【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 適度な極性を有する酸脱離性ユニットを形成するのに有用な重合性不飽和カルボン酸エステルを提供する。
【解決手段】 下記式（1a）又は（1b）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dは、同一又は異なって、アルキル基、ハロアルキル基又はシクロアルキル基を示す。環Ｚ¹、環Ｚ²はそれぞれ、少なくとも脂環式炭素環とエーテル酸素原子を含む多環を示す。環Ｚ¹、環Ｚ²は置換基を有していてもよい）
で表される重合性不飽和カルボン酸エステル。 （もっと読む）

【課題】 ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、レジスト組成物としたときの保存安定性に優れたレジスト用重合体を製造する方法、この方法で得られたレジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


で表され、かつ、基Ａのメチル基の水素原子の少なくとも１つが０．１５０以上の部分電荷を持つ構成単位（Ａ１）を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、溶液重合法により生成した重合体溶液を、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトロ化合物、ニトリル、エーテル、ケトン、エステル、カーボネートから選ばれる少なくとも１種以上の有機溶媒中に添加することにより沈殿又は再沈殿して得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ディフェクトを低減することができるレジスト組成物の製造方法およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分、及び（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物の製造方法であって、同じ種類の構成単位からなり、かつ相互に接触角の測定値が異なる、複数種類の共重合体を混合して、（Ａ）成分を得ることを特徴とするレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）