【課題】加熱炉内のクリーン度（米国連邦規格２０９Ｄ）をクラス１０レベルに高く保つことができるローラーハースキルンに関する技術を提供すること。
【解決手段】金属製ケース内に断熱材を充填した断熱壁で天井部３・床部４・左右側壁部５を構成した炉内空間にワーク搬送用の低発塵性ローラー６を備えた本体部１と、該本体部全体を覆う外殻２を有し、該本体部の左右側壁部に形成されたローラー貫通孔１２を貫通した低発塵性ローラー６を、外殻に設けた低発塵性ローラー駆動部７で支持し、炉内空間には、低発塵性ヒータ８を備える。 （もっと読む）

【課題】炉内温度の上昇を抑制しながら、分子間の水素結合を切断する能力に優れる近赤外線を集中的に放射し、水または樹脂バインダーを含有する未焼成セラミックを効率よく乾燥することができるセラミック乾燥炉を提供する。
【解決手段】本発明のセラミック乾燥炉は、３．５μｍ以下の電磁波の吸収スペクトルを持ち、水素結合を有する水または樹脂バインダーを含有する未焼成セラミックを乾燥させるための炉である。炉体１０の内部に未焼成セラミックの搬送手段１１と赤外線ヒーター１２とを備える。赤外線ヒーター１２は、フィラメント１５の外周が３．５μｍ以上の赤外線を吸収する複数の管によって覆われ、これらの複数の管の間に赤外線ヒーターの表面温度の上昇を抑制する冷却用流体の流路を形成した構造を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加熱、焼成する製品の加熱温度や雰囲気条件等に関係なく使用することができる加熱炉用ヒーターを提供する。
【解決手段】加熱炉用ヒーター１０の第１ヒーターパイプ体２０、第２ヒーターパイプ体２２、第３ヒーターパイプ体２４、第４ヒーターパイプ体２６、第５ヒーターパイプ体２８はカバーパイプ３０と第１保持体３２と第２保持体３４を有している。第１保持体３２にはガス通路３２Ａと水通路３２Ｂが貫通形成され、第２保持体３４にはガス通路３４Ａと水通路３４Ｂが貫通形成されている。カバーパイプ３０の中間部には発熱体としてのカーボン体４２が配設されている。また、カバーパイプ３０の内部にはガス通過隙間４３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】少ない時間及び費用で加熱炉にヒータを設置することが可能な加熱炉へのヒータ設置方法を提供する。
【解決手段】焼鈍炉の炉壁１０は、炉内側に配された内側金属板１１と、炉外側に配された外側金属板１２と、これら両金属板１１，１２の間に介在する耐火物１３と、で構成されている。この炉壁１０に炉内と炉外を連通する貫通孔１５を形成し、内側鍔部２３Ａと外側鍔部２３Ｂとの間に耐火材２５が取り付けられた円筒状部材２１を、炉外側から挿通する。次に、外側鍔部２３Ｂを外側金属板１２に溶接等の慣用の固着手段で接合して、貫通孔１５を封止した後に、円筒状部材２１の内部にヒータ２０を収容する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成によって、炉内のクリーン度を保ちつつ、減圧下における炉内の配線部分からの漏れ電流の発生を防止することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】減圧乾燥装置１０は、パネルヒータ１８および炉体１２を少なくとも備え、パネルヒータ１８は、発熱線および電源供給線が絶縁された状態で金属管に充填されたシース部を含む単一または複数の細管シースヒータ３０を有し、炉体１２は、パネルヒータ１８を内部に収容するように構成され、シースヒータ３０におけるシース部が挿通可能なゲージポートを有する。 （もっと読む）

【課題】ヒータ断線時に炉内の加熱バランスが大きく崩れるのを防止することができ、しかもヒータ交換などのメンテナンスが容易なシリコン加熱炉を提供する。
【解決手段】２つの円筒炉半体２４ａ，２４ｂを円筒状に組み合わせることによって構成され、その内部にて加熱対象となる原料シリコン塊１２を加熱するシリコン加熱炉１０において、２つの円筒炉半体２４ａ，２４ｂの内側に、円筒炉半体２４ａ，２４ｂの胴長と略同等の長さに形成され、且つ石英管６４で被覆された複数の直線状のヒータＨが、円筒炉半体２４ａ，２４ｂの内周方向にて互いに離間し且つ円筒炉半体２４ａ，２４ｂの胴長方向に沿って配置されると共に、ヒータＨのそれぞれが並列に電気接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】バッチ式熱処理装置において、複数枚の基板を面内の温度が均一になるように同時に熱処理する。
【解決手段】本発明に係るバッチ式熱処理装置は、複数枚の基板１０に対して熱処理空間を提供するチャンバ１００と、複数枚の基板１０を搭載支持するボート１０８と、基板１０の積載方向に一定間隔で配置されかつ各々が複数の主ヒータ２００で構成されるような複数の主ヒータユニット１２０とを含み、基板１０が、複数の主ヒータユニット１２０の間に配置されるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 炉内の焼成雰囲気を安定化させることができる焼成炉を提供する。
【解決手段】 焼成炉１は、セラミック電子部品２を焼成するための焼成空間Ｓを形成する炉体３を備えている。炉体３内には、焼成空間Ｓを加熱するための複数本の直線棒状の焼成用ヒーター７が設けられている。各焼成用ヒーター７は、焼成空間Ｓから隔離するように保護配管８内に収容されている。炉体３には、各保護配管８内に充填用ガスを導入するためのガス流路１０と、充填用ガスを炉体３外に排出するためのガス流路１２とが設けられている。充填用ガスは、セラミック電子部品２の焼成時に焼成空間Ｓに存在するガス及び焼成用ヒーター７に対して非反応性を有するガスである。ガス導入口１１には外部配管１４が接続され、ガス排出口１３には外部配管１５が接続されている。充填用ガスは、外部配管１４及びガス流路１０を通って各保護配管８内に供給される。 （もっと読む）