
【０１２３】
Ｒ011は、好ましくは、水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ10−ヘテロシクロアルキル、Ｃ4〜Ｃ10−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ5〜Ｃ9−ヘテロアリール、Ｃ7〜Ｃ12−アラルキルまたはＣ5〜Ｃ13−ヘテロアラルキルである。
【０１２４】
不飽和有機化合物のいくつかの例は、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応する非置換またはＮ−置換アセトフェノンベンジルイミン、非置換または置換ベンゾシクロヘキサノンまたはベンゾシクロペンタノンおよび対応するイミン、非置換または置換テトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジンおよびジヒドロピロールよりなる群からのイミン、ならびに不飽和カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボキサミドおよびカルボン酸塩、例えばα−および可能なβ−置換アクリル酸またはクロトン酸である。好ましいカルボン酸は、式：
【０１２５】
【化４２】
【０１２６】
［式中、Ｒ012は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、または１〜４個のＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基もしくは非置換Ｃ6〜Ｃ10−アリール、好ましくはフェニルで置換されたＣ3〜Ｃ8−シクロアルキル、あるいは、１〜４個のＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基で置換されたＣ6〜Ｃ10−アリール、好ましくはフェニルであり、Ｒ013は、直鎖状または分枝状のＣ1〜Ｃ6−アルキル（例えばイソプロピル）、非置換シクロペンチル、シクロヘキシルもしくはフェニルまたは上記のように置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルもしくはフェニルまたは保護されたアミノ（例えばアセチルアミノ）である］の酸、ならびにその塩、エステルおよびアミドである。
【０１２７】
本発明の方法は、低温または高温、例えば、−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃で行うことができる。光学収率は、一般に、高温よりも低温のほうが、良好である。
【０１２８】
本発明の方法は、大気圧または大気圧を超えた圧力で行うことができる。圧力は、例えば、１０5〜２´１０7Ｐａ（パスカル）である。水素化は、大気圧または大気圧を超えた圧力で行うことができる。より良好な選択性は、しばしば、大気圧で観察される。
【０１２９】
触媒は、水素化される化合物に対して、好ましくは、０．０００１〜１０モル％、特に好ましくは、０．００１〜１０モル％、特には、０．０１〜５モル％の量で使用される。
【０１３０】
配位子および触媒の調製ならびにまた付加反応は、無溶媒であるいは不活性溶媒の存在下に行うことができ、単一溶媒または溶媒混合物を使用することができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンおよびテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステルおよびラクトン（酢酸エチルまたはメチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換ラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環状尿素（ジメチルイミダゾリン）ならびにスルホキシドおよびスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）ならびにアルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル）および水である。溶媒は、単独で、あるいは少なくとも２種の溶媒の混合物として使用することができる。
【０１３１】
反応は、助触媒、例えば、ハロゲン化四級アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下に、および／またはプロトン酸、例えば、無機酸の存在下に行うことができる（例えば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４およびＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１ならびにＥＰ−Ａ−０６９１９４９の各明細書参照）。助触媒は、特に水素化に対して有用である。
【０１３２】
触媒として使用される金属錯体は、別個に調製された単離化合物として添加することができ、あるいは、別法として、反応に先立ってインサイチュで形成し、次いで水素化する基質と混合することができる。配位子は、単離金属錯体を用いる場合には、反応中に追加的に添加すること、あるいはインサイチュで調製する場合には、過剰量の配位子を使用することが好都合である。過剰量とは、調製に使用される金属化合物に対して、例えば、１〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
【０１３３】
本発明の方法は、一般的には、最初に触媒を入れ、次いで、基質、適当ならば、反応助剤および添加すべき化合物を加え、続いて、反応を開始させることにより行われる。添加すべき気体状の化合物、例えば水素またはアンモニアは、加圧下に導入することが好都合である。方法は、様々な種類の反応器中で、連続的に、あるいはバッチ式に行うことができる。
【０１３４】
本発明に従って製造することができるキラルな有機化合物は、特に医薬および農薬の製造分野における活性物質またはそのような物質の製造用の中間体である。
【０１３５】
以下の実施例は、本発明を説明する
【０１３６】
Ａ）ハロホスフィンの調製
全ての反応は、乾燥溶媒中、不活性気体下に行われる。
【０１３７】
実施例Ａ１：下記化合物の調製
【０１３８】
【化４３】
【０１３９】
アルゴンを導入している５００mlの丸底フラスコ中で、ＰＣｌ3（７．３８ｇ，５３．７５mmol）を、アルゴン下に乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、１５０ml）に溶解し、溶液を氷浴中で０℃に冷却した。トリエチルアミン（１１．９７ｇ、１１８．２５mmol、２．２０当量）を滴下し、次いで、（Ｓ）−メトキシメチルピロリジン（１２．６９ｇ、１１０．１９mmol、２．０５当量）を徐々に滴下した。滴下中に、白色析出物の生成が観察された。氷浴を取り去り、得られた懸濁液を室温で一晩（１４ｈ）撹拌した。生成した白色析出物を、両端が相似のフリットフィルターを用いて濾去し、乾燥ＴＨＦ（２×２５ml）で洗浄した。得られた黄色がかった濾液の31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）スペクトルを記録した。このようにして得られた溶液を、さらに精製することなく反応させた。
【０１４０】
【表１】
【０１４１】
実施例Ａ２：下記化合物の調製
【０１４２】
【化４４】
【０１４３】
実施例Ａ１の方法を、（Ｒ）−メトキシメチルピロリジンを用いて繰り返した。
【０１４４】
Ｂ）芳香族モノホスフィンの調製
【０１４５】
実施例Ｂ１：下記化合物の調製
【０１４６】
【化４５】
【０１４７】
アルゴンを導入している１ｌ丸底フラスコ中で、フェロセン（１０．００ｇ、５３．７５mmol）およびカリウムｔ−ブトキシド（７５４mg、６．７２mmol、０．１２５当量）をアルゴン下に乾燥ＴＨＦ（１００ml）に溶解した。溶液を−７８℃に冷却し、ｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５Ｍ；７１．６７ml、１０７．５０mmol、２．００当量）を４５分かけて滴下した。溶液を−７８℃で１．５時間撹拌し、ｎ−ヘプタン（７５ml）と混合した。得られた析出物を沈殿させ、上澄み液をアルゴン圧下にカニューレを用いて−７８℃で除去した。析出物を−７８℃でｎ−ヘプタン（６０ml）で洗浄し、洗液をもう一度、アルゴン圧下にカニューレを用いて除去した。この手順を３回繰り返した。得られた析出物を乾燥ＴＨＦ（５０ml）に溶解し、ＴＨＦ（２００ml）中の溶液Ａ１（５３．７５ml、１．００当量）を−７８℃で１．５時間かけて滴下した。室温まで暖めながら、溶液を一晩（１４ｈ）撹拌した。引き続き、ボラン−硫化ジメチル錯体（５．１０ml、５３．７５mmol、１．００当量）を滴下し、混合物を室温で一晩撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）で加水分解し、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）（３´１００ml）で抽出した。合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。粗生成物（２４．１８ｇ）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ５：１）で精製した。標題化合物（１７．２３ｇ、理論値の７０％）が橙色固体として得られた。
【０１４８】
【表２】
【０１４９】
実施例Ｂ２：下記化合物の調製
【０１５０】
【化４６】
【０１５１】
実施例Ｂ１の方法を、化合物Ａ１の代わりにＡ２を用いて繰り返した。
【０１５２】
実施例Ｂ３：下記化合物の調製
【０１５３】
【化４７】
【０１５４】
ヘキサン中の１．６モル濃度のｎ−ブチルリチウム溶液１７．９mmolを、−７８℃でＴＨＦ１５ml中のブロモフェロセン４．５３ｇ（１７．１mmol）の溶液に徐々に加え、混合物をこの温度で１０分間撹拌した。次いで、温度を０〜５℃に上げ（氷冷）、ＴＨＦ７８ml中の実施例Ａ２の化合物１８．８mmolの溶液を滴下し、混合物を室温で一晩撹拌した。引き続き、溶媒を取り除き、粗生成物をショートカラム（Flukaからのシリカゲル６０、溶離液：ＴＢＭＥ）で精製した。着色画分をロータリーエバポレーターで蒸留して、橙色のほぼ固体の油状物を得た。
【０１５５】
【表３】
【０１５６】
Ｃ）一級フェロセン−ホスフィンの調製
実施例Ｃ１：フェロセン−１，２−ジホスフィンの調製
【０１５７】
【化４８】
【０１５８】
ａ）下記化合物の調製
【０１５９】
【化４９】
【０１６０】
アルゴンを導入している５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ２の化合物（１．００ｇ、２．１８mmol）をｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）（５．００ml）およびｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解し、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これにより、原料が黄色固体として析出した。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下した。この滴下の間に、黄色固体は徐々に溶液になり、溶液は橙赤色となり、約３０分後、橙色固体が析出した。−３０℃で２時間撹拌した後、ＣＩＰ（Ｎｅｔｈｙｌ2）2（５５１mg、２．６２ml、１．２当量）を加え、冷却浴を取り去り、懸濁液を室温まで暖めながら、２時間撹拌した。引き続き、ＢＨ3・ＳＭｅ2（０．２５ml、２．６２mmol、１．２当量）を滴下し、懸濁液を室温で一晩（１４ｈ）撹拌した。反応混合物を飽和ＮａＣｌ溶液（５０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（５０ml）を加え、橙色相を分離し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒をロータリーエバポレーターで留去し、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ５：１）で精製した。フェロセニル化合物（１．１０ｇ、１．７１mmol、７８％）が橙色固体の形態で得られた。
【０１６１】
【表４】
【０１６２】
ｂ）下記化合物の調製
【０１６３】
【化５０】
【０１６４】
ボラン基を除去するために、ａ）に記載したように調製された化合物１．００ｇ（１．８７mmol）をジエチルアミン５mlに入れ、５０℃で一晩撹拌した。引き続き、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。得られた残渣をジエチルアミン（毎回２．００ml）中に３回入れ、５０℃で３０分間撹拌し、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した（３０分間）。残渣を乾燥ＴＢＭＥ（２ml）中に２回入れ、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。保護を除去した生成物が残り、精製せずに、さらに工程ｃ）で使用した。
【０１６５】
【表５】
【０１６６】
ｃ）下記化合物の調製
【０１６７】
【化５１】
【０１６８】
ｂ）に記載したように調製された反応生成物をＴＢＭＥ５mlに溶解し、０℃で、ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｎ）８mmolを撹拌しながら滴下した。引き続き、反応溶液を、デカンテーションによりアンモニウム化合物中の析出物から分離し、揮発性成分をロータリーエバポレーターでアルゴン下に除去した。残渣を工程ｄ）で直接使用した。
【０１６９】
【表６】
【０１７０】
ｄ）標題化合物の調製
水素化リチウムアルミニウム０．４３ｇ（１１．２０mmol）をアルゴン下に無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０ml中に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｃ）に記載したように調製された粗生成物を無水ＴＨＦ５mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウムの冷却懸濁液に滴下した。反応混合物をこの温度で３０分間、次いで、２０℃で３０分間撹拌した。２Ｎ ＮａＯＨ３．８mlを懸濁液に滴下し、上澄み液を濾去し、エバポレートして標題化合物を単離した。
【０１７１】
【表７】
【０１７２】
実施例Ｃ２：下記化合物の調製
【０１７３】
【化５２】
【０１７４】
ａ）下記化合物の調製
【０１７５】
【化５３】
【０１７６】
ｓ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３モル濃度）９．５mmolを、−４０℃で、６０mlのヘキサン／ＴＢＭＥ１：１中の実施例Ｂ２の化合物４．０５ｇ（８．８０mmol）の溶液に滴下した。反応混合物を、さらに、この温度で２時間撹拌した。引き続き、クロロジフェニルホスフィン９．４３mmolを、得られた橙色懸濁液に加えた。次いで、反応混合物を、撹拌しながら徐々に室温まで暖めた。２時間一晩撹拌した後、混合物を水／塩化メチレンで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧下に留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液＝ヘキサン／ＴＢＭＥ６：１）で精製して、所望の生成物を橙色結晶性物質として、収率８５％で得た。
【０１７７】
【表８】
【０１７８】
ｂ）下記化合物の調製
【０１７９】
【化５４】
【０１８０】
ボラン基を除去するために、ａ）に記載したように調製された化合物４００mg（０．６２mmol）をジエチルアミン５mlに入れ、５０℃で一晩撹拌した。引き続き、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。得られた残渣をジエチルアミン（毎回２．００ml）中に３回入れ、５０℃で３０分間撹拌し、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した（３０分間）。残渣をＴＢＭＥ（２ml）中に２回入れ、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。ＢＨ3を含まない生成物が残り、精製せずに、さらに工程ｃ）で使用した。
【０１８１】
【表９】
【０１８２】
ｃ）下記化合物の調製
【０１８３】
【化５５】
【０１８４】
ｂ）に記載したように調製された反応生成物をＴＢＭＥ５mlに溶解し、０℃で、ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｎ）２．６mmolを撹拌しながら滴下した。引き続き、反応溶液を、デカンテーションにより析出したアンモニウム化合物から分離し、揮発性成分をロータリーエバポレーターでアルゴン下に除去した。残渣を工程ｄ）で直接使用した。
【０１８５】
【表１０】
【０１８６】
ｄ）標題化合物Ｃ２の調製
水素化リチウムアルミニウム２mmolをアルゴン下に無水ＴＨＦ３ml中に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｃ）に記載したように調製された粗生成物を無水ＴＨＦ３mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウムの冷却懸濁液に滴下した。反応混合物をこの温度で３０分間、次いで、２０℃で３０分間撹拌した。２Ｎ ＮａＯＨ０．８mlを懸濁液に滴下し、上澄み液を濾去し、エバポレートして標題化合物を単離した。
【０１８７】
【表１１】
【０１８８】
ｄ２）標題化合物Ｃ２’の調製
実施例Ｃ２の手順を、工程ａ）中のＢ２の代わりに化合物Ｂ１を用いて、繰り返した。
【０１８９】
実施例Ｃ３：下記化合物の調製
【０１９０】
【化５６】
【０１９１】
ａ）下記化合物の調製
【０１９２】
【化５７】
【０１９３】
ｓ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３モル濃度）９．４３mmolを、−４０℃で、６０mlのヘキサン／ＴＢＭＥ１：１中の実施例Ｂ１の化合物４ｇ（８．７０mmol）の溶液に滴下した。反応混合物を、さらに、この温度で２時間撹拌した。引き続き、塩化ビス（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）ホスフィン９．４３mmolを、得られた橙色懸濁液に加えた。次いで、反応混合物を、撹拌しながら徐々に室温まで暖めた。２時間撹拌した後、混合物を水／ＴＢＭＥで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧下に留去した。カラムクロマトグラフィーで精製して、所望の生成物を黄色結晶性物質として、収率７４％で得た。
【０１９４】
【表１２】
【０１９５】
ｂ）下記化合物の調製
【０１９６】
【化５８】
【０１９７】
ＨＣｌ（ジエチルエーテル溶液）１８．５mmolを、０℃で、ＴＨＦ２０ml中の化合物ａ）２．３４ｇ（３．０８mmol）の溶液に徐々に滴下した。次いで、冷却を取り除き、混合物をさらに２時間撹拌した。試料の31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１ＭＨｚ）スペクトルは、以下のシグナルを示した：１６５（ＰＣｌ2）、１６（ブロード、Ｐ（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）2−ボラン付加体。混合物を短時間反応させると、いくらかの遊離のＰ（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）2を、−２８ｐｐｍの領域で、観察することもできた。
【０１９８】
ｃ）標題化合物Ｃ３の調製
工程ｂ）に記載したように得られたジクロロホスフィンを、精製せずに、さらに反応させた。０℃に冷却後、水素化リチウムアルミニウム３０mmolをその都度少しずつ、ゆっくりと加えた。室温で２時間撹拌後、混合物を０℃に冷却し、水１０mlを徐々に滴下した。硫酸ナトリウムを得られた灰色懸濁液に加えた。有機相が分離した。これを分離し、混合物をヘプタンで何回も洗浄した。有機相を合わせて、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去した後、粗生成物をＴＢＭＥに溶解し、何時間も５０℃でジエタノールアミンの存在下に撹拌し、ボランを除去した。続いて、ＴＢＭＥを、水、１Ｎ ＨＣｌそして再び水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、最後に減圧下で留去した。所望の生成物が赤色油状物として良い収率で得られ、精製することなく、さらに使用した。
【０１９９】
【表１３】
【０２００】
実施例Ｃ４：下記化合物の調製
【０２０１】
【化５９】
【０２０２】
ａ）調製
ｓ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３モル濃度）９．４３mmolを、−４０℃で、６０mlのヘキサン／ＴＢＭＥ１：１中の実施例Ｂ１の化合物４ｇ（８．７０mmol）の溶液に滴下した。反応混合物を、さらに、この温度で２時間撹拌した。引き続き、塩化ジフリルホスフィン９．４３mmolを、得られた橙色懸濁液に加えた。次いで、反応混合物を、撹拌しながら徐々に室温まで暖めた。２時間撹拌した後、混合物を水／ジクロロメタンで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧下に留去した。固体粗生成物をメタノールから再結晶により精製した。生成物を黄色結晶性物質として、収率７２％で得た。
【０２０３】
【表１４】
【０２０４】
ｂ）下記化合物の調製
【０２０５】
【化６０】
【０２０６】
ＨＣｌ（ジエチルエーテル溶液）１８．５mmolを、０℃で、３０分かけて、ＴＨＦ２０ml中の化合物ａ）２．０ｇ（３．２２mmol）の溶液に徐々に滴下した。次いで、冷却を取り除き、混合物をさらに２時間撹拌した。薄く着色した析出物および赤色油状物が赤色溶液中で生成した。析出物を濾去した後、反応混合物をＮＭＲを用いて測定した。
【０２０７】
【表１５】
【０２０８】
ｃ）標題化合物の調製
工程ｂ）に記載したように得られたジクロロホスフィンを、精製せずに、さらに反応させた。０℃に冷却後、水素化リチウムアルミニウム３２mmolをその都度少しずつ、ゆっくりと加えた。室温で３時間撹拌後、混合物を０℃に冷却し、水１０mlを徐々に滴下した。硫酸ナトリウムを得られた灰色懸濁液に加えた。有機相が分離した。これを分離し、混合物を何回かヘプタンで洗浄した。有機相を合わせ、０．５モル濃度のメタンスルホン酸、続いて水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去した。所望の生成物が橙色油状物として良い収率で得られ、精製することなく、さらに使用した。
