【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造で表される構成単位（ａ０）と他の特定構造で表される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位に対し、前記構成単位（ａ０）の割合は、５〜５０モル％であり、前記構成単位（ａ１）の割合は１０モル％より大きく、前記構成単位（ａ０）および（ａ１）の割合の合計は９０モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）［式（ａ０−１）中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のフッ素化アルキル基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立して水素原子または任意の位置に酸素原子を含んでいてもよいアルキル基を表すか、または両者が結合してアルキレン基を表し、Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよい環状のアルキレン基を表す。］で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物。
［化１］
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【課題】高い感放射線感度を有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ａ２）オキシラニル基を有する不飽和化合物およびオキセタニル基を有する不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる不飽和化合物の共重合体、並びに［Ｂ］特定の構造を有する１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】解像度と感度に優れたポジ型レジスト組成物に好適な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】５−ヒドロキシ−３−オキサ−２−チア−トリシクロノナンとアクリル酸よりなるアクリル酸エステル（ａ０）と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、前記高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】新規なスピロ環含有ノルボルネン誘導体、この誘導体から得られるノルボルネン系開環重合体水素化物、これらを含有する光学樹脂材料、光学成形体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示されるスピロ環含有ノルボルネン誘導体とその利用。
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【課題】露光波長、特に２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）で十分な透過性を持つ、感放射線性樹脂組成物と上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によってアルカリ可溶性となる単量体を６０モル％を超えて含有する樹脂と感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布してフォトレジスト膜を形成し、単量体を含有するアルカリ可溶樹脂を含有する上層膜形成組成物を前記フォトレジスト膜に塗布して上層膜を形成し、前記上層膜とレンズとの間に液浸媒体を配置して、前記液浸媒体と所定のパターンを有するマスクとを介して前記フォトレジスト膜及び前記上層膜に露光光を照射し、次いで現像することによってレジストパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の脂環ラクトン骨格を有する構成単位（Ｂ１）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、良好なサイドローブマージンを与えるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖に２級ベンジル構造を有する繰り返し単位を含有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）三級アミン化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】本発明の環状オレフィン系共重合体の製造方法は、芳香環構造を有する環状オレフィン系モノマー（Ａ）と、芳香環構造を有さない環状オレフィン系モノマー（Ｂ）とを共重合するに際し、モノマー総量の５〜９０重量％のモノマーと重合触媒とを用いて重合を開始し、重合反応中に残余のモノマーを反応系に供給して重合することを特徴としている。
【効果】本発明によれば、芳香環を有する環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位と、芳香環を有さない環状オレフィン系化合物から導かれる構造単位とを有し、構造単位の偏在が少なく、容易に製造可能で、透明性、耐熱性、有機溶剤への溶解性、強度、加工性に優れ、各種光学部品用途に好適に使用できる、環状オレフィン系共重合体およびその製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し、かつ下記一般式（ｃ１−１）［Ｒ^２３は、下記一般式（Ｉ−１）で表される構造（Ｉ）を有する脂肪族環式基である。］で表される構成単位（ｃ１）を有さない基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、前記構成単位（ｃ１）を有する含フッ素樹脂成分（Ｃ）とを含有する液浸露光用レジスト組成物。
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【課題】微細加工技術に適した化学増幅型レジスト材料のベース樹脂用高分子化合物の単量体として有用な新規エステル化合物及びその製造方法、該エステル化合物を単量体として含有する高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料の提供。
【解決手段】下式で代表される４種類の重合性エステル化合物及びその製造方法、該エステル化合物を単量体として含有する高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料。


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【課題】当該精製方法を用いて得られる樹脂を用いて精製された半導体リソグラフィー用樹脂を用いた際のディフェクト、特にブリッジモードディフェクトの発生を抑制できる精製方法を提供する。
【解決手段】半導体リソグラフィー用樹脂の精製に用いられるものである、ラクトン含有環式基を有する構成単位（ａ２’）を含有する樹脂（Ａ１’）を、溶解度パラメータ（ＳＰ値）が１７．０〜２０．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にある有機溶剤（Ｓ１’）で洗浄する工程（ｉ）を有することを特徴とする樹脂の精製方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される構造を含む基を含有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。
【化１】


一般式（１）中、
Ｒ_１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子またはアリール基から選ばれる原子または基を表す。
ｎは０〜６の整数を表し、ｎ≧２の整数のときＲ_１は同じでも異なっていてもよく、Ｒ_１同士が環を形成してもよい。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（式中、Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基を示す。Ｒ¹は構成炭素上の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示す。ＷはＣＨ₂、酸素原子、硫黄原子のいずれかを示す。）
【効果】本発明のラクトン含有化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射線レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、高解像性かつ液侵媒体である水への溶出及び水の浸入を抑制し、この高分子化合物がレジスト材料として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）桂皮酸から誘導される特定の繰り返し単位と、少なくとも一種の特定のポリスチレン構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）ラクトン基を有する分子量２０００以下の芳香族化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物（ヘドロ）の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】１枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムを提供する。
【解決手段】重合性化合物（１）に由来する構造単位と棒状重合性液晶化合物に由来する構造単位とを含有するポリマーを有効成分とすることを特徴とする光学フィルム。


（式（１）中、Ｙは屈曲構造を有する２価の基を表す。（Ｇ１）ｓ及び（Ｇ２）ｔは、単結合又はメチレン基等を表す。Ａ１及びＡ２は、２価の環状炭化水素基、２価の複素環基等を表す。Ｂ１及びＢ２は−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−などの２価の基を表す。Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、式（２）で表される２価の基を表す。


［式（２）中、Ａ３はＡ１と同じ意味を表し、Ｂ３は前記Ｂ１と同じ意味を表す。ｎは１〜４の整数を表す。］
Ｅ１及びＥ２はアルキレン基を表し、Ｐ１及びＰ２は重合性基を表す。） （もっと読む）

【課題】光伝送用媒体、詳しくはプラスチック光ファイバーや導波路型素子のコア用材料として利用可能な耐熱性と信号伝送能力を兼ね備えた光学材料を提供する。
【解決手段】側鎖に脂環式炭化水素部位を有する重合体であって１１５℃以上の熱変形温度を有する重合体からなる光学材料。 （もっと読む）