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Fターム[5B125EB03]の内容

リードオンリーメモリ (43,397) | EEPROMセルへの電荷注入、放出構成 (1,604) | 注入、放出方向が特定されているもの (305)

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【課題】電荷格納層を有する選択トランジスタのしきい電圧分布を減らすメモリ装置、特にNANDフラッシュメモリ装置及びそのプログラム方法とこれを用いたメモリシステムを提供する。
【解決手段】本発明のNANDフラッシュメモリ装置のプログラム方法は、選択トランジスタを熱電子注入方式でプログラムし、選択されたメモリセルをF−Nトンネルリングを用いてプログラムする。本発明による選択トランジスタの熱電子注入方式のプログラムは選択トランジスタのしきい電圧分布を減らすことができる。 (もっと読む)


メモリ(150)は、分離領域(170)により第2電荷格納領域(164B)から分離された第1電荷格納領域(164A)を備える。メモリ(150)の少なくとも一つの電荷格納領域の消去を行うため、電荷格納領域(164A,B)のうち少なくとも一つの電荷格納領域から基板(154)へ電子がFowler−Nordheim(FN)トンネリングする、メモリ150の消去技術を提供する。単一の電荷格納領域の異なるレベルや状態にプログラムことができるほかの技術を提供する。 (もっと読む)


【課題】フラッシュメモリ装置においてリーク電流及びプログラムディスターブを抑制すること。
【解決手段】本発明の実施例に従って構成されたフラッシュメモリシステム300は、仮想接地方式のアレイ構成(302)を採用している。プログラム動作中において、対象メモリセル(706)には負の基板電圧が印加され、当該電圧がなければ対象メモリセル(706)内を流れてしまうであろうリーク電流を制御または排除する。当該負の基板電圧はまた、対象セルのドレインに対応するビット線(BL2)の下方に空乏領域(714)をより深く拡張することにより、対象セルに隣接するセル(708)におけるプログラムディスターブの発生を抑制する。当該負の基板電圧は、ベリファイ動作(プログラムベリファイ、弱プログラムベリファイ、消去ベリファイ)の間にも、対象セル(706)に印加され、当該電圧がなければ引き起こされるであろうベリファイ動作中のエラーを抑制または排除する。 (もっと読む)


デュアルビットメモリデバイスは、分離領域(170)によって第2の電荷蓄積領域(164B)から離れて配置された第1の電荷蓄積領域(164A)を含む。メモリを消去する方法は、電荷蓄積領域(164A、B)を消去するために、電荷蓄積領域(164A、B)に電子が注入されることにより提供される。メモリを書き込む方法は、電荷蓄積領域(164A、B)に書き込むために、電荷蓄積領域(164A、B)の少なくとも一方にホールが注入されることにより提供される。 (もっと読む)


【課題】2ビット格納型不揮発性メモリセルのプログラムと消去状態のセル電流比の増大をはかるとともに消費電力を低減する。
【解決手段】プログラム状態をドレインおよびソース接合エッジ近傍の2局所領域に電子注入された状態、消去状態は2局所領域の電子が中和またはホールが注入された状態とし、読み出しバイアスを線形領域とする。プログラム状態のセル電流は、ソース側の注入電荷は導電チャンネルの形成に必要な電子キャリアの流入を抑制すると共に、ドレイン側の注入電荷はその近傍の導電チャンネルの形成を制限しセル電流の抑制することができ、読みだし電流の低減、セル電流比の向上と読みだし動作マージン改善を実現する。 (もっと読む)


【課題】いわゆるNAND型MONOSメモリデバイスにおいて、1つのメモリトランジスタに対するデータの書き込みと消去をビット単位で任意に行うことを可能にする。
【解決手段】書き込みにおいては、選択されたメモリトランジスタの電荷蓄積膜(ONO膜)30の第1局部と第2局部に独立に、いわゆるCHE注入により電子を注入する(第1および第2の電荷注入ステップ)。一方、消去においては、第1局部(A部)に対する電子の注入時にドレインとして機能するソース・ドレイン領域22側で、バンド−バンド間トンネル電流に起因したホールを発生させ、これをA部に注入し、注入したホールによって、A部に注入されている電子の少なくとも一部を電気的に相殺する(第3の電荷注入ステップ)。第3の電荷注入ステップにおいて第2局部(A部と反対側の局部)にホールを注入する場合はソースとドレインの機能を入れ替える。
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不揮発性半導体記憶装置は、1メモリセル当たり2ビットの情報を格納する複数の不揮発性メモリセルと、不揮発性メモリセルに対して新規データ書き込みと同時に既存データのリフレッシュを行うプログラム動作において、新規データ書き込み対象ビットを第1の閾値によりベリファイし、既存データのリフレッシュ対象ビットを第2の閾値によりベリファイする制御回路を含み、第1の閾値より第2の閾値が低いことを特徴とする。
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【課題】 不揮発性半導体記憶装置の高速化を実現すること。
【解決手段】 本発明の不揮発性半導体記憶装置は、電気的に書き換え可能なメモリセルが配列された複数のメモリブロックでなるメモリセルアレイを有する不揮発性半導体記憶装置であって、前記複数のメモリブロックのうちの選択したメモリブロックにおける全ての前記メモリセルのデータを消去する前に、前記選択したメモリブロックにおける全ての前記メモリセルのしきい値を正とするプリプログラムを行うことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】データの書き込み時間を低減することができる不揮発性半導体記憶装置及びデータ読み書き方法を提供すること
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置10は、メモリセルアレイ20と、シフト値SFTを格納するシフト値格納領域25と、メモリセルアレイ20及びシフト値格納領域25に対するデータの読み書きを制御する制御回路50と、制御回路50に接続されたデータ処理回路100とを備える。「シフト値SFT」は、多値データが示す複数のデータ値とメモリセル21が有する複数の閾値電圧との対応関係を示す。このデータ処理回路100は、シフト値SFTを可変に設定する。 (もっと読む)


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