【０２０９】
【表１６】
【０２１０】
実施例Ｃ５：下記化合物の調製
【０２１１】
【化６１】
【０２１２】
ａ）下記化合物の調製
【０２１３】
【化６２】
【０２１４】
アルゴンを導入している５０ml丸底フラスコ中で、化合物Ｂ２（１．００ｇ、２．１８mmol）を乾燥ＴＢＭＥ（５．００ml）およびｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解し、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これにより、原料が黄色固体として析出した。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下した。この滴下の間に、黄色固体は徐々に溶液になり、溶液は橙赤色となり、約３０分後、橙色固体が析出した。
【０２１５】
−３０℃で２時間撹拌した後、ＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ（６８０mg、２．６２ml、１．２当量）を滴下し、冷却浴を取り去り、懸濁液を室温まで暖めながら、２時間撹拌した。反応混合物をロータリーエバポレーターで高真空で蒸発乾固させ、さらに、精製せずに工程ｂ）で使用した。
【０２１６】
【表１７】
【０２１７】
ｂ）下記化合物の調製
【０２１８】
【化６３】
【０２１９】
ボラン基を除去するために、ａ）に記載したように調製された残渣をジエチルアミン５mlに入れ、５０℃で一晩撹拌した。引き続き、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。得られた残渣をジエチルアミン（毎回２．００ml）中に３回入れ、５０℃で３０分間撹拌し、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した（３０分間）。残渣をＴＢＭＥ（２ml）中に２回入れ、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。これにより、保護を除去した生成物が残り、それは、精製せずに、さらに工程ｃ）で使用した。
【０２２０】
ｃ）下記化合物の調製
【０２２１】
【化６４】
【０２２２】
ｂ）に記載したような反応生成物をＴＢＭＥ５mlに溶解し、０℃で、ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｎ）２．６mmolを撹拌しながら滴下した。引き続き、反応溶液を、デカンテーションにより析出したアンモニウム化合物から分離し、揮発性成分をロータリーエバポレーターでアルゴン下に除去した。残渣を工程ｄ）で直接使用した。
【０２２３】
【表１８】
【０２２４】
ｄ）標題化合物の調製
水素化リチウムアルミニウム２mmolをアルゴン下に無水ＴＨＦ８ml中に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｃ）に記載したように調製された粗生成物を無水ＴＨＦ８mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウムの冷却懸濁液に滴下した。反応混合物をこの温度で３０分間、次いで、２０℃で３０分間撹拌した。２Ｎ ＮａＯＨ１．７mlを懸濁液に滴下し、上澄み液を濾去し、エバポレートして橙色標題化合物を単離した。粗生成物を、さらに、実施例Ｄ１で直接使用した。
【０２２５】
Ｄ）１−ハロ−２−ホスホラニルフェロセンの調製
実施例Ｄ１：下記化合物の調製
【０２２６】
【化６５】
【０２２７】
実施例Ｃ５ｄからの粗生成物０．３０ｇ（１mmol）を無水ＴＨＦ５mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１ml（１mmol）と混合した。得られた赤色溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−オクタン−３，６−ジオールスルファート０．２２ｇ（１．２０mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２mlを室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水８mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発乾固させた。これにより、標題化合物を橙色の固体生成物として得た。
【０２２８】
Ｅ）本発明に係るフェロセン−ジホスフィンの調製
実施例Ｅ１：下記化合物の調製
【０２２９】
【化６６】
【０２３０】
標題化合物Ｃ１ ０．５５ｇ（２．２０mmol）を無水ＴＨＦ１０mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液２．２ml（２．２mmol）と混合した。赤色溶液を、（３Ｒ，６Ｒ）−オクタン−３，６−ジオールスルファート０．９６ｇ（５．３０mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液７mlを室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水２０mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去した。これにより、標題化合物０．８４８ｇ（８２％）を得た。
【０２３１】
【表１９】
【０２３２】
実施例Ｅ２：下記化合物の調製
【０２３３】
【化６７】
【０２３４】
標題化合物Ｃ２ ０．４ｇ（１mmol）を無水ＴＨＦ５mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１ml（１mmol）と混合した。赤色溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−オクタン−３，６−ジオールスルファート０．２２ｇ（１．２０mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２mlを室温で滴下し、混合物をさらに６０分間撹拌した。水８mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去した。これにより、標題化合物を橙色の固体として得た。
【０２３５】
実施例Ｅ３：下記化合物の調製
【０２３６】
【化６８】
【０２３７】
標題化合物Ｃ１ ０．７ｇ（３．８０mmol）を無水ＴＨＦ１０mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量と混合した。赤色溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート１．２１ｇ（６．７２mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液３．４モル当量を室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水２０mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去した。これにより、標題化合物０．６０ｇ（５２％）を得た。
【０２３８】
【表２０】
【０２３９】
実施例Ｅ４：下記化合物の調製
【０２４０】
【化６９】
【０２４１】
標題化合物Ｃ１ ６．７２ｇ（２６．８８mmol）を無水ＴＨＦ１００mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量と混合した。赤色溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールジトシラート１０．１７ｇ（５６．４５mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中の１Ｎリチウムジイソプロピルアミド３．４モル当量を室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。次いで、水２０mlを加え、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（ペンタン：ジエチルエーテル、４：１）で精製した。これにより、標題化合物４．４７ｇ（４０％）を得た。ＮＭＲスペクトルは、実施例Ｅ３の化合物のそれらと対応した。
【０２４２】
実施例Ｅ５：下記化合物の調製
【０２４３】
【化７０】
【０２４４】
標題化合物Ｃ１ ０．６ｇ（２．４０mmol）を無水ＴＨＦ１０mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量と混合した。赤色溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−２，７−ジメチルオクタン−２，５−ジオールスルファート１．３６ｇ（５．７６mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中の１Ｎリチウムジイソプロピルアミド３．４モル当量を室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水２０mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（ペンタン：ジエチルエーテル、４：１）で精製した。これにより、標題化合物０．８５ｇ（６７％）を得た。
【０２４５】
【表２１】
【０２４６】
実施例Ｅ６：下記化合物の調製
【０２４７】
【化７１】
【０２４８】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ１２ml中の標題化合物Ｃ２’ ４１０mg（１．０２mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート２２１mg（１．２２mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：酢酸エチル）で精製した。生成物を４５％の収率で単離した。
【０２４９】
【表２２】
【０２５０】
実施例Ｅ７：下記化合物の調製
【０２５１】
【化７２】
【０２５２】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ１２ml中の標題化合物Ｃ２’ ４３６mg（１．０９mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート２３５mg（１．３mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：酢酸エチル）で精製した。生成物を４０％の収率で単離した。
【０２５３】
【表２３】
【０２５４】
実施例Ｅ８：下記化合物の調製
【０２５５】
【化７３】
【０２５６】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ１０ml中の標題化合物Ｃ２’ ４５０mg（１．１２mmol）の溶液に加えた。溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−２，７−ジメチルオクタン−２，５−ジオールスルファート２９５mg（１．３４mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：酢酸エチル）で精製した。生成物を５０％の収率で単離した。
【０２５７】
【表２４】
【０２５８】
実施例Ｅ９：下記化合物の調製
【０２５９】
【化７４】
【０２６０】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ２０ml中の標題化合物Ｃ３ １．１３ｇ（３．０８mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート３．７mmolに滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物を酢酸エチル／１０％水性ＮａＢＦ4で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。橙色生成物が収率８０％で得られた。必要ならば、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ ３：１）で精製することができる。
【０２６１】
【表２５】
【０２６２】
実施例Ｅ１０：下記化合物の調製
【０２６３】
【化７５】
【０２６４】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、ＴＨＦ１０ml中の標題化合物Ｃ４ ４００mg（１．０５mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート１．２６mmolに滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物を酢酸エチル／１０％水性ＮａＢＦ4で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。橙色生成物が収率７６％で得られた。必要ならば、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ ３：１）で精製することができる。
【０２６５】
【表２６】
【０２６６】
実施例Ｅ１１：ホスホニウム塩、すなわち、１，２−ビス（２，５−ジメチルホスホラノ）フェロセニルビス（へキサフルオロホスファート）
【０２６７】
【化７６】
【０２６８】
１９２mg（０．４６mmol）の式１を、ジクロロメタン２mlに溶解し、０℃でＨＰＦ6（水中６５％）１３５μｌ（０．９２mmol）と混合した。混合物から溶媒を留去した。ジエチルエーテル５mlで処理して、黄色固体（３２７mg、８６％）を得た。
【０２６９】
【表２７】
【０２７０】
Ｆ）金属錯体の調製
実施例Ｆ１：ロジウム錯体の調製
その重量の５倍のＴＨＦ中の［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4の懸濁液１当量を、撹拌しながら６５℃に加熱した。続いて、その重量の５倍のＴＨＦ中の実施例Ｅ１のジホスフィン１当量の溶液を、２０分にわたって滴下した。次いで、ＴＢＭＥ４mlを反応溶液に滴下した。一晩徐々に冷却すると、結晶が形成し、それを、濾過で単離し、ＴＨＦで洗浄した。減圧下に母液から完全にエバポレートし、残渣をＴＢＭＥに入れ、超音波浴中でガラス棒でこすった。これにより、黄色結晶が生成した。懸濁液を０℃に冷却し、３時間放置し、濾過した。ＴＢＭＥで洗浄後、これらの結晶を集め、高真空で乾燥した。両方の結晶画分は、同じＮＭＲスペクトルを有していた。
【０２７１】
【表２８】
【０２７２】
実施例Ｆ２：下記化合物の調製
【０２７３】
【化７７】
【０２７４】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ４からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率９０％で得た。
【０２７５】
【表２９】
【０２７６】
実施例Ｆ３：下記化合物の調製
【０２７７】
【化７８】
【０２７８】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ１からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率８７％で得た。
【０２７９】
【表３０】
【０２８０】
実施例Ｆ４：下記化合物の調製
【０２８１】
【化７９】
【０２８２】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ５からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率６７％で得た。
【０２８３】
【表３１】
【０２８４】
実施例Ｆ５：下記化合物の調製
【０２８５】
【化８０】
【０２８６】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ６からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率７０％で得た。
【０２８７】
【表３２】
【０２８８】
実施例Ｆ６：下記化合物の調製
【０２８９】
【化８１】
【０２９０】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ７からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率８５％で得た。
【０２９１】
【表３３】
【０２９２】
実施例Ｆ７：下記化合物の調製
【０２９３】
【化８２】
【０２９４】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ８からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率５５％で得た。
【０２９５】
【表３４】
【０２９６】
実施例Ｆ８：下記化合物の調製
【０２９７】
【化８３】
【０２９８】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ９からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率３５％で得た。
【０２９９】
【表３５】
【０３００】
実施例Ｆ９：下記化合物の調製
【０３０１】
【化８４】
【０３０２】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ１０からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率６２％で得た。
【０３０３】
【表３６】
【０３０４】
Ｇ）使用例
使用例においては、変換率と光学収率（エナンチオ過剰、ｅｅ）の双方とも、最適化されていない。
【０３０５】
実施例Ｇ１：イタコン酸ジメチルの水素化（単離Ｒｈ錯体を用いる水素化）
【０３０６】
【化８５】
【０３０７】
実施例Ｆ１のロジウム錯体３．８５mg（０．００５mmol）を、磁気撹拌器および気体と真空用結合部を有する２５mlフラスコに入れた。フラスコをセプタムを用いて封をし、多数回の排気とアルゴン導入によりアルゴンで満たした。メタノール４ml中のイタコン酸ジメチル１５８mg（１mmol）の脱気溶液を、針を有する注射器を用いてセプタムを通して加え、混合物を１０分間撹拌した。撹拌器のスイッチを切り、真空と水素の導入（大気圧）を適用することによりフラスコをアルゴンで満たし、水素導入管を開いたままとした。撹拌器のスイッチを入れて、水素化を開始した。１時間後、撹拌器のスイッチを切り、反応溶液をキラルカラム（Chirasil-L-val）を有するガスクロマトグラフィーで分析した。変換率は定量的であり、水素化生成物（メチルコハク酸ジメチル）の光学収率ｅｅは９９％超であった。
【０３０８】
実施例Ｇ２：イタコン酸ジメチルの水素化
水素化を、実施例Ｆ５のロジウム錯体を用いて、実施例Ｇ２と同様の方法により行った。変換率は定量的であり、水素化生成物（メチルコハク酸ジメチル）の光学収率ｅｅは９８％より超であった。
【０３０９】
実施例Ｇ３：イタコン酸ジメチルの水素化（インサイチュで調製された触媒を用いる水素化）
実施例Ｅ９の配位子（０．００５５mmol）を、磁気撹拌器および気体と真空用結合部を有する２５mlフラスコに入れた。フラスコをセプタムを用いて封をし、多数回の排気とアルゴン導入によりアルゴンで満たした。メタノール１ml中の［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4 ０．００５mmolの脱気溶液を、針を有する注射器を用いてセプタムを通して入れ、溶液を５分間撹拌し、続いて、メタノール４ml中のイタコン酸ジメチル１５８mg（１mmol）の溶液を加え、混合物を１０分間撹拌した。撹拌器のスイッチを切り、真空と水素の導入（大気圧）を適用することによりフラスコを水素で満たし、水素導入管を開いたままとした。撹拌器のスイッチを入れて、水素化を開始した。１時間後、撹拌器のスイッチを切り、反応溶液をキラルカラム（Chirasil-L-val）を有するガスクロマトグラフィーで分析した。変換率は定量的であり、水素化生成物（メチルコハク酸ジメチル）の光学収率ｅｅは９７％超であった。
【０３１０】
実施例Ｇ４：以下の化合物の水素化
【０３１１】
【化８６】
【０３１２】
実施例Ｅ４の配位子（０．０１１mmol）を、磁気撹拌器および気体と真空用結合部を有する２５mlフラスコに入れた。フラスコをセプタムを用いて封をし、多数回の排気とアルゴン導入によりアルゴンで満たした。メタノール１ml中の［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4０．０１mmolの脱気溶液を、針を有する注射器を用いてセプタムを通して入れ、溶液を５分間撹拌し、続いて、メタノール４ml中のＮ−アセチルシクロヘキシリデングリシンメチルエステル１mmolの溶液を加え、混合物を１０分間撹拌した。撹拌器のスイッチを切り、真空と水素の導入（大気圧）を適用することによりフラスコを水素で満たし、水素導入管を開いたままとした。撹拌器のスイッチを入れて、水素化を開始した。１晩撹拌後、撹拌器のスイッチを切り、反応溶液をキラルカラム（Chirasil-L-val）を有するガスクロマトグラフィーで分析した。変換率は８０％超であり、Ｎ−アセチルシクロヘキシルグリシンメチルエステルの光学収率ｅｅは９１％であった。
【０３１３】
実施例Ｇ５：以下の化合物の水素化
【０３１４】
【化８７】
【０３１５】
水素化は、アセトアミドケイ皮酸メチルＥ５を用いて、実施例Ｇ４と同様な方法で行った。ガスクロマトグラフィー（Chirasil-L-val）によれば、変換率は定量的であり、光学収率ｅｅは９７％であった。
【０３１６】
実施例Ｇ６：以下の化合物の水素化
【０３１７】
【化８８】
【０３１８】
水素化は、アセトアミドケイ皮酸を用いて、実施例Ｇ４と同様な方法で行った。生成物を、ジアゾメタンを用いて対応するメチルエステルに変換し、ガスクロマトグラフィー（Chirasil-L-val）により分析した。変換率は定量的であり、光学収率ｅｅは９７％であった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１個の環状ホスフィン基を有する１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィンフェロセン類、それらの製造方法；これらのジホスフィンフェロセン類を含む金属錯体；およびプロキラルな有機化合物とのエナンチオ選択的付加反応用の触媒としての金属錯体の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
