【課題】 耐熱性、ドライエッチング耐性、高真空下での安定性に優れ、特にポジ型レジスト樹脂の酸解離性の保護基として好適な新規ビニルエーテル、その原料となる新規アルコール及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のビニルエーテルは、下記一般式（１）
【化１】


｛式（１）中、Ｘ_１、Ｘ_２はそれらのいずれか一方がビニルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。又、Ｒ_１は炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ_２は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基である。｝
で表されることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】アルデヒドを含まない高純度なジオールの製造方法の提供。
【解決手段】ジアルデヒドを出発原料として、水素化触媒と水素の存在下に還元反応を行うことにより得られたジオールを含有する粗反応生成液に、該ジオールと蒸留分離可能なホスファイトを添加して蒸留することで高純度ジオールを損失が少なく、収率良く、簡単に製造できる。 （もっと読む）

【課題】 中間体の単離を必要としない脂環式ジオールの製造方法の提供。
【解決手段】 （１）一般式Ｒ^１ＯＯＣＣＨ＝ＣＨＣＯＯＲ^２（Ｒ^１およびＲ^２は炭素数１〜１０のアルキル基）で表される化合物等とシクロペンタジエンもしくはジシクロペンタジエンとを溶媒中でもしくは無溶媒でディールス・アルダー反応に付して、下式（ＩＶ）で上のＣＨ_２ＯＨ基がＣＯＯＲ^１で下のＣＨ_２ＯＨ基がＣＯＯＲ^２である化合物（ＩＩＩ）を生成させ、（２）得られた反応混合液の酸価を生成した化合物（ＩＩＩ）１ｇ当たり８ＫＯＨｍｇ以下に調整し、または該反応混合液の酸価が上記所定値内であるときは上記調整を行うことなく、ついで（３）化合物（ＩＩＩ）を、反応混合液から単離することなく、水素添加触媒の存在下、水素と反応させることを特徴とする式（ＩＶ）


（ｎは０または１）で表される脂環式ジオールの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、３，３−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イルまたは３，３−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル誘導体の付香成分としての使用、ならびに前記化合物を含有する組成物または物品に関する。 （もっと読む）

アルケニルエステル類の加水分解反応やアルケニルエーテル類の開裂反応を利用した光学活性化合物の製造方法であって、酸性化合物や塩基性化合物を使用せず、また、高濃度で反応が出来、酵素反応や微生物を用いた反応のように緩衝液や栄養源等の必要もない、簡便で且つ生産効率のよい製造法の提供。
一般式［１］


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ異なる基を表し、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、水素原子、アルキル基等を表し、Ａはメチレン基、カルボニル基又は単結合を表す。）で表されるアルケニルエステル又はアルケニルエーテルに、特定の光学活性配位子を有する遷移金属錯体の存在下、水を作用させることを特徴とする一般式［６］


で表される光学活性カルボン酸又は光学活性アルコールの製造法。
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架橋された複素環式化合物、フッ素化ノルボルネン化合物、フッ素化アルケン、複素環式化合物、およびこれらの２またはそれ以上の組み合わせ、から誘導されるポリマーが提供される。このポリマーはフォトレジスト組成物を含む広範囲の用途に使用される。また、このポリマーに使用するためのモノマー化合物の製造方法も提供される。 （もっと読む）