【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）熱により分解し分子量が低下する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）熱により分解し、分子量が低下する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリに可溶になる繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料により基板上にレジスト膜を形成し、加熱処理後に露光し、現像して第１のレジストパターンを形成し、この上にヒドロキシ基を有する架橋性の高分子化合物を含む溶液からなるパターン表面コート材を塗布し、架橋して該高分子化合物の架橋膜で覆い、その上に第２のポジ型レジスト材料を塗布し、露光し、現像して第２のレジストパターンを形成するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジレジストパターン間のスペース部分にパターンを形成するダブルパターニング方法であって、パターン表面コート材を塗布し、第１レジストパターンがレジスト溶媒と現像液に溶解するのを防止することによって、第１のパターン間のスペースに第２のパターンを形成することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターンプロファイル等に優れ、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル類に由来する繰返し単位群から選ばれる少なくとも２種の繰り返し単位を有し、それら繰返し単位の各々の含有量が１〜４９ｍｏｌ％であり、かつそれら繰返し単位の合計含有量が５〜５０ｍｏｌ％であり、さらに酸の作用によりアルカリ易溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

１，４−二置換−１，２，３−トリアゾールＵＶ吸収モノマーを開示する。このＵＶ吸収剤は、眼内レンズ材料への使用に特に適している。これらは、特に眼内レンズ（ＩＯＬ）などの移植可能レンズに有用である。本発明の１，４−二置換−１，２，３−トリアゾール化合物を含む眼用デバイス材料および眼内レンズもまた提供される。本発明の眼用デバイスは、眼内レンズ；コンタクトレンズ；人工角膜ならびに角膜インレーまたは角膜リングからなる群から選択され得る。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜材料であって、エッチング速度が速く、このためレジスト下層膜として用いると、エッチング中のレジストパターンの膜減りが少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。また、架橋密度が高いために熱架橋後に緻密な膜を形成でき、そのために上層レジスト膜とのミキシングを防止でき、現像後のレジストパターンが良好である反射防止膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。
【化５３】
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【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であるとともに、ラインウィズスラフネス及び疎密依存性が低減され、また、特にＥＵＶ露光において、高感度とともに溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】インデノン構造を有する特定の繰り返し単位、かつ酸の作用により分解しアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位を有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びナノエッジラフネスに優れるパターンを形成することができるとともに、高精度な微細パターンを安定して形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、基板上にポジ型感放射線性樹脂組成物を用いてレジスト被膜を形成する工程、前記レジスト被膜に所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射して露光する工程、前記レジスト被膜上に上層膜を形成する工程、及び、現像によりレジストパターンを形成する工程を備えており、前記樹脂組成物は、感放射線性酸発生剤と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含む樹脂と、を含有しており、且つ前記酸解離性基を有する繰り返し単位が前記樹脂中に３０〜８０モル％含まれている。 （もっと読む）

【課題】表面硬度、耐水性、耐薬品性と、密着性とのバランスが良好なコーティング膜を形成できる硬化型塗料；該硬化型塗料を得ることができる塗料用樹脂；および前記コーティング膜を有する塗装物を提供する。
【解決手段】（ａ）２−メタクリロキシエチルアシッドフタレート、２−メタクリロキシエチルアシッドヘキサヒドロフタレート、マレイン酸モノブチルエステル等の特定の構造を有するα，β−モノエチレン性不飽和基含有カルボキシアルキルエステル０．１〜２０質量％、（ｂ）α，β−モノエチレン性不飽和基含有ヒドロキシアルキルエステル０．１〜４０質量％および（ｃ）これらと共重合可能な他のα，β−モノエチレン性不飽和基含有化合物４０〜９９．８質量％をラジカル重合させて得られる塗料用樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、露光ラチチュード性能が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分が、特定構造で表される、酸分解性基を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも高感度で、パターン倒れが改良された高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の連鎖移動剤と重合開始剤とを使用してエチレン性二重結合を有する重合性化合物を重合させる高分子化合物の製造方法において、特定構造の連鎖移動剤（Ｓ）と重合開始剤（Ｉ）との添加モル比（Ｉ／Ｓ）が、１．０以下であることを特徴とする高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の一般式で表される酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高感度で印刷版の生産性が高く、マイルドな水溶液（ｐＨが２〜１０）での現像においても現像性が良好であり、且つ耐刷性に優れる平版印刷版を提供することが可能な平版印刷版原版、及びその製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、特定の部分構造を有する重合性化合物と酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下のバインダーポリマーとを含有する感光層を有する平版印刷版原版、及び当該平版印刷版原版を、３６０〜４５０ｎｍのレーザーで画像露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れ、機械的強度、成形加工性、表面硬度等のバランスがとれていることが求められる各種光学材料に用いることができる透明性、耐熱性がいずれも高く、かつ紫外線吸収能をもつ非晶性熱可塑性樹脂及びフィルム又はシートを提供する。
【解決手段】紫外線吸収性単量体単位を有する、ガラス転移温度１２０℃以上である非晶性熱可塑性樹脂であり、上記非晶性熱可塑性樹脂は、５００ｎｍでの光線透過率が８０％以上、３８０ｎｍでの光線透過率が３０％未満である。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１ａ）及び（１ｂ）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂とし、有機溶剤及び酸発生剤を含有する化学増幅型のレジスト材料。


（ｎは１〜３、ａ１、ｂ１は０＜ａ１＜１．０、０＜ｂ１≦０．８。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス（ＬＷＲ）、ダーク／ブライトパターン形状差、現像欠陥、及びドライエッチング耐性について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位（Ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位（Ｂ１）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｄ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸分解性繰り返し単位と特定構造の非酸分解性繰り返し単位とを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、不純物の少ないポリアルキレングリコール類及びその製造方法を提供するものである。詳しくは、ポリエチレングリコール等のジオール類、ジエステル類、ハロゲン類、金属類、水、着色原因物質が少ないポリアルキレングリコール類及びその製造方法を提供する。
【解決手段】特性（１）重合性二量体含有量が０．００１〜１０重量％であること、及び／又は、特性（２）金属含有量が５０ｐｐｍ以下であること、を満たす重合性ポリアルキレングリコール類。前記重合性二量体含有量は、０．００１〜３．５重量％であることが好適であり、前記特性（１）及び（２）を満たすことが更に好適である。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による描画に適し、適切な明るさの作業環境を達成可能なセーフライト下でスクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーンやＦＭスクリーンが使用可能な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）鉄アレーン錯体化合物、（Ｃ）重合可能なエチレン性不飽和結合基含有化合物及び、（Ｄ）３６０〜４５０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する増感色素を含有する感光層を有する光重合型感光性平版印刷版において、バインダーポリマー（Ａ）が一般式（１）で表される繰り返し単位を有する重合体であることを特徴とする光重合型感光性平版印刷版。
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