キラルジホスフィン類は、特に、不飽和で、プロキラルな、有機化合物のエナンチオ選択的水素化に対する不斉触媒のための有用な配位子である。近年、環状ｓｅｃ−ホスフィノ基（例えば、ホスフェタンまたはホスホラン基）を有するジホスフィン類も、この目的で知られるようになっている。そこで、ＥＰ−Ｂ１−０５９２５５２号明細書およびM. J. Burk, Acc. of Chem. Res. Vol. 33, No. 6 (2000) 363-372頁には、例えば、ベンゼンまたはエタンおよび１，１’−フェロセニルジホスホラン類から誘導される１，２−ジホスホラン類、環状ブタンジオール硫酸エステルを経由するそれらの製造、およびエナンチオ選択的触媒用の金属錯体におけるそれらの使用が記載されている。所望のキラリティーを達成するために、ホスホラン基は、例えば、メチルまたはエチルでα，α’位が置換されている。１，１’−フェロセニルジホスホラン類の場合には、ホスホラン基は、各々、２個のシクロペンタジエニル環のうちの１個に結合している。U. Berensら、Angew. Chem. 112(11) 2057-2060頁(2000)には、メチルのようなα，α’置換基を有する１，１’−ジホスフェタニルフェロセン類が記載されている。１，１’−ジホスフェタニルフェロセン類は、また、ＷＯ９８／０２４４５号明細書中で言及されている。ホスホラン環がさらにアルコキシ基で置換されているベンゼン−１，２−ジホスホラン類は、ＥＰ−Ｂ１−０８８９０４８号明細書中で提案されている。
【０００３】
環状二級ホスフィン類を製造する最良の方法は、これまでに、一級ジホスフィン類と置換または非置換アルキレンスルファートとの反応であることが証明されている（M. J. Burk, J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 8518-8519頁）。一級ジホスフィン類の製造は、フェロセン系列、例えば、フェロセニル−１，２−ジホスフィン類において、全く記述されていない。少なくとも１個の環状ホスフィン基を有するフェロセニル−１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィン類は、合成的に困難であるが故に、未だに知られていない。
【０００４】
フェロセン−モノホスフィン類におけるホスフィン基に対してオルト位の不活性水素原子は、ホスフィン基がアミノおよび／またはオキシ置換基を含有する場合、有機リチウムまたはマグネシウム化合物により、位置選択的に、高収率で金属化することができることが、ここに驚くことに、見出された。式ＢＨ3のボランがさらにＰ原子に結合している場合に、反応は、特によく進行する。これらの金属化されたフェロセン−モノホスフェイン類は、工業的な規模においても、簡単な方法で、驚くほどの高収率で、少なくとも１個の環状ｓｅｃ−ホスフィン基を有するフェロセニル−１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィン類に変換することができる。
【０００５】
フェロセンにおいて、面性キラリティは、金属化において発生する。驚くことに、モノホスフィンフェロセン類のホスフィン基におけるＮまたはＯ原子が、特にＮまたはＯ原子に対してαまたはβ位にキラルな炭素原子を特に有するキラルな基をもつ場合に、金属化は、高度に立体選択的に進行することが見出された。このように、合成は、直接的にジアステレオマーを高い光学収率で与えるので、複雑な分離操作を回避することができる。フェロセニル−１，２−ジ−ｓｅｃ−ホスフィン類を含む金属錯体は、高い化学的および光学収率での不斉水素化に、非常に好適である。
【０００６】
本発明は、第一に、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉ：
【化２０】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィン基は、非置換または置換の環状ホスフィノ基である）
の化合物を提供する。
【０００７】
アルキル基Ｒ1は、例えば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチルであることができる。Ｒ1は、好ましくは水素原子である。
【０００８】
非環状二級ホスフィノ基は、２個の同一のまたは２個の異なる炭化水素基を有することができる。ホスフィノ基は、好ましくは、２個の同一の炭化水素基を有する。炭化水素基は、非置換であるか、または置換されていることができ、１〜２２個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個の炭素原子を有することができる。好ましい非環状二級ホスフィノ基は、ホスフィノ基が、直鎖状または分枝状Ｃ1〜Ｃ12−アルキル；非置換またはＣ1〜Ｃ6−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6−アルコキシ−置換のＣ5〜Ｃ12−シクロアルキルまたはＣ5〜Ｃ12−シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニルまたはベンジル；ハロゲン（例えば、Ｆ、ＣｌまたはＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル（例えば、トリフルオロメチル）、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ（例えば、トリフルオロメトキシ）、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉ、ｓｅｃ−アミノまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル（例えば、−ＣＯ2ＣＨ3）で置換されたフェニルまたはベンジルから選択される２個の同一または異なる基を有するものである。
【０００９】
好ましくは１〜６個の炭素原子を有する、Ｐ上のアルキル置換基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチルならびにペンチルおよびヘキシルの異性体が挙げられる。Ｐ上の非置換またはアルキル置換のシクロアルキル置換基の例としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシルおよびエチルシクロヘキシルならびにジメチルシクロヘキシルが挙げられる。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−およびハロアルコキシ−置換のフェニルおよびベンジル置換基の例としては、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニルおよび３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルが挙げられる。
【００１０】
好ましいホスフィノ基は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換のシクロペンチルまたはシクロヘキシルおよび、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基で置換されているシクロペンチルまたはシクロヘキシル、ベンジル、および特に、非置換であるか、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルまたはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシ置換基で置換されているフェニルよりなる群から選択される同一または異なる、好ましくは同一の基を有するものである。
【００１１】
ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは、式−ＰＲ2Ｒ3（式中、Ｒ2およびＲ3は、各々互いに独立に、１〜２０個の炭素原子を有し、非置換またはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、ジ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルで置換されていてもよい炭化水素基である）に対応する。
【００１２】
Ｒ2およびＲ3は、好ましくは、直鎖状または分枝状のＣ1〜Ｃ6−アルキル、非置換シクロペンチルまたはシクロヘキシル、および１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキルまたはＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基で置換されているシクロペンチルまたはシクロヘキシル、非置換ベンジルまたは、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシで置換されているベンジル、および特に、非置換であるか、１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、−ＮＨ2、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキルもしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルコキシで置換されているフェニルよりなる群から選択される同一または異なる、特には同一の基である。
【００１３】
Ｒ2およびＲ3は、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ならびに非置換フェニルまたは１〜３個のＣ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシおよび／もしくはＣ1〜Ｃ4−フルオロアルキル基で置換されているフェニルよりなる群から選択される同一または異なる、特には同一の基である。
【００１４】
環状ｓｅｃ−ホスフィノは、式II、IIａ、IIｂまたはIIｃに対応することができる。
【化２１】
（これらは、非置換であるか、あるいは１個以上の−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−ヒドロキシアルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシまたはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシ基で置換されている）。
【００１５】
キラルなα−炭素原子を導入するために、置換基は、Ｐ原子に対して、片方のまたは両方のα位に存在することができる。片方のまたは両方のα位の置換基は、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキルまたはベンジル、たとえば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、ヒドロキシメチル、１−もしくは２−ヒドロキシエチル、１−、２−もしくは３−ヒドロキシプロピル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである。
【００１６】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、ベンジルオキシまたは−Ｏ−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2−Ｏ−であることができる。いくつかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（メチル）2−Ｏ−である。
【００１７】
置換基の種類および置換基の数に応じて、環状ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラルまたはＣ−およびＰ−キラルであることができる。
【００１８】
脂肪族の５員環もしくは６員環またはベンゼンは、式II〜IIｃの基中の２個の隣接する炭素原子上で縮環することができる。
【００１９】
環状ｓｅｃ−ホスフィノ基は、好ましくは、式（可能なジアステレオマーの一つのみが示されている）に対応する。
【化２２】
（式中、Ｒ4およびＲ5は、各々、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ヒドロキシメチル、１−もしくは２−ヒドロキシエチル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ4およびＲ5は、同一または異なる。
【００２０】
好ましい態様において、式Ｉの化合物は、式IIIまたはIVに対応する。
【化２３】
［式中、Ｒ2およびＲ3は、好ましいものを含めて、上記の意味を有し、
Ｙは、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）−または式：
【化２４】
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、各々互いに独立に、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、基Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の少なくとも１個は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはベンジルであり、
Ｒ10は、ＨまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ11は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである）の基である］。
【００２１】
式IIIおよびIVの化合物の好ましい実施態様は、Ｒ6が、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9が、各々、Ｈであるか、あるいはＲ6およびＲ8が、各々、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ7およびＲ9が、各々、Ｈであるか、あるいはＲ6およびＲ7が、各々、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−ヒドロキシアルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールであり、Ｒ8およびＲ9が、各々、Ｈであるものである。アルキルは、好ましくは、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピルである。
【００２２】
式Ｉの新規な化合物は、金属錯体形成用の配位子である。空気中での安定性および操作性に関して、化合物を、１個もしくは２個の一価のアニオンまたは１個の二価のアニオンを有するホスホニウム塩に変換することが有利である。錯体形成は、これにより悪影響を受けることはない。式Ｉの配位子が溶液中に存在する場合、保存および輸送に対して、塩をインサイチュで形成し、塩を単離しないことが有利である。しかしながら、塩形成は、また、使用の前、すなわち、金属錯体の形成前に直接、行うことができる。溶液中での塩形成は、例えば、ハロゲン化水素酸または硫酸等の鉱酸、好ましくはＨＣｌまたはＨＢｒを用いて行うことができる。結晶性で安定な、単離しうる塩を形成するのにより好都合である、ハロカルボン酸、ハロスルホン酸または複合酸を使用することも可能である。そのような酸のアニオンの例は、ＲａＣＯＯ-、ＲａＳＯ3-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-またはＢ（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）4-（ここで、Ｒａは、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ5〜Ｃ10−ハロシクロアルキルまたはＣ6〜Ｃ10−ハロアリールである）である。
【００２３】
ハロアルキル（例えば、Ｃ1〜Ｃ4−ハロアルキル）、ハロシクロアルキル（例えば、Ｃ5〜Ｃ6−ハロシクロアルキル）およびハロアリール（例えば、ハロフェニル）は、１個以上のハロゲン原子を有することができ、ペルハロゲン化された基であることができる。ハロゲンは、好ましくはＣｌであり、極めて特に好ましくはＦである。特に好ましいものは、ペルフルオロ化された基である。いくつかの例は、モノクロロメチル、ジクロロメチルおよびトリクロロメチル、１，１，１−トリクロロエチル、２，２−ジクロロエチル、１，２，２−トリクロロエチル、ペンタクロロエチル、モノフルオロメチル、ジフルオロメチルおよびトリフルオロメチル、２，２−ジフルオロエチル、１，１，１−トリフルオロエチル、１，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチルならびにペンタフルオロフェニルである。
【００２４】
Ｒａは、特に好ましくは、Ｃ1〜Ｃ4−ペルフルオロアルキルである。特に好ましいアニオンは、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-である。
【００２５】
本発明のフェロセン−ジホスフィン類は、Ｐ−Ｏ−および／またはＰ−Ｎ−結合とキラルまたはアキラルな基を有するフェロセニルモノホスフィン類の選択的なオルト金属化が反応手順中の重要な工程を表す新規な方法により製造することができる。その方法は、２個のＰ原子上に、異なる置換様式を創造するためのモジュールであり、高収率を与える。さらに、純粋なジアステレオマーまたは容易に分離された対のジアステレオマーの対は、簡単な方法で、高収率で直接製造することができる。その方法は、工業的規模で本発明のジホスフィン類を製造するために、特に有用である。
【００２６】
本発明は、さらに、ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉ：
【００２７】
【化２５】
【００２８】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィノは、非置換または置換の環状ホスフィノ基である）
の化合物の製造方法であって、工程：
ａ）式Ｖ：
【００２９】
【化２６】
【００３０】
（式中、Ｘ1およびＸ2は、各々互いに独立に、ＯまたはＮであり、Ｃ−結合炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、ＯおよびＮ原子の空き結合に結合している）
の化合物を、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物または脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドと反応させて、式VI：
【００３１】
【化２７】
【００３２】
（式中、Ｍは、−Ｌｉまたは−ＭｇＸ3であり、Ｘ3は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成し、
ｂ）式VIの化合物を、少なくとも当量のハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィン、ハロゲン化ジアルコキシホスフィン、ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）、ハロゲン化ジアルコキシ−Ｐ（Ｏ）またはＰＣｌ3もしくはＰＢｒ3と反応させて、式VII：
【００３３】
【化２８】
【００３４】
（式中、Ｒ12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2、ジ（ｓｅｃ−アミノ）Ｐ−、ジアルコキシＰ−、ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）−、ジアルコキシＰ（Ｏ）−である）
の化合物を形成し、そして
ｂ１）存在する全てのボラン基を式VIIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式VIIIの化合物を形成するか、または
ｂ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、式VIIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式VIIIの化合物を形成するか、
【００３５】
【化２９】
【００３６】
あるいは、
ｃ）式VIの化合物を、ハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式IX：
【００３７】
【化３０】
【００３８】
の化合物を形成し、
ｃ１）存在する全てのボラン基を式IXの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式Ｘの化合物を形成するか、または
ｃ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式IXの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式Ｘ：
【００３９】
【化３１】
【００４０】
の化合物を形成するか、あるいは、
ｄ）式VIの化合物を、ハロゲン化剤と反応させて、式XI：
【００４１】
【化３２】
【００４２】
（式中、Ｘ4は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成する工程、
ｄ１）存在する全てのボラン基を式XIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式XIIの化合物を形成するか、または
ｄ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式XIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式XIIの化合物を形成し、
【００４３】
【化３３】
【００４４】
そして、
ｄ３）式XIIの化合物を金属化ｓｅｃ−リン化物と反応させて式Ｘの化合物を形成し、
ｅ）式VIIの化合物を少なくとも２当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと、そして式Ｘの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、片方もしくは両方のｓｅｃ−ホスフィノ基が環状ｓｅｃ−ホスフィノである式Ｉの化合物を製造するか、あるいは
ｆ）式XIIの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、片方もしくは両方のｓｅｃ−ホスフィノ基が環状ｓｅｃ−ホスフィノである式VIII：
【００４５】
【化３４】
【００４６】
（式中、ｓｅｃ−ホスフィノは、適当な場合には、ＢＨ3で保護されていてもよい環状ｓｅｃ−ホスフィノである）
の化合物を製造し、次いで、式XIIIの化合物を少なくとも１当量のアルキルリチウム、その後少なくとも１当量のハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式Ｉの化合物を形成する、製造方法を提供する。
【００４７】
