【課題】液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数を増加させることなく、レジスト膜の引き置き耐性を向上させることができるレジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ₁は炭素数１〜５の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基であり、Ｒ₂は、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基または脂環構造を有する炭化水素基である。）で表される構成単位を少なくとも有するアクリル系ポリマーと、溶剤と、を少なくとも含有してレジスト保護膜形成用材料を構成する。 （もっと読む）

【課題】
保存時の粘度変化が小さく、微細なパターンまで解像可能であり、耐溶剤性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および溶剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物において、バインダー樹脂（Ａ）が、不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物（Ａ１）、環上にエポキシ基を有する多環式脂肪族基と不飽和結合を有する基とを有する化合物（Ａ２）、ならびに（Ａ１）および（Ａ２）と共重合可能な単量体（ただし、（Ａ１）および（Ａ２）を除く。）（Ａ３）との共重合体である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも２種の特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であって、該樹脂中の残存するモノマーの割合が１０質量％以下である樹脂、及び活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、さらにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 適度な親水性及び疎水性を有し、例えば、レジスト材料として用いた場合には、優れた透明性及び耐ドライエッチング性を発揮するとともに、アルカリ溶解性や基板密着性に優れ、高解像性を実現できるメチロール基及びラクトン環を有する重合体、並びに、該重合体を用いたポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】 α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エステルを含む単量体成分を重合、ラクトン環化してなるメチロール基及びラクトン環を有する重合体であって、上記重合体は、重合体を構成する繰り返し単位１００モル％に対してメチロール基含有ユニットが２０モル％以下、ラクトン環ユニットが３〜２０モル％であるメチロール基及びラクトン環を有する重合体である。 （もっと読む）

【課題】加水分解されにくいセメント組成物用添加剤を提供することである。
【解決手段】式（１）で表されるビニルモノマーを必須構成単量体としてなるビニルポリマーを含有してなることを特徴とするセメント組成物用添加剤を用いる。
【化１】


ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜２００の整数、Ｘは−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ’、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ’₄、−ＣＯＮＲ’₂又は−ＣＮで表される基、Ｍは金属原子、Ｒ及びＲ’は水素原子又は炭素数１〜６の有機基を示す。
Ｘが−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｍ、−ＣＯ₂ＮＲ₄、−ＣＯＮＨ₂又は−ＣＮで表される基であることが好ましい。さらに（メタ）アクリル酸（塩）を必須構成単量体としてなるビニルポリマーが好ましい。 （もっと読む）