本発明はイオン注入機用の電源装置ＡＬＴに関し、この電源装置は基板運搬トレイＰＰＳと接地Ｅとの間に設置された電気発生器ＳＯＵと、前記基板運搬トレイＰＰＳと接地Ｅとの間に同様に接続される並列のブランチ内のコンデンサＣＤＳからなる。コンデンサＣＤＳは５ｎＦより小さい電気容量を有する。
本発明はまた、電源装置を内蔵するイオン注入機を提供する。
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【解決手段】プラズマイオン注入装置がプロセスチャンバと、プロセスチャンバにプラズマを形成するプラズマ源と、プロセスチャンバに基板を保持するためのプラテン（１４）と、イオンをプラズマから基板へと加速する注入パルスを生成するパルス源とを含む。他の実施態様では、装置は、プロセスチャンバ内のイオンの質量およびエネルギーを測定するプラズマモニターと、測定されたイオン質量およびエネルギーに応答してプラズマイオン注入装置の動作状態を判定する分析ユニット（１００）とを含む。他の実施態様では、装置は、注入パルスのサンプルを捕捉するデータ捕捉ユニット（３００）と、捕捉されたサンプルに基づいてプラズマイオン注入装置の動作状態を判定する分析器とを含む。
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【解決手段】基板のプラズマイオン注入のための方法が、プロセスチャンバ、該プロセスチャンバにプラズマを形成する発生源、プロセスチャンバに基板を保持するプラテン、およびプラズマから基板にイオンを加速する電圧源を含むプラズマイオン注入システムを用意し、基板のプラズマイオン注入から生ずる付着膜の組成物に似た新しいコーティング膜を、新しいコーティング膜を形成する前にプロセスチャンバの内側表面に付着し、一つ以上の活性化されたクリーニング前駆体を使用して古い膜を除去することにより、プロセスチャンバの内側表面をクリーニングし、プラズマイオン注入プロセスにしたがって基板へのプラズマイオン注入を行い、プロセスチャンバの内側表面をクリーニングすること、および新しいコーティングに続いて一つ以上の基板に対してプラズマイオン注入をおこなうことの工程を繰り返すことを含む。
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【課題】 ビーム通路の内壁を保護する保護板からの金属汚染を低減することができるイオン注入装置を提供すること。
【解決手段】 保護板２７の表面に対して実質的に垂直方向に延び且つ不要なイオンビーム１１Ｂが衝突する垂直壁面３０を有する突出壁部２８を、ビーム通路２６の延在方向に沿って保護板２７の表面に連続して形成する。これにより、不要なイオンビーム１１Ｂが突出壁部２８の垂直壁面３０に衝突したとき、これに伴って発生する壁面の構成粒子などの不純物３２が、選択したイオンビーム１１Ａの軌道に向かって飛来することなく保護板２７の表面に堆積する。よって、当該保護板２７からの金属汚染を従来よりも大幅に低減することができる。 （もっと読む）