工程ａ）における脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドは、２〜１８個、好ましくは２〜１２個、特に好ましくは２〜１０個の炭素原子を含有する二級アミンから誘導することができる。Ｎ原子に結合された脂肪族基は、アルキル、シクロアルキルもしくはシクロアルキルアルキルであるか、または４〜１２個、好ましくは５〜７個の炭素原子を有するＮ−ヘテロ環であることができる。Ｎ原子に結合された基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘキシルメチルである。Ｎ−ヘテロ環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよびアザノルボルナンである。好ましい実施態様において、アミド類は、式Ｌｉ−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2またはＸ3Ｍｇ−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2（ここで、アルキルは、特に、メチルである）に対応する。
【００４８】
式Ｖの化合物において、Ｘ1およびＸ2は、好ましくはＮである。
【００４９】
本発明の目的で、以下の炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、例えば、基Ｘ1およびＸ2に結合していることができる：
Ｘ1およびＸ2がＯである場合、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合しているか、または二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2に結合している：
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合している；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合しており、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、結合、メチレンまたはエチレンにより架橋されていることができる；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1に結合し、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合し、一価の基が、二価の（ヘテロ）炭化水素基に結合したメチレンまたはエチレンである；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合し、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合する；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1に結合し、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合する；
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、２個の二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合する；
Ｘ1がＯであり、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1に結合し、且つＸ2がＮであり、２個の一価の（ヘテロ）炭化水素基または二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合する；
Ｘ1がＯであり、Ｘ2がＮであり、二価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2に結合し、且つ一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ2に結合する；
Ｘ1およびＸ2がＯである場合、二価の芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素基がＸ1およびＸ2に結合する；あるいは
Ｘ1およびＸ2がＮである場合、二価の芳香族１，１’−（ヘテロ）炭化水素基がＸ1およびＸ2に結合し、一価の（ヘテロ）炭化水素基が、Ｘ1およびＸ2の各々に結合する。
【００５０】
炭素を介してＸ1およびＸ2に結合した炭化水素またはヘテロ炭化水素は、
ａ）２個の一価基が、Ｎ原子Ｘ1およびＸ2に結合している、飽和または不飽和の、直鎖状、分枝状または環状の一価の基；
ｂ）Ｘ1およびＸ2がＮである場合、Ｘ1および／またはＸ2に結合しており、４〜７員環を形成する、飽和、不飽和、直鎖状、分枝状および／または環式もしくは二環式の二価の基；あるいは
ｃ）Ｏ原子とＮ原子または２個のＮ原子との間で一重のまたは二重の架橋を形成し、且つ基−Ｘ1−Ｐ−Ｘ2−と一緒に５〜７員環を形成する、飽和、不飽和、直鎖状、分枝状および／または環式もしくは二環式の二価の基
であることができる。
【００５１】
ヘテロ炭化水素基は、Ｏ、ＳおよびＮ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）よりなる群から選択されるヘテロ原子を含有することができる。ヘテロ原子の数は、好ましくは、１〜４個、より好ましくは、１〜３個、特に好ましくは１個または２個である。炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは、１〜８個の炭素原子と、適当である場合には、ヘテロ原子を含有することができる。基は、一置換または多置換、好ましくは一置換〜三置換または一置換もしくは二置換であり、例えば、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルフェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシフェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオフェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオフェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオベンジルオキシ、ジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノフェニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノフェノキシ、シクロヘキシル、シクロペンチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルシクロヘキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルシクロペンチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシシクロヘキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシシクロペンチル、フッ素、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−フルオロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、ジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはジ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである。基Ｘ1およびＸ2に対してαまたはβ位における置換は、その基が金属化およびその後の反応において光学誘起をもたらすキラルな原子を有する場合に、好ましい。いくつかの具体的な置換基は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フェニル、フェノキシ、メトキシフェニルおよびメトキシフェノキシである。
【００５２】
炭素を介してＸ1およびＸ2に結合する一価の炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、例えば、非置換または置換Ｃ1〜Ｃ18−、好ましくはＣ1〜Ｃ12−、特に好ましくはＣ1〜Ｃ8−（ヘテロ）アルキル；非置換または置換Ｃ2〜Ｃ18−、好ましくはＣ2〜Ｃ12−、特に好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）アルケニル；非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル、非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル、非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、非置換または置換Ｃ3〜Ｃ12−、好ましくはＣ3〜Ｃ8−（ヘテロ）シクロアルケニル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、非置換または置換Ｃ6〜Ｃ14−（ヘテロ）アリールおよびＣ6〜Ｃ14−（ヘテロ）アリール−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルであることができる。好ましいものは、飽和および芳香族炭化水素またはヘテロ炭化水素基である。
【００５３】
一価の炭化水素基は、直鎖状または分枝状のＣ1〜Ｃ12−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ8−アルキル、特に好ましくはＣ1〜Ｃ4−アルキルか、Ｃ3〜Ｃ8−、好ましくはＣ4〜Ｃ6−シクロアルキルか、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル−、好ましくはＣ4〜Ｃ6−シクロアルキル−メチルまたは−エチルか、Ｃ6〜Ｃ14−、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリールか、Ｃ7〜Ｃ15−アラルキル、好ましくはＣ7〜Ｃ11−アラルキルであることができる。いくつかの具体的な例は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキシルエチル、フェニル、ナフチル、ベンジルおよびフェニルエチルである。キラル誘起が達成される必要があるときには、例えばフェロセンの場合、炭化水素基は、Ｘ1および／またはＸ2に対するαおよび／またはβ位において、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチルまたは−エチル、フェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、フェノキシ、２−アニシル、ベンジルまたはベンジルオキシで置換されていることが好ましい。
【００５４】
一価の炭化水素基のいくつかの例は、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、Ｃ5〜Ｃ7−シクロアルコキシ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ10−（ヘテロ）アリールオキシ−Ｃ2〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ7−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ10−ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである。いくつかの具体例は、メトキシエチル、エトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、シクロヘキシルオキシエチル、フェノキシエチル、Ｎ−メチルモルホリニルメチルまたはＮ−メチルモルホリニルエチル、Ｎ−メチルピペリジニルメチルまたはＮ−メチルピペリジニルエチル、ピリジニルメチルまたはピリジニルエチルおよびピロリジニルメチルまたはピロリジニルエチルである。
【００５５】
Ｘ1およびＸ2が各々Ｎであり、Ｎ原子と一緒に４〜７員環を形成するＸ1およびＸ2に結合している二価の炭化水素基は、好ましくは、２〜８個、好ましくは２〜６個、より好ましくは２〜４個の炭素原子を有することができ、脂肪族または芳香族環が縮合していてもよい直鎖状または分枝状の非置換または置換アルキレンであることが好ましい。炭化水素鎖は、Ｏ原子および／または−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）で中断されていることができる。二価の炭化水素基の例は、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）2−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−である。二価の炭化水素基は、それらが結合している原子と一緒になって、ヘテロ環を形成する。キラル誘起が達成される必要があるときには、例えばフェロセンの場合、炭化水素基は、Ｘ1および／またはＸ2に対するαおよび／またはβ位において、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチルまたは−エチル、フェニル、２−アニシルまたはベンジルで置換されていることが好ましい。２個のＮ原子が２個の二価の基で架橋されているときには、これらの基は、環状ジアミン、例えば、ピペラジンから誘導される。
【００５６】
Ｘ1およびＸ2が各々Ｎであり、Ｘ1およびＸ2に結合している二価の炭化水素基は、好ましくは、１，２−または１，３−ジアミンから誘導され、アミノ基は、環の一部であることができる。その基は、直鎖状または分枝状の１，２−または１，３−Ｃ2〜Ｃ12−アルキレン、好ましくは１，２−または１，３−Ｃ2〜Ｃ8−アルキレン、特に好ましくは１，２−または１，３−Ｃ2〜Ｃ4−アルキレン、１，２−または１，３−Ｃ3〜Ｃ8−、好ましくは１，２−または１，３−Ｃ4〜Ｃ6−シクロアルキレン、１−Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル−、好ましくは１−Ｃ4〜Ｃ6−シクロアルキル−２−メチレンまたは−エチレン、Ｃ6〜Ｃ14−、好ましくは１，２−Ｃ6〜Ｃ10−アリーレンおよびＣ6〜Ｃ10−アラルク−１−イル−２−メチレンである。いくつかの具体例は、エチレン、ｎ−またはｉ−プロピレン、ｎ−またはｉ−ブチレン、シクロプロピル−１，２−エン、シクロブチル−１，２−エン、シクロペンチル−１，２−エン、シクロヘキシル−１，２−エン、シクロヘプチル−１，２−エン、シクロオクチル−１，２−エン、シクロブト−１−イル−２−メチレン、シクロペント−１−イル−２−メチレン、シクロヘクサ−１−イル−２−メチレン、シクロブト−１−イル−２−エチレン、シクロペント−１−イル−２−エチレン、シクロヘクサ−１−イル−２−エチレン、１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、フェン−１−イル−２−メチレンおよびフェン−１−イル−２−エチレンである。キラル誘起が達成される必要があるときには、例えばフェロセンの場合、炭化水素基は、Ｘ1および／またはＸ2に対するαおよび／またはβ位において、例えば、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシメチル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシエチル、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−メチルまたは−エチル、フェニル、２−アニシルまたはベンジルで置換されていることが好ましい。
【００５７】
Ｘ1およびＸ2が各々Ｎである、Ｘ1およびＸ2に結合している二価の炭化水素基は、１，１’−ビフェニレン、１，１’−ビナフチレンおよび１，１’−ビスピリジンであることもできる。
【００５８】
式Ｖ中の好ましいホスフィノ基は、式：
【００５９】
【化３５】
【００６０】
（式中、Ｒ15およびＲ16は、同一または異なり、好ましくは同一であって、各々、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシエチル、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ−エチルであり、
Ｒ13およびＲ14は、同一または異なり、好ましくは同一であって、各々、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、フェニルまたはメチルフェニルであり、
Ｚは、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルチオ、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2、フェニル、フェノキシ、メトキシフェニルまたはメトキシフェノキシである）
に相当する。
【００６１】
Ｚのいくつかの更なる例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオおよびジメチルアミノである。
【００６２】
芳香族の金属化は、公知の反応であり、例えば、M. Schlosser（編者）Organometallics in Synthesis, John Wiley & Sons (1994)またはJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)に記載されている。
【００６３】
本発明の目的のために、少なくとも当量との表現は、シクロペンタジエン環中の反応性＝ＣＨ−基あたり、１〜１．２当量のマグネシウムグリニャール化合物または脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドの使用を意味する。
【００６４】
反応は、低い温度、例えば、２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で行うことが有利である。反応時間は、約２〜５時間である。反応は、不活性保護性気体、例えば窒素または希ガス、例えばアルゴン下に行うことが有利である。
【００６５】
反応は、不活性溶媒の存在下に行うことが有利である。そのような溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の組み合わせとして用いることができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素ならびに鎖状または環状エーテルである。具体的な例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルまたはジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンである。
【００６６】
式Ｖの化合物は公知であるか、または公知の方法もしくは公知の方法に類似の方法で製造することができる。例えば、モノリチオ化フェロセンが、原料として使用され、式Ｘ5Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−のモノハロホスフィンと反応させる（ここで、Ｘ5は、好ましくはＣｌ またはＢｒであり、Ｘ1およびＸ2は、ＯまたはＮであり、炭化水素基は、Ｘ1−およびＸ2−の空き結合に結合している）。反応後、ボランＢＨ3は、その存在が望ましい場合、公知の方法で、例えば、反応混合物とＢＨ3・Ｓ（ＣＨ3）2等のボラン錯体とを反応させることにより導入することができる。式Ｘ5Ｐ（Ｘ1−）Ｘ2−のモノハロホスフィンは公知であるか、アルコール、ジオール、アミン、アミノアルコールまたはジアミンとの反応により、三塩化リンから、それ自体公知の方法で得ることができる。
【００６７】
プロセス工程ｂ）で使用されるハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィンおよびハロゲン化ジアルコキシホスフィンさらにまた、ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィン（Ｏ）およびハロゲン化ジアルコキシホスフィン（Ｏ）は、好ましくは、［（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ］2Ｐ−Ｘ5、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキルＯ）2Ｐ−Ｘ5、［（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｎ］2Ｐ（Ｏ）−Ｘ5、（Ｃ1〜Ｃ4−アルキル）2Ｐ（Ｏ）−Ｘ5（ここで、Ｘ5は、Ｂｒ、好ましくはＣｌである）である。アルキルのいくつかの例は、メチル、エチルおよびプロピルであり、メチルが特に好ましい。ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィンおよびハロゲン化ジアルコキシホスフィンは、ボランにより保護することができる。反応条件は、プロセス工程ａ）に対する上記の条件に類似しているかまたは同様である。
【００６８】
プロセス工程ｂ１、ｂ２、ｃ１、ｃ２、ｄ１およびｄ２の反応は、それ自体公知である。最後の反応工程においてのみのボラン基の除去は、反応感応性基が保護されたままであるという長所をもたらす。
【００６９】
ボラン基は、例えば、試薬、例えばＣ1〜Ｃ4−アルキル基を有する二級アミン、モルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンを式IIIの溶解された化合物に加え、２０〜１００℃の温度で十分長く撹拌し、さらに有利には減圧下に揮発性成分を除去することにより、切断することができる。ボランの除去方法は、例えば、M. Ohffら、Synthesis (1998),1391頁に記載されている。
【００７０】
−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基の形成は、同様に公知であり、例えば、A. Longeauらにより、Tetrahedron: Asymmetry, 8 (1997) 987-990頁に記載されている。試薬としては、例えばエーテル中の、ＨＣｌまたはＨＢｒの有機溶液を使用することが有利であり、低温（例えば、−２０〜３０℃）で、ボラン基を有するか、有しない式VII、IXまたはXIの溶解された化合物に添加する。
【００７１】
−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基は、それ自体公知の方法で、例えば、ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、Ｌｉ（ＡｌＨ4）、ＮａＢＨ4等の金属水素化物を用いて水素化することができる。反応は、溶媒の存在下に、−８０℃〜５０℃の温度で行うことが有利である。得られた一級ホスフィンは、単離するか、直接さらに反応させることができる。
【００７２】
