【課題】
酢酸ビニルの製造工程、精製工程、貯蔵あるいは輸送工程における酢酸ビニルの重合を抑制し、さらに重合によって生じる汚れの発生を効果的に抑制する酢酸ビニルの重合抑制剤組成物および重合抑制方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、酢酸ビニルの製造工程、精製工程、貯蔵あるいは輸送工程において、（Ａ）α−ヒドロキシカルボン酸、アスコルビン酸などの有機酸および／又はその水溶性塩と、（Ｂ）キノン化合物、フェノール化合物、ニトロキシルラジカル化合物から選ばれた１種以上を含むことを特徴とする重合抑制剤組成物、および当該工程の酢酸ビニルを含む工程液に（Ａ）成分と（Ｂ）成分を同時に用いる重合抑制方法である。 （もっと読む）

【課題】強度、伸度などの機械特性が均一な相互侵入高分子網目構造体およびその製造方法を提供する。また、研磨時の面内均一性に優れ、連続研磨において研磨レートの低下の小さく、パッド寿命が改良された研磨パッドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、ラジカル重合開始剤、からなるラジカル重合性組成物に高分子成形体を浸漬させる工程、およびラジカル重合性組成物を含浸させた高分子成形体の膨潤状態下においてエチレン性不飽和化合物を重合させる工程、を包含する相互侵入高分子網目構造体の製造方法であって、ラジカル重合性組成物に高分子成形体を浸漬させる工程の前に、ラジカル重合禁止剤を、該ラジカル重合性組成物および／または該高分子成形体に添加する相互侵入高分子網目構造体の製造方法により得られることを特徴とする相互侵入高分子網目構造体およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】
各種ビニルモノマー用の重合禁止剤を提供する。
【解決手段】
下記一般式（１）
【化１】


（上記一般式（１）中、Ｒはアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基又はハロゲン化アルキル基を表わす。）
で示されるビニルモノマー用重合禁止剤及びビニルモノマーに当該重合禁止剤を共存させることを特徴とするビニルモノマーの重合防止方法。本発明の４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビ−１−ナフトールは、従来のヒドロキノン系の重合禁止剤に比べて昇華性が格段に低く、刺激性も少ないため有用である。 （もっと読む）

１〜２個の水酸基を有するアルキルフェノール系のファウリング防止剤、アミン系のファウリング防止剤、及び有機溶媒よりなることを特徴とする１，３−ブタジエンの重合防止剤及びこれを投入する１，３−ブタジエンの重合防止方法を提供する。本発明による、優れた重合反応抑制ないしファウリング防止効果を有する重合防止剤を用いて気相ないし液相の広範囲な温度範囲において１，３−ブタジエンの重合を抑えることにより、高純度の１，３−ブタジエン製品を抽出蒸留することができ、ファウリングにより引き起こされうる１，３−ブタジエン製造工場の非常時の稼動停止を未然に防ぐと共に、長期間の安全運転を行うことが可能になる。
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【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜形成用組成物等の塗膜形成用組成物に好適に用いられる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明は、少なくとも、酸によって分解してアルカリ現像液に可溶性になる構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、半導体基板に対する密着性を高めるための極性基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを有する半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であり、該繰り返し単位を与えるエチレン性二重結合を有する２種類以上のモノマーを含む溶液を、加熱した溶媒中に滴下することによりラジカル重合させて半導体リソグラフィー用共重合体を製造するに際し、滴下する前のモノマーを含む溶液中に重合抑制成分として、重合禁止剤又は酸素を共存させ、この溶液を加熱した溶媒中に滴下してラジカル重合させる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法に関する。
【選択図面】なし （もっと読む）

【課題】 モノマー貯蔵において、優れたモノマー重合禁止効果を有し、かつ着色しない、またそのモノマーを用いて乳化重合する際に重合速度が変動しない、さらにはクロロプレンゴムの乾燥工程で禁止剤が揮発しないクロロプレンモノマー貯蔵用重合禁止剤を提供する。
【解決手段】 １７０℃６０分間での加熱減量が１．０％以下であるヒンダードフェノールからなり、かつ、クロロプレンモノマーに添加して得られたモノマー液を３０日後に分光光度計を用いて測定波長４００ｎｍで測定した吸光度が０．１以下であるクロロプレンモノマー貯蔵用重合禁止剤及びそれを用いたクロロプレンモノマーの貯蔵方法、クロロプレンラテックスの製造方法並びにクロロプレンゴムの製造方法。 （もっと読む）

エチレン性不飽和モノマーの早期の重合及びポリマー成長を禁止及び抑制する方法であって、式（Ｉ）［式中、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、独立に、水素、アルキル、ＮＯ_２、及びＳＯ_３Ｈからなる群から選択され、但し、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３の少なくとも１つはＮＯ_２であり、Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３の少なくとも１つはＳＯ_３Ｈである。］のスルホン化ニトロフェノールである少なくとも１種の禁止剤の有効量を、前記モノマーに添加することを含む方法が本明細書に開示されている。好ましい実施形態では、ニトロキシル化合物、ニトロソアニリン、ニトロフェノール、アミン、及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の追加の禁止剤も添加される。
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