プロセス工程ｃ）におけるようなｓｅｃ−ホスフィンとの反応は、それ自体公知であり、実施例に記載されている。反応条件は、プロセス工程ａ）に対して上記された条件と類似または同様である。
【００７３】
プロセス工程ｄ）におけるような式VIの化合物とハロゲン化剤との反応は、同様に公知である。適切なハロゲン化剤は、例えば、Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2、ハロゲン間化合物、例えばＣｌＢｒ、ＢｒＩ、またはポリハロゲン化脂肪族炭化水素、例えばＣＦ3Ｂｒ、ヘキサクロロエタン、ＢｒＣＦ2−ＣＦ2Ｂｒまたは１，１，２，２−テトラブロモエタンである。反応温度は、−４０℃〜５０℃であることができる。適切な溶媒は、プロセス工程ａ）について上記されている。得られたハロゲン化化合物は、単離するか、直接さらに反応させることができる。
【００７４】
プロセス工程ｄ３）におけるような金属化ｓｅｃ−ホスフィドとの反応は、同様に公知である。好ましい金属はリチウムである。
【００７５】
プロセス工程ｆ）の反応はそれ自体公知であり、プロセス工程ｃ）と同様な方法で行うことができる。
【００７６】
一級ホスフィンと環状スルファートとの反応は、同様に、M. J. Burk, J. Amer. Chem. Soc., 1991, 113, 8518-9, M. J. Burk, Acc. Chem. Res., 2000, 33, 363-72およびU. Behrens, M. J. Burk, A. Gerlach, W. Hems, Angew. Chemie, int. Ed., 2000, 112, 2057-2060に記載されている。環状スルファートは公知であるか、類似の方法により製造することができる。反応は溶液中、例えば、エーテル中で行われる。当量の強塩基、例えばＬｉ ｓｅｃ−アミド、例えばリチウムジイソプロピルアミドの同時使用が有利である。開鎖ジスルホナートとの反応は、同様に公知であり、例えば、T. V. RajamBabuら、J. Amer. Chem. Soc., 2001, 123, 10207-10213頁に記載されている。スルホナートのいくつかの例は、開鎖ジオールのジ（フェニルスルホナート）、ジトシラート、ジメシラート、ジ（トリフルオロメチルスルホナート）である。
【００７７】
本発明のフェロセン−ジホスフィンの単離および精製は、公知の方法、例えば、析出および濾過または抽出により行うことができる。精製は、蒸留、再結晶により、またはクロマトグラフィー法により行うことができる。
【００７８】
本発明のフェロセン−ジホスフィンは、嵩高い環状ｓｅｃ−ホスフィノ基にもかかわらず、驚くほどの高収率で得られ、１種類のジアステレオマーがしばしば優先的に形成される。
【００７９】
本発明は、また、本発明のプロセスに含まれる式VII、IXおよびXIの中間体を提供する。
【００８０】
【化３６】
【００８１】
（式中、Ｒ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1およびＸ4は、好ましいものを含めて、上記の意味を有する）。
【００８２】
本発明は、さらに、式VIII、ＸおよびXIIの化合物を提供する。
【００８３】
【化３７】
【００８４】
（式中、Ｒ’12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2または−ＰＨ2であり、Ｒ1およびＸ4は、好ましいものを含めて、上記の意味を有する）。
【００８５】
本発明は、また、式XIIIの化合物を提供する。
【００８６】
【化３８】
【００８７】
（式中、Ｒ1およびＸ4は、好ましいものを含めて、上記の意味を有し、ｓｅｃ−ホスフィノは、環状ｓｅｃ−ホスフィノである）。
【００８８】
式Ｉの新規化合物は、８族遷移金属よりなる群、特にＲｕ、ＲｈおよびＩｒよりなる群から選択される金属の錯体の配位子であり、それらは不斉合成、例えばプロキラルな不飽和有機化合物の不斉水素化用の優れた触媒または触媒前駆体である。プロキラルな不飽和有機化合物が使用される場合は、光学異性体の極めて高度な過剰を、有機化合物の合成において誘起することができ、高い化学変換率を短い反応時間で達成することができる。達成可能なエナンチオ選択性と触媒活性は際立っている。
【００８９】
本発明は、さらに、配位子として式Ｉの化合物を有する８族遷移金属よりなる群から選択される金属の錯体を提供する。
【００９０】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔである。好ましい金属は、ロジウムおよびイリジウム、そしてまた、ルテニウム、白金およびパラジウムである。
【００９１】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムである。
【００９２】
金属錯体は、金属原子の酸化数および配位数に依存して、さらに配位子および／またはアニオンを含有することができる。それらは、また、カチオン性金属錯体であることができる。そのような類似の金属錯体およびそれらの製造は、広く文献に記載されている。
【００９３】
金属錯体は、例えば、式XIVまたはXV：
【００９４】
【化３９】
【００９５】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｌは、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性一座配位子を表すか、またはＬ2は、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性二座配位子を表し；
Ｌが一座配位子である場合は、ｎは、２、３もしくは４であり、またはＬが一座配位子である場合は、ｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、ＩｒおよびＲｕよりなる群から選択される金属であって；０、１、２、３または４の酸化状態を有する金属であり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンであり；
アニオン配位子は、金属の酸化状態１、２、３または４の電荷と釣り合う）
に相当する。
【００９６】
上記の好ましいものおよび実施態様は、式Ｉの化合物に適用される。
【００９７】
非イオン性一座配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、アリル類（アリル、２−メタリル）、溶媒和する溶媒（ニトリル、鎖状または環状エーテル、アルキル化されていないか、またはＮ−アルキル化されたアミドおよびラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素および一酸化炭素よりなる群から選択することができる。
【００９８】
アニオン性一座配位子は、例えば、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン（シアニド、シアナート、イソシアナート）およびカルボン酸、スルホン酸およびホスホン酸のアニオン（カーボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）よりなる群から選択することができる。
【００９９】
非イオン性二座配位子は、例えば、鎖状または環状ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノニトリル）、アルキル化されていないか、またはＮ−アルキル化されたカルボキサミド、ジアミン類、ジホスフィン、ジオール、アセトニルアセトナート、ジカルボン酸ジエステルおよびジスルホン酸ジエステルよりなる群から選択することができる。
【０１００】
アニオン性二座配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸およびジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸およびメチレンジホスホン酸）のアニオン類よりなる群から選択することができる。
【０１０１】
好ましい金属錯体は、また、Ｅが−Ｃｌ-、−Ｂｒ-、−Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボラート、例えばＢ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-およびＢ（４−メチルフェニル）4-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-またはＳｂＦ6-であるものが挙げられる。
【０１０２】
ハロゲン化に特に適切である、非常に特に好ましい金属錯体は、式XIIIまたはXIV：
【０１０３】
【化４０】
【０１０４】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｍｅ2は、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィンまたはジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンである）
に相当する。
【０１０５】
上記の実施態様および好ましいものは、式Ｉの化合物に適用される。
【０１０６】
オレフィンＹは、Ｃ2−Ｃ12−、好ましくはＣ2−Ｃ6−および特に好ましくはＣ2−Ｃ4−オレフィンであることができる。例は、プロぺン、１−ブテンおよび特に、エチレンである。ジエンは、５〜１２個、好ましくは５〜８個の炭素原子を有することができ、開鎖状、環状または多環状ジエンであることができる。ジエンの２個のオレフィン基は、好ましくは、１個または２個のＣＨ2基である。例は、１，３−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−または１，５−ヘプタジエン、１，４−または１，５−シクロヘプタジエン、１，４−または１，５−オクタジエン、１，４−または１，５−シクロオクタジエンおよびノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは、２個のエチレンまたは１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンまたはノルボルナジエンを表す。
【０１０７】
式XVIにおいて、Ｚは好ましくはＣｌまたはＢｒである。Ｅ1の例は、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-またはＳｂＦ6-である。
【０１０８】
本発明の金属錯体は、文献で公知の方法により製造される（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１およびE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto（Eds.）、Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999およびその中に記載の参考文献）。
【０１０９】
本発明の金属錯体は、均一な触媒または触媒前駆体であって、プロキラルな不飽和有機化合物への不斉付加反応に使用することができる反応条件下で活性化することができる。
【０１１０】
金属錯体は、例えば、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子多重結合、特に二重結合を有するプロキラルな化合物の不斉水素化（水素の付加）に使用することができる。そのような可溶性で均一な金属錯体を用いる水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138 (1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを含有する。本発明によれば、ロジウムおよびイリジウムの錯体を水素化に使用することが好ましい。
【０１１１】
本発明の金属錯体は、また、炭素−炭素二重結合を有するプロキラルな有機化合物の不斉ヒドロホウ素化（水素化ホウ素の付加）用の触媒として使用することができる。そのようなヒドロホウ素化は、例えば、Tamio HayashiによりE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalyst I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,pp.351-364に記載されている。適切な水素化ホウ素は、例えば、カテコールボランである。キラルなホウ素化合物は、合成において使用することができ、および／または、キラルな中間体および活性な物質の製造用の有益な構造ブロックを表す他のキラルな有機化合物に、それ自体公知の方法で変換することができる。そのような反応の例は、ＤＥ１９８ ０７ ３３０明細書に記載のような）３−ヒドロキシテトラヒドロフランの製造である（。
【０１１２】
本発明の金属錯体は、また、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな有機化合物の不斉ヒドロシリル化（シランの付加）用の触媒として使用することができる。そのようなヒドロシリル化は、例えば、G. PiodaとA. TogliによりTetrahedron:Asymmetry, 1998, 9, 3093に、またはS. UemuraらによりChem. Commun. 1996, 847に記載されている。適切なシランは、例えば、トリクロロシランおよびジフェニルシランである。例えばＣ＝ＯおよびＣ＝Ｎ基のヒドロシリル化に対して、好ましいものは、ロジウムおよびイリジウムの錯体を用いることである。例えばＣ＝Ｃ基のヒドロシリル化に対して、好ましいものは、パラジウムの錯体を用いることである。キラルなシリル化合物は、合成において使用することができ、および／または、キラルな中間体および活性な物質の製造用の有益な構造ブロックを表す他のキラルな有機化合物に、それ自体公知の方法で変換することができる。そのような反応の例は、加水分解してアルコールを生成することである。
【０１１３】
本発明の金属錯体は、また、不斉アリル置換反応（炭素求核剤のアリル化合物への付加）用の触媒として使用することができる。そのようなアリル化は、例えば、A. Pfaltz とM. LautensによりE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalyst I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999, pp.833-884に記載されている。アリル化合物に対する適切な前駆体は、例えば、１，３−ジフェニル−３−アセトキシ−１−プロペンおよび３−アセトキシ−１−シクロヘキセンである。パラジウムの錯体をこの反応に使用することが好ましい。キラルなアリル化合物は、キラルな中間体および活性な物質の製造用の合成に使用することができる。
【０１１４】
本発明の金属錯体は、また、不斉アミノ化（アミンのアリル化合物への付加）用または不斉Ｈｅｃｋ反応における触媒として使用することができる。そのようなアミノ化は、例えば、A. PfaltzとM. LautensによりE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalyst I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,pp.833-884に記載されており、Ｈｅｃｋ反応はO. LoiseleurらによりJournal of Organometallic Chemistry 576 (1999), pp.16-22に記載されている。適切なアミンは、アンモニアならびに一級および二級アミンである。アリル化合物のアミノ化に対してパラジウムの錯体を使用することが好ましい。キラルなアミンは、キラルな中間体および活性な物質の製造用の合成に使用することができる。
【０１１５】
本発明は、さらに、プロキラルな有機化合物中の炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素またはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物の製造用の均一触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１１６】
本発明のさらなる態様は、触媒存在下のプロキラルな有機化合物中の炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素またはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物の製造方法であって、付加反応を、触媒量の本発明の金属錯体の少なくとも１種の存在下に行うことを特徴とする製造方法である。
【０１１７】
好ましい水素化されるプロキラルな不飽和化合物は、開鎖または環状有機化合物中に１個以上の、同一または異なるＣ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基を含有することができ、Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏ基は環系の一部であることができるか、環外の基である。プロキラルな不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケンならびに開鎖または環状ケトン、ケチミンおよびケトヒドラゾンであることができる。それらは、例えば、式Ｘに相当する。
【０１１８】
【化４１】
【０１１９】
［式中、Ｒ07およびＲ08は、化合物がプロキラルであるように選択され、各々互いに独立に、１〜３０個、好ましくは１〜２０個の炭素原子を有する、開鎖または環状炭化水素基であるか、またはＯ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するヘテロ炭化水素基であり；
Ｄは、Ｏまたは式Ｃ＝Ｒ09Ｒ010またはＮＲ011の基であり；
Ｒ09およびＲ010は、独立に、Ｒ07およびＲ08の意味の一つを有し；
Ｒ011は、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、Ｃ5〜Ｃ13−ヘテロアリール、Ｃ7〜Ｃ16−アラルキルまたはＣ6〜Ｃ14−ヘテロアラルキルであり；
Ｒ07とＲ08はそれらが結合している炭素原子と一緒に、３〜１２個の環原子を有する炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成し；
Ｒ07とＲ08は、各々の場合に、それらが結合しているＣ＝Ｃ基と一緒に、３〜１２個の環原子を有する炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成し；
Ｒ07とＲ011は、各々の場合に、それらが結合しているＣ＝Ｎ基と一緒に、３〜１２個の環原子を有する炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成し；
ヘテロ環中のヘテロ原子は、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択され；
Ｒ07、Ｒ08、Ｒ09、Ｒ010およびＲ011は、非置換であるか、またはＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、シクロヘキシル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ7〜Ｃ12−アラルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−Ｃ7〜Ｃ12−アラルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ7〜Ｃ12−アラルキル、−ＯＨ、＝Ｏ、−ＣＯ−ＯＲ012、−ＣＯ−ＮＲ013Ｒ014もしくは−ＮＲ013Ｒ014（ここで、Ｒ012は、Ｈ、アルカリ金属、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはベンジルであり、Ｒ013およびＲ014は、各々互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、シクロヘキシル、フェニルまたはベンジルであるか、Ｒ013およびＲ014は一緒に、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンチレンを形成する）で置換される］。
【０１２０】
置換基についての例と好ましいものは上記されている。
【０１２１】
Ｒ07およびＲ08は、例えば、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ12−アルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ1〜Ｃ20−ヘテロアルキル、好ましくはＣ1〜Ｃ12−ヘテロアルキル、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ−結合Ｃ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−ヘテロシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ3〜Ｃ11−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、好ましくはＣ4〜Ｃ8−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ6〜Ｃ14−アリール、好ましくはＣ6〜Ｃ10−アリール、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ5〜Ｃ13−ヘテロアリール、好ましくはＣ5〜Ｃ9−ヘテロアリール、Ｃ7〜Ｃ15−アラルキル、好ましくはＣ7〜Ｃ11−アラルキル、Ｏ、ＳおよびＮよりなる群から選択されるヘテロ原子を含有するＣ6〜Ｃ12−ヘテロアラルキル、好ましくはＣ6〜Ｃ10−ヘテロアラルキルであることができる。
【０１２２】
Ｒ07とＲ08、Ｒ07とＲ09またはＲ07とＲ011が、各々の場合に、それらが結合している基と一緒に、炭化水素環またはヘテロ炭化水素環を形成する場合、環は、好ましくは、４〜８個の環原子を有する。ヘテロ炭化水素環は、例えば、１〜３個、好ましくは１個または２個のヘテロ原子を含有する。
【０１２３】
Ｒ011は、好ましくは、水素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ4〜Ｃ10−ヘテロシクロアルキル、Ｃ4〜Ｃ10−ヘテロシクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール、Ｃ5〜Ｃ9−ヘテロアリール、Ｃ7〜Ｃ12−アラルキルまたはＣ5〜Ｃ13−ヘテロアラルキルである。
【０１２４】
不飽和有機化合物のいくつかの例は、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応する非置換またはＮ−置換アセトフェノンベンジルイミン、非置換または置換ベンゾシクロヘキサノンまたはベンゾシクロペンタノンおよび対応するイミン、非置換または置換テトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジンおよびジヒドロピロールよりなる群からのイミン、ならびに不飽和カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボキサミドおよびカルボン酸塩、例えばα−および可能なβ−置換アクリル酸またはクロトン酸である。好ましいカルボン酸は、式：
【０１２５】
【化４２】
【０１２６】
［式中、Ｒ012は、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、非置換Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、または１〜４個のＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基もしくは非置換Ｃ6〜Ｃ10−アリール、好ましくはフェニルで置換されたＣ3〜Ｃ8−シクロアルキル、あるいは、１〜４個のＣ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ基で置換されたＣ6〜Ｃ10−アリール、好ましくはフェニルであり、Ｒ013は、直鎖状または分枝状のＣ1〜Ｃ6−アルキル（例えばイソプロピル）、非置換シクロペンチル、シクロヘキシルもしくはフェニルまたは上記のように置換されたシクロペンチル、シクロヘキシルもしくはフェニルまたは保護されたアミノ（例えばアセチルアミノ）である］の酸、ならびにその塩、エステルおよびアミドである。
【０１２７】
本発明の方法は、低温または高温、例えば、−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃で行うことができる。光学収率は、一般に、高温よりも低温のほうが、良好である。
【０１２８】
本発明の方法は、大気圧または大気圧を超えた圧力で行うことができる。圧力は、例えば、１０5〜２´１０7Ｐａ（パスカル）である。水素化は、大気圧または大気圧を超えた圧力で行うことができる。より良好な選択性は、しばしば、大気圧で観察される。
【０１２９】
触媒は、水素化される化合物に対して、好ましくは、０．０００１〜１０モル％、特に好ましくは、０．００１〜１０モル％、特には、０．０１〜５モル％の量で使用される。
【０１３０】
配位子および触媒の調製ならびにまた付加反応は、無溶媒であるいは不活性溶媒の存在下に行うことができ、単一溶媒または溶媒混合物を使用することができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンおよびテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステルおよびラクトン（酢酸エチルまたはメチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換ラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環状尿素（ジメチルイミダゾリン）ならびにスルホキシドおよびスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）ならびにアルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル）および水である。溶媒は、単独で、あるいは少なくとも２種の溶媒の混合物として使用することができる。
【０１３１】
反応は、助触媒、例えば、ハロゲン化四級アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下に、および／またはプロトン酸、例えば、無機酸の存在下に行うことができる（例えば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４およびＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１ならびにＥＰ−Ａ−０６９１９４９の各明細書参照）。助触媒は、特に水素化に対して有用である。
【０１３２】
触媒として使用される金属錯体は、別個に調製された単離化合物として添加することができ、あるいは、別法として、反応に先立ってインサイチュで形成し、次いで水素化する基質と混合することができる。配位子は、単離金属錯体を用いる場合には、反応中に追加的に添加すること、あるいはインサイチュで調製する場合には、過剰量の配位子を使用することが好都合である。過剰量とは、調製に使用される金属化合物に対して、例えば、１〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
【０１３３】
本発明の方法は、一般的には、最初に触媒を入れ、次いで、基質、適当ならば、反応助剤および添加すべき化合物を加え、続いて、反応を開始させることにより行われる。添加すべき気体状の化合物、例えば水素またはアンモニアは、加圧下に導入することが好都合である。方法は、様々な種類の反応器中で、連続的に、あるいはバッチ式に行うことができる。
【０１３４】
本発明に従って製造することができるキラルな有機化合物は、特に医薬および農薬の製造分野における活性物質またはそのような物質の製造用の中間体である。
【０１３５】
以下の実施例は、本発明を説明する
【０１３６】
Ａ）ハロホスフィンの調製
全ての反応は、乾燥溶媒中、不活性気体下に行われる。
【０１３７】
実施例Ａ１：下記化合物の調製
【０１３８】
【化４３】
【０１３９】
アルゴンを導入している５００mlの丸底フラスコ中で、ＰＣｌ3（７．３８ｇ，５３．７５mmol）を、アルゴン下に乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、１５０ml）に溶解し、溶液を氷浴中で０℃に冷却した。トリエチルアミン（１１．９７ｇ、１１８．２５mmol、２．２０当量）を滴下し、次いで、（Ｓ）−メトキシメチルピロリジン（１２．６９ｇ、１１０．１９mmol、２．０５当量）を徐々に滴下した。滴下中に、白色析出物の生成が観察された。氷浴を取り去り、得られた懸濁液を室温で一晩（１４ｈ）撹拌した。生成した白色析出物を、両端が相似のフリットフィルターを用いて濾去し、乾燥ＴＨＦ（２×２５ml）で洗浄した。得られた黄色がかった濾液の31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）スペクトルを記録した。このようにして得られた溶液を、さらに精製することなく反応させた。
【０１４０】
【表１】
【０１４１】
実施例Ａ２：下記化合物の調製
【０１４２】
【化４４】
【０１４３】
実施例Ａ１の方法を、（Ｒ）−メトキシメチルピロリジンを用いて繰り返した。
【０１４４】
Ｂ）芳香族モノホスフィンの調製
【０１４５】
実施例Ｂ１：下記化合物の調製
【０１４６】
【化４５】
【０１４７】
アルゴンを導入している１ｌ丸底フラスコ中で、フェロセン（１０．００ｇ、５３．７５mmol）およびカリウムｔ−ブトキシド（７５４mg、６．７２mmol、０．１２５当量）をアルゴン下に乾燥ＴＨＦ（１００ml）に溶解した。溶液を−７８℃に冷却し、ｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．５Ｍ；７１．６７ml、１０７．５０mmol、２．００当量）を４５分かけて滴下した。溶液を−７８℃で１．５時間撹拌し、ｎ−ヘプタン（７５ml）と混合した。得られた析出物を沈殿させ、上澄み液をアルゴン圧下にカニューレを用いて−７８℃で除去した。析出物を−７８℃でｎ−ヘプタン（６０ml）で洗浄し、洗液をもう一度、アルゴン圧下にカニューレを用いて除去した。この手順を３回繰り返した。得られた析出物を乾燥ＴＨＦ（５０ml）に溶解し、ＴＨＦ（２００ml）中の溶液Ａ１（５３．７５ml、１．００当量）を−７８℃で１．５時間かけて滴下した。室温まで暖めながら、溶液を一晩（１４ｈ）撹拌した。引き続き、ボラン−硫化ジメチル錯体（５．１０ml、５３．７５mmol、１．００当量）を滴下し、混合物を室温で一晩撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液（５０ml）で加水分解し、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）（３´１００ml）で抽出した。合わせた有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。粗生成物（２４．１８ｇ）をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ５：１）で精製した。標題化合物（１７．２３ｇ、理論値の７０％）が橙色固体として得られた。
【０１４８】
【表２】
【０１４９】
実施例Ｂ２：下記化合物の調製
【０１５０】
【化４６】
【０１５１】
実施例Ｂ１の方法を、化合物Ａ１の代わりにＡ２を用いて繰り返した。
【０１５２】
実施例Ｂ３：下記化合物の調製
【０１５３】
【化４７】
【０１５４】
ヘキサン中の１．６モル濃度のｎ−ブチルリチウム溶液１７．９mmolを、−７８℃でＴＨＦ１５ml中のブロモフェロセン４．５３ｇ（１７．１mmol）の溶液に徐々に加え、混合物をこの温度で１０分間撹拌した。次いで、温度を０〜５℃に上げ（氷冷）、ＴＨＦ７８ml中の実施例Ａ２の化合物１８．８mmolの溶液を滴下し、混合物を室温で一晩撹拌した。引き続き、溶媒を取り除き、粗生成物をショートカラム（Flukaからのシリカゲル６０、溶離液：ＴＢＭＥ）で精製した。着色画分をロータリーエバポレーターで蒸留して、橙色のほぼ固体の油状物を得た。
【０１５５】
【表３】
【０１５６】
Ｃ）一級フェロセン−ホスフィンの調製
実施例Ｃ１：フェロセン−１，２−ジホスフィンの調製
【０１５７】
【化４８】
【０１５８】
ａ）下記化合物の調製
【０１５９】
【化４９】
【０１６０】
アルゴンを導入している５０ml丸底フラスコ中で、実施例Ｂ２の化合物（１．００ｇ、２．１８mmol）をｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）（５．００ml）およびｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解し、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これにより、原料が黄色固体として析出した。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下した。この滴下の間に、黄色固体は徐々に溶液になり、溶液は橙赤色となり、約３０分後、橙色固体が析出した。−３０℃で２時間撹拌した後、ＣＩＰ（Ｎｅｔｈｙｌ2）2（５５１mg、２．６２ml、１．２当量）を加え、冷却浴を取り去り、懸濁液を室温まで暖めながら、２時間撹拌した。引き続き、ＢＨ3・ＳＭｅ2（０．２５ml、２．６２mmol、１．２当量）を滴下し、懸濁液を室温で一晩（１４ｈ）撹拌した。反応混合物を飽和ＮａＣｌ溶液（５０ml）で加水分解し、ＴＢＭＥ（５０ml）を加え、橙色相を分離し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒をロータリーエバポレーターで留去し、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘプタン／ＴＢＭＥ５：１）で精製した。フェロセニル化合物（１．１０ｇ、１．７１mmol、７８％）が橙色固体の形態で得られた。
【０１６１】
【表４】
【０１６２】
ｂ）下記化合物の調製
【０１６３】
【化５０】
【０１６４】
ボラン基を除去するために、ａ）に記載したように調製された化合物１．００ｇ（１．８７mmol）をジエチルアミン５mlに入れ、５０℃で一晩撹拌した。引き続き、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。得られた残渣をジエチルアミン（毎回２．００ml）中に３回入れ、５０℃で３０分間撹拌し、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した（３０分間）。残渣を乾燥ＴＢＭＥ（２ml）中に２回入れ、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。保護を除去した生成物が残り、精製せずに、さらに工程ｃ）で使用した。
【０１６５】
【表５】
【０１６６】
ｃ）下記化合物の調製
【０１６７】
【化５１】
【０１６８】
ｂ）に記載したように調製された反応生成物をＴＢＭＥ５mlに溶解し、０℃で、ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｎ）８mmolを撹拌しながら滴下した。引き続き、反応溶液を、デカンテーションによりアンモニウム化合物中の析出物から分離し、揮発性成分をロータリーエバポレーターでアルゴン下に除去した。残渣を工程ｄ）で直接使用した。
【０１６９】
【表６】
【０１７０】
ｄ）標題化合物の調製
水素化リチウムアルミニウム０．４３ｇ（１１．２０mmol）をアルゴン下に無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０ml中に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｃ）に記載したように調製された粗生成物を無水ＴＨＦ５mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウムの冷却懸濁液に滴下した。反応混合物をこの温度で３０分間、次いで、２０℃で３０分間撹拌した。２Ｎ ＮａＯＨ３．８mlを懸濁液に滴下し、上澄み液を濾去し、エバポレートして標題化合物を単離した。
【０１７１】
【表７】
【０１７２】
実施例Ｃ２：下記化合物の調製
【０１７３】
【化５２】
【０１７４】
ａ）下記化合物の調製
【０１７５】
【化５３】
【０１７６】
ｓ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３モル濃度）９．５mmolを、−４０℃で、６０mlのヘキサン／ＴＢＭＥ１：１中の実施例Ｂ２の化合物４．０５ｇ（８．８０mmol）の溶液に滴下した。反応混合物を、さらに、この温度で２時間撹拌した。引き続き、クロロジフェニルホスフィン９．４３mmolを、得られた橙色懸濁液に加えた。次いで、反応混合物を、撹拌しながら徐々に室温まで暖めた。２時間一晩撹拌した後、混合物を水／塩化メチレンで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧下に留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液＝ヘキサン／ＴＢＭＥ６：１）で精製して、所望の生成物を橙色結晶性物質として、収率８５％で得た。
【０１７７】
【表８】
【０１７８】
ｂ）下記化合物の調製
【０１７９】
【化５４】
【０１８０】
ボラン基を除去するために、ａ）に記載したように調製された化合物４００mg（０．６２mmol）をジエチルアミン５mlに入れ、５０℃で一晩撹拌した。引き続き、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。得られた残渣をジエチルアミン（毎回２．００ml）中に３回入れ、５０℃で３０分間撹拌し、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した（３０分間）。残渣をＴＢＭＥ（２ml）中に２回入れ、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。ＢＨ3を含まない生成物が残り、精製せずに、さらに工程ｃ）で使用した。
【０１８１】
【表９】
【０１８２】
ｃ）下記化合物の調製
【０１８３】
【化５５】
【０１８４】
ｂ）に記載したように調製された反応生成物をＴＢＭＥ５mlに溶解し、０℃で、ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｎ）２．６mmolを撹拌しながら滴下した。引き続き、反応溶液を、デカンテーションにより析出したアンモニウム化合物から分離し、揮発性成分をロータリーエバポレーターでアルゴン下に除去した。残渣を工程ｄ）で直接使用した。
【０１８５】
【表１０】
【０１８６】
ｄ）標題化合物Ｃ２の調製
水素化リチウムアルミニウム２mmolをアルゴン下に無水ＴＨＦ３ml中に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｃ）に記載したように調製された粗生成物を無水ＴＨＦ３mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウムの冷却懸濁液に滴下した。反応混合物をこの温度で３０分間、次いで、２０℃で３０分間撹拌した。２Ｎ ＮａＯＨ０．８mlを懸濁液に滴下し、上澄み液を濾去し、エバポレートして標題化合物を単離した。
【０１８７】
【表１１】
【０１８８】
ｄ２）標題化合物Ｃ２’の調製
実施例Ｃ２の手順を、工程ａ）中のＢ２の代わりに化合物Ｂ１を用いて、繰り返した。
【０１８９】
実施例Ｃ３：下記化合物の調製
【０１９０】
【化５６】
【０１９１】
ａ）下記化合物の調製
【０１９２】
【化５７】
【０１９３】
ｓ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３モル濃度）９．４３mmolを、−４０℃で、６０mlのヘキサン／ＴＢＭＥ１：１中の実施例Ｂ１の化合物４ｇ（８．７０mmol）の溶液に滴下した。反応混合物を、さらに、この温度で２時間撹拌した。引き続き、塩化ビス（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）ホスフィン９．４３mmolを、得られた橙色懸濁液に加えた。次いで、反応混合物を、撹拌しながら徐々に室温まで暖めた。２時間撹拌した後、混合物を水／ＴＢＭＥで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧下に留去した。カラムクロマトグラフィーで精製して、所望の生成物を黄色結晶性物質として、収率７４％で得た。
【０１９４】
【表１２】
【０１９５】
ｂ）下記化合物の調製
【０１９６】
【化５８】
【０１９７】
ＨＣｌ（ジエチルエーテル溶液）１８．５mmolを、０℃で、ＴＨＦ２０ml中の化合物ａ）２．３４ｇ（３．０８mmol）の溶液に徐々に滴下した。次いで、冷却を取り除き、混合物をさらに２時間撹拌した。試料の31Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6、１２１ＭＨｚ）スペクトルは、以下のシグナルを示した：１６５（ＰＣｌ2）、１６（ブロード、Ｐ（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）2−ボラン付加体。混合物を短時間反応させると、いくらかの遊離のＰ（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）2を、−２８ｐｐｍの領域で、観察することもできた。
【０１９８】
ｃ）標題化合物Ｃ３の調製
工程ｂ）に記載したように得られたジクロロホスフィンを、精製せずに、さらに反応させた。０℃に冷却後、水素化リチウムアルミニウム３０mmolをその都度少しずつ、ゆっくりと加えた。室温で２時間撹拌後、混合物を０℃に冷却し、水１０mlを徐々に滴下した。硫酸ナトリウムを得られた灰色懸濁液に加えた。有機相が分離した。これを分離し、混合物をヘプタンで何回も洗浄した。有機相を合わせて、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去した後、粗生成物をＴＢＭＥに溶解し、何時間も５０℃でジエタノールアミンの存在下に撹拌し、ボランを除去した。続いて、ＴＢＭＥを、水、１Ｎ ＨＣｌそして再び水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、最後に減圧下で留去した。所望の生成物が赤色油状物として良い収率で得られ、精製することなく、さらに使用した。
【０１９９】
【表１３】
【０２００】
実施例Ｃ４：下記化合物の調製
【０２０１】
【化５９】
【０２０２】
ａ）調製
ｓ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３モル濃度）９．４３mmolを、−４０℃で、６０mlのヘキサン／ＴＢＭＥ１：１中の実施例Ｂ１の化合物４ｇ（８．７０mmol）の溶液に滴下した。反応混合物を、さらに、この温度で２時間撹拌した。引き続き、塩化ジフリルホスフィン９．４３mmolを、得られた橙色懸濁液に加えた。次いで、反応混合物を、撹拌しながら徐々に室温まで暖めた。２時間撹拌した後、混合物を水／ジクロロメタンで抽出し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで減圧下に留去した。固体粗生成物をメタノールから再結晶により精製した。生成物を黄色結晶性物質として、収率７２％で得た。
【０２０３】
【表１４】
【０２０４】
ｂ）下記化合物の調製
【０２０５】
【化６０】
【０２０６】
ＨＣｌ（ジエチルエーテル溶液）１８．５mmolを、０℃で、３０分かけて、ＴＨＦ２０ml中の化合物ａ）２．０ｇ（３．２２mmol）の溶液に徐々に滴下した。次いで、冷却を取り除き、混合物をさらに２時間撹拌した。薄く着色した析出物および赤色油状物が赤色溶液中で生成した。析出物を濾去した後、反応混合物をＮＭＲを用いて測定した。
【０２０７】
【表１５】
【０２０８】
ｃ）標題化合物の調製
工程ｂ）に記載したように得られたジクロロホスフィンを、精製せずに、さらに反応させた。０℃に冷却後、水素化リチウムアルミニウム３２mmolをその都度少しずつ、ゆっくりと加えた。室温で３時間撹拌後、混合物を０℃に冷却し、水１０mlを徐々に滴下した。硫酸ナトリウムを得られた灰色懸濁液に加えた。有機相が分離した。これを分離し、混合物を何回かヘプタンで洗浄した。有機相を合わせ、０．５モル濃度のメタンスルホン酸、続いて水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去した。所望の生成物が橙色油状物として良い収率で得られ、精製することなく、さらに使用した。
【０２０９】
【表１６】
【０２１０】
実施例Ｃ５：下記化合物の調製
【０２１１】
【化６１】
【０２１２】
ａ）下記化合物の調製
【０２１３】
【化６２】
【０２１４】
アルゴンを導入している５０ml丸底フラスコ中で、化合物Ｂ２（１．００ｇ、２．１８mmol）を乾燥ＴＢＭＥ（５．００ml）およびｎ−ヘキサン（５．００ml）に溶解し、得られた溶液を−３０℃に冷却した。これにより、原料が黄色固体として析出した。ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中１．３Ｍ；１．７６ml、２．２９mmol、１．０５当量）を滴下した。この滴下の間に、黄色固体は徐々に溶液になり、溶液は橙赤色となり、約３０分後、橙色固体が析出した。
【０２１５】
−３０℃で２時間撹拌した後、ＢｒＦ2Ｃ−ＣＦ2Ｂｒ（６８０mg、２．６２ml、１．２当量）を滴下し、冷却浴を取り去り、懸濁液を室温まで暖めながら、２時間撹拌した。反応混合物をロータリーエバポレーターで高真空で蒸発乾固させ、さらに、精製せずに工程ｂ）で使用した。
【０２１６】
【表１７】
【０２１７】
ｂ）下記化合物の調製
【０２１８】
【化６３】
【０２１９】
ボラン基を除去するために、ａ）に記載したように調製された残渣をジエチルアミン５mlに入れ、５０℃で一晩撹拌した。引き続き、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。得られた残渣をジエチルアミン（毎回２．００ml）中に３回入れ、５０℃で３０分間撹拌し、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した（３０分間）。残渣をＴＢＭＥ（２ml）中に２回入れ、全ての揮発性成分を５０℃でオイルポンプ真空で除去した。これにより、保護を除去した生成物が残り、それは、精製せずに、さらに工程ｃ）で使用した。
【０２２０】
ｃ）下記化合物の調製
【０２２１】
【化６４】
【０２２２】
ｂ）に記載したような反応生成物をＴＢＭＥ５mlに溶解し、０℃で、ＨＣｌ溶液（ジエチルエーテル中２Ｎ）２．６mmolを撹拌しながら滴下した。引き続き、反応溶液を、デカンテーションにより析出したアンモニウム化合物から分離し、揮発性成分をロータリーエバポレーターでアルゴン下に除去した。残渣を工程ｄ）で直接使用した。
【０２２３】
【表１８】
【０２２４】
ｄ）標題化合物の調製
水素化リチウムアルミニウム２mmolをアルゴン下に無水ＴＨＦ８ml中に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｃ）に記載したように調製された粗生成物を無水ＴＨＦ８mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウムの冷却懸濁液に滴下した。反応混合物をこの温度で３０分間、次いで、２０℃で３０分間撹拌した。２Ｎ ＮａＯＨ１．７mlを懸濁液に滴下し、上澄み液を濾去し、エバポレートして橙色標題化合物を単離した。粗生成物を、さらに、実施例Ｄ１で直接使用した。
【０２２５】
Ｄ）１−ハロ−２−ホスホラニルフェロセンの調製
実施例Ｄ１：下記化合物の調製
【０２２６】
【化６５】
【０２２７】
実施例Ｃ５ｄからの粗生成物０．３０ｇ（１mmol）を無水ＴＨＦ５mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１ml（１mmol）と混合した。得られた赤色溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−オクタン−３，６−ジオールスルファート０．２２ｇ（１．２０mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２mlを室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水８mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発乾固させた。これにより、標題化合物を橙色の固体生成物として得た。
【０２２８】
Ｅ）本発明に係るフェロセン−ジホスフィンの調製
実施例Ｅ１：下記化合物の調製
【０２２９】
【化６６】
【０２３０】
標題化合物Ｃ１ ０．５５ｇ（２．２０mmol）を無水ＴＨＦ１０mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液２．２ml（２．２mmol）と混合した。赤色溶液を、（３Ｒ，６Ｒ）−オクタン−３，６−ジオールスルファート０．９６ｇ（５．３０mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液７mlを室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水２０mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去した。これにより、標題化合物０．８４８ｇ（８２％）を得た。
【０２３１】
【表１９】
【０２３２】
実施例Ｅ２：下記化合物の調製
【０２３３】
【化６７】
【０２３４】
標題化合物Ｃ２ ０．４ｇ（１mmol）を無水ＴＨＦ５mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１ml（１mmol）と混合した。赤色溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−オクタン−３，６−ジオールスルファート０．２２ｇ（１．２０mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２mlを室温で滴下し、混合物をさらに６０分間撹拌した。水８mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去した。これにより、標題化合物を橙色の固体として得た。
【０２３５】
実施例Ｅ３：下記化合物の調製
【０２３６】
【化６８】
【０２３７】
標題化合物Ｃ１ ０．７ｇ（３．８０mmol）を無水ＴＨＦ１０mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量と混合した。赤色溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート１．２１ｇ（６．７２mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液３．４モル当量を室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水２０mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去した。これにより、標題化合物０．６０ｇ（５２％）を得た。
【０２３８】
【表２０】
【０２３９】
実施例Ｅ４：下記化合物の調製
【０２４０】
【化６９】
【０２４１】
標題化合物Ｃ１ ６．７２ｇ（２６．８８mmol）を無水ＴＨＦ１００mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量と混合した。赤色溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールジトシラート１０．１７ｇ（５６．４５mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中の１Ｎリチウムジイソプロピルアミド３．４モル当量を室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。次いで、水２０mlを加え、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（ペンタン：ジエチルエーテル、４：１）で精製した。これにより、標題化合物４．４７ｇ（４０％）を得た。ＮＭＲスペクトルは、実施例Ｅ３の化合物のそれらと対応した。
【０２４２】
実施例Ｅ５：下記化合物の調製
【０２４３】
【化７０】
【０２４４】
標題化合物Ｃ１ ０．６ｇ（２．４０mmol）を無水ＴＨＦ１０mlに溶解し、脱気し、次いで、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量と混合した。赤色溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−２，７−ジメチルオクタン−２，５−ジオールスルファート１．３６ｇ（５．７６mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中の１Ｎリチウムジイソプロピルアミド３．４モル当量を室温で加え、混合物をさらに６０分間撹拌した。水２０mlを加え、次いで、混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで蒸発し、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（ペンタン：ジエチルエーテル、４：１）で精製した。これにより、標題化合物０．８５ｇ（６７％）を得た。
【０２４５】
【表２１】
【０２４６】
実施例Ｅ６：下記化合物の調製
【０２４７】
【化７１】
【０２４８】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ１２ml中の標題化合物Ｃ２’ ４１０mg（１．０２mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート２２１mg（１．２２mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：酢酸エチル）で精製した。生成物を４５％の収率で単離した。
【０２４９】
【表２２】
【０２５０】
実施例Ｅ７：下記化合物の調製
【０２５１】
【化７２】
【０２５２】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ１２ml中の標題化合物Ｃ２’ ４３６mg（１．０９mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート２３５mg（１．３mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：酢酸エチル）で精製した。生成物を４０％の収率で単離した。
【０２５３】
【表２３】
【０２５４】
実施例Ｅ８：下記化合物の調製
【０２５５】
【化７３】
【０２５６】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ１０ml中の標題化合物Ｃ２’ ４５０mg（１．１２mmol）の溶液に加えた。溶液を、（３Ｓ，６Ｓ）−２，７−ジメチルオクタン−２，５−ジオールスルファート２９５mg（１．３４mmol）に滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：酢酸エチル）で精製した。生成物を５０％の収率で単離した。
【０２５７】
【表２４】
【０２５８】
実施例Ｅ９：下記化合物の調製
【０２５９】
【化７４】
【０２６０】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、無水ＴＨＦ２０ml中の標題化合物Ｃ３ １．１３ｇ（３．０８mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート３．７mmolに滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物を酢酸エチル／１０％水性ＮａＢＦ4で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。橙色生成物が収率８０％で得られた。必要ならば、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ ３：１）で精製することができる。
【０２６１】
【表２５】
【０２６２】
実施例Ｅ１０：下記化合物の調製
【０２６３】
【化７５】
【０２６４】
ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．０５モル当量を、ＴＨＦ１０ml中の標題化合物Ｃ４ ４００mg（１．０５mmol）の溶液に加えた。溶液を、（２Ｒ，５Ｒ）−ヘキサン−２，５−ジオールスルファート１．２６mmolに滴下した。さらに、ＴＨＦ中のリチウムジイソプロピルアミドの１Ｎ溶液１．２モル当量を室温で滴下し、混合物をさらに１時間撹拌した。溶媒を留去した後、粗生成物を酢酸エチル／１０％水性ＮａＢＦ4で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。橙色生成物が収率７６％で得られた。必要ならば、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、溶離液：ヘプタン／ＴＢＭＥ ３：１）で精製することができる。
【０２６５】
【表２６】
【０２６６】
実施例Ｅ１１：ホスホニウム塩、すなわち、１，２−ビス（２，５−ジメチルホスホラノ）フェロセニルビス（へキサフルオロホスファート）
【０２６７】
【化７６】
【０２６８】
１９２mg（０．４６mmol）の式１を、ジクロロメタン２mlに溶解し、０℃でＨＰＦ6（水中６５％）１３５μｌ（０．９２mmol）と混合した。混合物から溶媒を留去した。ジエチルエーテル５mlで処理して、黄色固体（３２７mg、８６％）を得た。
【０２６９】
【表２７】
【０２７０】
Ｆ）金属錯体の調製
実施例Ｆ１：ロジウム錯体の調製
その重量の５倍のＴＨＦ中の［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4の懸濁液１当量を、撹拌しながら６５℃に加熱した。続いて、その重量の５倍のＴＨＦ中の実施例Ｅ１のジホスフィン１当量の溶液を、２０分にわたって滴下した。次いで、ＴＢＭＥ４mlを反応溶液に滴下した。一晩徐々に冷却すると、結晶が形成し、それを、濾過で単離し、ＴＨＦで洗浄した。減圧下に母液から完全にエバポレートし、残渣をＴＢＭＥに入れ、超音波浴中でガラス棒でこすった。これにより、黄色結晶が生成した。懸濁液を０℃に冷却し、３時間放置し、濾過した。ＴＢＭＥで洗浄後、これらの結晶を集め、高真空で乾燥した。両方の結晶画分は、同じＮＭＲスペクトルを有していた。
【０２７１】
【表２８】
【０２７２】
実施例Ｆ２：下記化合物の調製
【０２７３】
【化７７】
【０２７４】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ４からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率９０％で得た。
【０２７５】
【表２９】
【０２７６】
実施例Ｆ３：下記化合物の調製
【０２７７】
【化７８】
【０２７８】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ１からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率８７％で得た。
【０２７９】
【表３０】
【０２８０】
実施例Ｆ４：下記化合物の調製
【０２８１】
【化７９】
【０２８２】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ５からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率６７％で得た。
【０２８３】
【表３１】
【０２８４】
実施例Ｆ５：下記化合物の調製
【０２８５】
【化８０】
【０２８６】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ６からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率７０％で得た。
【０２８７】
【表３２】
【０２８８】
実施例Ｆ６：下記化合物の調製
【０２８９】
【化８１】
【０２９０】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ７からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率８５％で得た。
【０２９１】
【表３３】
【０２９２】
実施例Ｆ７：下記化合物の調製
【０２９３】
【化８２】
【０２９４】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ８からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率５５％で得た。
【０２９５】
【表３４】
【０２９６】
実施例Ｆ８：下記化合物の調製
【０２９７】
【化８３】
【０２９８】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ９からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率３５％で得た。
【０２９９】
【表３５】
【０３００】
実施例Ｆ９：下記化合物の調製
【０３０１】
【化８４】
【０３０２】
実施例Ｆ１での一般法を用いて、実施例Ｅ１０からの化合物を［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4と反応させて、標題化合物を収率６２％で得た。
【０３０３】
【表３６】
【０３０４】
Ｇ）使用例
使用例においては、変換率と光学収率（エナンチオ過剰、ｅｅ）の双方とも、最適化されていない。
【０３０５】
実施例Ｇ１：イタコン酸ジメチルの水素化（単離Ｒｈ錯体を用いる水素化）
【０３０６】
【化８５】
【０３０７】
実施例Ｆ１のロジウム錯体３．８５mg（０．００５mmol）を、磁気撹拌器および気体と真空用結合部を有する２５mlフラスコに入れた。フラスコをセプタムを用いて封をし、多数回の排気とアルゴン導入によりアルゴンで満たした。メタノール４ml中のイタコン酸ジメチル１５８mg（１mmol）の脱気溶液を、針を有する注射器を用いてセプタムを通して加え、混合物を１０分間撹拌した。撹拌器のスイッチを切り、真空と水素の導入（大気圧）を適用することによりフラスコをアルゴンで満たし、水素導入管を開いたままとした。撹拌器のスイッチを入れて、水素化を開始した。１時間後、撹拌器のスイッチを切り、反応溶液をキラルカラム（Chirasil-L-val）を有するガスクロマトグラフィーで分析した。変換率は定量的であり、水素化生成物（メチルコハク酸ジメチル）の光学収率ｅｅは９９％超であった。
【０３０８】
実施例Ｇ２：イタコン酸ジメチルの水素化
水素化を、実施例Ｆ５のロジウム錯体を用いて、実施例Ｇ２と同様の方法により行った。変換率は定量的であり、水素化生成物（メチルコハク酸ジメチル）の光学収率ｅｅは９８％より超であった。
【０３０９】
実施例Ｇ３：イタコン酸ジメチルの水素化（インサイチュで調製された触媒を用いる水素化）
実施例Ｅ９の配位子（０．００５５mmol）を、磁気撹拌器および気体と真空用結合部を有する２５mlフラスコに入れた。フラスコをセプタムを用いて封をし、多数回の排気とアルゴン導入によりアルゴンで満たした。メタノール１ml中の［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4 ０．００５mmolの脱気溶液を、針を有する注射器を用いてセプタムを通して入れ、溶液を５分間撹拌し、続いて、メタノール４ml中のイタコン酸ジメチル１５８mg（１mmol）の溶液を加え、混合物を１０分間撹拌した。撹拌器のスイッチを切り、真空と水素の導入（大気圧）を適用することによりフラスコを水素で満たし、水素導入管を開いたままとした。撹拌器のスイッチを入れて、水素化を開始した。１時間後、撹拌器のスイッチを切り、反応溶液をキラルカラム（Chirasil-L-val）を有するガスクロマトグラフィーで分析した。変換率は定量的であり、水素化生成物（メチルコハク酸ジメチル）の光学収率ｅｅは９７％超であった。
【０３１０】
実施例Ｇ４：以下の化合物の水素化
【０３１１】
【化８６】
【０３１２】
実施例Ｅ４の配位子（０．０１１mmol）を、磁気撹拌器および気体と真空用結合部を有する２５mlフラスコに入れた。フラスコをセプタムを用いて封をし、多数回の排気とアルゴン導入によりアルゴンで満たした。メタノール１ml中の［Ｒｈ（ノルボルナジエン）2］ＢＦ4０．０１mmolの脱気溶液を、針を有する注射器を用いてセプタムを通して入れ、溶液を５分間撹拌し、続いて、メタノール４ml中のＮ−アセチルシクロヘキシリデングリシンメチルエステル１mmolの溶液を加え、混合物を１０分間撹拌した。撹拌器のスイッチを切り、真空と水素の導入（大気圧）を適用することによりフラスコを水素で満たし、水素導入管を開いたままとした。撹拌器のスイッチを入れて、水素化を開始した。１晩撹拌後、撹拌器のスイッチを切り、反応溶液をキラルカラム（Chirasil-L-val）を有するガスクロマトグラフィーで分析した。変換率は８０％超であり、Ｎ−アセチルシクロヘキシルグリシンメチルエステルの光学収率ｅｅは９１％であった。
【０３１３】
実施例Ｇ５：以下の化合物の水素化
【０３１４】
【化８７】
【０３１５】
水素化は、アセトアミドケイ皮酸メチルＥ５を用いて、実施例Ｇ４と同様な方法で行った。ガスクロマトグラフィー（Chirasil-L-val）によれば、変換率は定量的であり、光学収率ｅｅは９７％であった。
【０３１６】
実施例Ｇ６：以下の化合物の水素化
【０３１７】
【化８８】
【０３１８】
水素化は、アセトアミドケイ皮酸を用いて、実施例Ｇ４と同様な方法で行った。生成物を、ジアゾメタンを用いて対応するメチルエステルに変換し、ガスクロマトグラフィー（Chirasil-L-val）により分析した。変換率は定量的であり、光学収率ｅｅは９７％であった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉの化合物
【化１】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィン基は、非置換もしくは置換の環状ホスフィノ基であるか、あるいは１個もしくは２個の一価のアニオンまたは１個の二価のアニオンを有するそのホスホニウム塩である）。
【請求項２】
環状ｓｅｃ−ホスフィノが、式II、IIａ、IIｂまたはIIｃに相当するものである、請求項１に記載の化合物
【化２】
（これらは、非置換であるか、あるいは１個以上の−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシまたはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシ基で置換されている）。
【請求項３】
置換基が、Ｐ原子に対して、片方または両方のα位に存在する、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
式Ｉの化合物が、式IIIまたはIVに相当するものである、請求項１に記載の化合物
【化３】
［式中、Ｒ2およびＲ3は、各々互いに独立に、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、非置換であるか、あるいはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、ジ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルによって置換されており、
Ｙは、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）−または式：
【化４】
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、各々互いに独立に、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはベンジルであり、基Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の少なくとも１個は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである）の基であり、
Ｒ10は、ＨまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ11は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである］。
【請求項５】
ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉ：
【化５】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィノは、非置換または置換の環状ホスフィノ基である）
の化合物の製造方法であって、工程：
ａ）式Ｖ：
【化６】
（式中、Ｘ1およびＸ2は、各々互いに独立に、ＯまたはＮであり、Ｃ−結合炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、ＯおよびＮ原子の空き結合に結合している）
の化合物を、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物または脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドと反応させて、式VI：
【化７】
（式中、Ｍは、−Ｌｉまたは−ＭｇＸ3であり、Ｘ3は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成し、
ｂ）式VIの化合物を、少なくとも当量のハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィン、ハロゲン化ジアルコキシホスフィン、ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）、ハロゲン化ジアルコキシ−Ｐ（Ｏ）またはＰＣｌ3もしくはＰＢｒ3と反応させて、式VII：
【化８】
（式中、Ｒ12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2、ジ（ｓｅｃ−アミノ）Ｐ−、ジアルコキシＰ−、ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）−、ジアルコキシＰ（Ｏ）−である）
の化合物を形成し、そして
ｂ１）存在する全てのボラン基を式VIIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式VIIIの化合物を形成するか、または
ｂ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、式VIIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式VIIIの化合物を形成するか、
【化９】
あるいは、
ｃ）式VIの化合物を、ハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式IX：
【化１０】
の化合物を形成し、
ｃ１）存在する全てのボラン基を式IXの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式Ｘの化合物を形成するか、または
ｃ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式IXの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して、式Ｘ：
【化１１】
の化合物を形成するか、あるいは、
ｄ）式VIの化合物を、ハロゲン化剤と反応させて、式XI：
【化１２】
（式中、Ｘ4は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成し、
ｄ１）存在する全てのボラン基を式XIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式XIIの化合物を形成するか、または
ｄ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式XIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式XIIの化合物を形成し、
【化１３】
そして、
ｄ３）式XIIの化合物を金属化ｓｅｃ−リン化物と反応させて式Ｘの化合物を形成し、
ｅ）式VIIの化合物を少なくとも２当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと、そして式Ｘの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、片方もしくは両方のｓｅｃ−ホスフィノ基が環状ｓｅｃ−ホスフィノである式Ｉの化合物を製造するか、あるいは
ｆ）式XIIの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、式XIII：
【化１４】
（式中、ｓｅｃ−ホスフィノは、適当な場合には、ＢＨ3で保護されていてもよい環状ｓｅｃ−ホスフィノである）
の化合物を製造し、次いで、式XIIIの化合物を少なくとも１当量のアルキルリチウム、その後少なくとも１当量のハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式Ｉの化合物を形成する、製造方法。
【請求項６】
式VII、IXおよびXIの化合物
【化１５】
（式中、Ｘ1およびＸ2は、各々互いに独立に、ＯまたはＮであり、Ｃ−結合炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、ＯおよびＮ原子の空き結合に結合しており、Ｒ1、Ｒ12およびＸ4は、請求項５に定義されているとおりである）。
【請求項７】
式VIII、ＸおよびXIIの化合物
【化１６】
（式中、Ｒ’12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2または−ＰＨ2であり、Ｒ1およびＸ4は、請求項５に定義されているとおりである）。
【請求項８】
式XIIIの化合物
【化１７】
（式中、Ｒ1およびＸ4は、請求項５に定義されているとおりであり、ｓｅｃ−ホスフィノは、環状ｓｅｃ−ホスフィンである）。
【請求項９】
配位子として式Ｉの化合物を有する、８族遷移金属からなる群から選択される金属の錯体。
【請求項１０】
８族遷移金属が、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムである、請求項９に記載の金属錯体。
【請求項１１】
式XIVまたはXV：
【化１８】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｌは、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性一座配位子を表すか、またはＬ2は、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性二座配位子を表し；
Ｌが一座配位子である場合は、ｎは、２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子である場合は、ｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、ＩｒおよびＲｕよりなる群から選択される金属であって；０、１、２、３または４の酸化状態を有する金属であり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンであり、
アニオン配位子は、金属の酸化状態１、２、３または４の電荷と釣り合う）
に相当することを特徴とする、請求項９に記載の金属錯体。
【請求項１２】
式XIIIまたはXIV：
【化１９】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｍｅ2は、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィンまたはジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンである）
に相当することを特徴とする、請求項９に記載の金属錯体。
【請求項１３】
プロキラルな有機化合物中の炭素−炭素もしくは炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素もしくはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物製造用の均一触媒としての、請求項９に記載の金属錯体の使用。
【請求項１４】
触媒存在下でのプロキラルな有機化合物中の炭素−炭素もしくは炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素もしくはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物の製造方法であって、付加反応を、触媒量の請求項９に記載の金属錯体の少なくとも１種の存在下に行うことを特徴とする製造方法。
【請求項１】
ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉの化合物
【化１】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィン基は、非置換もしくは置換の環状ホスフィノ基であるか、あるいは１個もしくは２個の一価のアニオンまたは１個の二価のアニオンを有するそのホスホニウム塩である）。
【請求項２】
環状ｓｅｃ−ホスフィノが、式II、IIａ、IIｂまたはIIｃに相当するものである、請求項１に記載の化合物
【化２】
（これらは、非置換であるか、あるいは１個以上の−ＯＨ、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｃ4〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−もしくはＣ1〜Ｃ4−アルコキシベンジルオキシまたはＣ1〜Ｃ4−アルキリデンジオキシ基で置換されている）。
【請求項３】
置換基が、Ｐ原子に対して、片方または両方のα位に存在する、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
式Ｉの化合物が、式IIIまたはIVに相当するものである、請求項１に記載の化合物
【化３】
［式中、Ｒ2およびＲ3は、各々互いに独立に、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、非置換であるか、あるいはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6−ハロアルコキシ、ジ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12−アルキル）3Ｓｉまたは−ＣＯ2−Ｃ1〜Ｃ6−アルキルによって置換されており、
Ｙは、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）ＣＨ（ＯＣ1〜Ｃ4−アルキル）−または式：
【化４】
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、各々互いに独立に、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルまたはベンジルであり、基Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9の少なくとも１個は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、ベンジルまたは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ1〜Ｃ4−アルキルもしくは−ＣＨ2−Ｏ−Ｃ6〜Ｃ10−アリールである）の基であり、
Ｒ10は、ＨまたはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ11は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルである］。
【請求項５】
ラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物または実質的に純粋なジアステレオマーの形態の、式Ｉ：
【化５】
（式中、Ｒ1は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、少なくとも１個のｓｅｃ−ホスフィノは、非置換または置換の環状ホスフィノ基である）
の化合物の製造方法であって、工程：
ａ）式Ｖ：
【化６】
（式中、Ｘ1およびＸ2は、各々互いに独立に、ＯまたはＮであり、Ｃ−結合炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、ＯおよびＮ原子の空き結合に結合している）
の化合物を、少なくとも当量のアルキルリチウム、マグネシウムグリニャール化合物または脂肪族Ｌｉ ｓｅｃ−アミドまたはＸ3Ｍｇ ｓｅｃ−アミドと反応させて、式VI：
【化７】
（式中、Ｍは、−Ｌｉまたは−ＭｇＸ3であり、Ｘ3は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成し、
ｂ）式VIの化合物を、少なくとも当量のハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノホスフィン、ハロゲン化ジアルコキシホスフィン、ハロゲン化ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）、ハロゲン化ジアルコキシ−Ｐ（Ｏ）またはＰＣｌ3もしくはＰＢｒ3と反応させて、式VII：
【化８】
（式中、Ｒ12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2、ジ（ｓｅｃ−アミノ）Ｐ−、ジアルコキシＰ−、ジ−ｓｅｃ−アミノ−Ｐ（Ｏ）−、ジアルコキシＰ（Ｏ）−である）
の化合物を形成し、そして
ｂ１）存在する全てのボラン基を式VIIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式VIIIの化合物を形成するか、または
ｂ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2またはジ−ｓｅｃ−アミノもしくはジアルコキシを、式VIIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−（Ｏ）ＰＣｌ2基、−（Ｏ）ＰＢｒ2基、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式VIIIの化合物を形成するか、
【化９】
あるいは、
ｃ）式VIの化合物を、ハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式IX：
【化１０】
の化合物を形成し、
ｃ１）存在する全てのボラン基を式IXの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式Ｘの化合物を形成するか、または
ｃ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式IXの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して、式Ｘ：
【化１１】
の化合物を形成するか、あるいは、
ｄ）式VIの化合物を、ハロゲン化剤と反応させて、式XI：
【化１２】
（式中、Ｘ4は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）
の化合物を形成し、
ｄ１）存在する全てのボラン基を式XIの化合物から除去し、次いで、基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、ＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、その後、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化して、式XIIの化合物を形成するか、または
ｄ２）基：（ヘテロ）炭化水素−Ｘ1、（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2もしくはＸ1−（ヘテロ）炭化水素−Ｘ2を、式XIの化合物からＨＣｌまたはＨＢｒにより切断して、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を形成し、次いで、−ＰＣｌ2基または−ＰＢｒ2基を水素化し、その後、ボラン基を除去して式XIIの化合物を形成し、
【化１３】
そして、
ｄ３）式XIIの化合物を金属化ｓｅｃ−リン化物と反応させて式Ｘの化合物を形成し、
ｅ）式VIIの化合物を少なくとも２当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと、そして式Ｘの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、片方もしくは両方のｓｅｃ−ホスフィノ基が環状ｓｅｃ−ホスフィノである式Ｉの化合物を製造するか、あるいは
ｆ）式XIIの化合物を少なくとも１当量の環状スルファートまたは鎖状ジスルホナートと反応させて、式XIII：
【化１４】
（式中、ｓｅｃ−ホスフィノは、適当な場合には、ＢＨ3で保護されていてもよい環状ｓｅｃ−ホスフィノである）
の化合物を製造し、次いで、式XIIIの化合物を少なくとも１当量のアルキルリチウム、その後少なくとも１当量のハロゲン化ｓｅｃ−ホスフィンと反応させて、式Ｉの化合物を形成する、製造方法。
【請求項６】
式VII、IXおよびXIの化合物
【化１５】
（式中、Ｘ1およびＸ2は、各々互いに独立に、ＯまたはＮであり、Ｃ−結合炭化水素またはヘテロ炭化水素基は、ＯおよびＮ原子の空き結合に結合しており、Ｒ1、Ｒ12およびＸ4は、請求項５に定義されているとおりである）。
【請求項７】
式VIII、ＸおよびXIIの化合物
【化１６】
（式中、Ｒ’12は、−ＰＣｌ2、−ＰＢｒ2または−ＰＨ2であり、Ｒ1およびＸ4は、請求項５に定義されているとおりである）。
【請求項８】
式XIIIの化合物
【化１７】
（式中、Ｒ1およびＸ4は、請求項５に定義されているとおりであり、ｓｅｃ−ホスフィノは、環状ｓｅｃ−ホスフィンである）。
【請求項９】
配位子として式Ｉの化合物を有する、８族遷移金属からなる群から選択される金属の錯体。
【請求項１０】
８族遷移金属が、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムである、請求項９に記載の金属錯体。
【請求項１１】
式XIVまたはXV：
【化１８】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｌは、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性一座配位子を表すか、またはＬ2は、同一もしくは異なるアニオン性もしくは非イオン性二座配位子を表し；
Ｌが一座配位子である場合は、ｎは、２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子である場合は、ｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、ＩｒおよびＲｕよりなる群から選択される金属であって；０、１、２、３または４の酸化状態を有する金属であり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンであり、
アニオン配位子は、金属の酸化状態１、２、３または４の電荷と釣り合う）
に相当することを特徴とする、請求項９に記載の金属錯体。
【請求項１２】
式XIIIまたはXIV：
【化１９】
（式中、Ａ1は、式Ｉの化合物であり；
Ｍｅ2は、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙは、２個のオレフィンまたはジエンを表し；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ1-は、オキソ酸または複合酸のアニオンである）
に相当することを特徴とする、請求項９に記載の金属錯体。
【請求項１３】
プロキラルな有機化合物中の炭素−炭素もしくは炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素もしくはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物製造用の均一触媒としての、請求項９に記載の金属錯体の使用。
【請求項１４】
触媒存在下でのプロキラルな有機化合物中の炭素−炭素もしくは炭素−ヘテロ原子多重結合への水素、水素化ホウ素もしくはシランの不斉付加またはアリル化合物への炭素求核剤もしくはアミンの不斉付加によるキラルな有機化合物の製造方法であって、付加反応を、触媒量の請求項９に記載の金属錯体の少なくとも１種の存在下に行うことを特徴とする製造方法。
【公表番号】特表２００７−５１６９７１（Ｐ２００７−５１６９７１Ａ）
【公表日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５４３５５２（Ｐ２００６−５４３５５２）
【出願日】平成１６年１２月１０日（２００４．１２．１０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０５３３８９
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０５６５６８
【国際公開日】平成１７年６月２３日（２００５．６．２３）
【出願人】（５９９１６３１５９）ソルヴィーアス アクチェンゲゼルシャフト (22)
【氏名又は名称原語表記】Ｓｏｌｖｉａｓ ＡＧ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１２月１０日（２００４．１２．１０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０５３３８９
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０５６５６８
【国際公開日】平成１７年６月２３日（２００５．６．２３）
【出願人】（５９９１６３１５９）ソルヴィーアス アクチェンゲゼルシャフト (22)
【氏名又は名称原語表記】Ｓｏｌｖｉａｓ ＡＧ
【Ｆターム（参考）】
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