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Fターム[5B125EB08]の内容

リードオンリーメモリ (43,397) | EEPROMセルへの電荷注入、放出構成 (1,604) | 基板バイアスの電圧制御 (154)

Fターム[5B125EB08]に分類される特許

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【課題】不揮発性半導体記憶装置においてリーク電流を抑制し読み出し動作を正確に実行する。
【解決手段】この不揮発性半導体記憶装置は、1導電型の半導体層と、第1方向に並ぶように前記第1半導体層上に形成される複数の第2導電型のウエルを有する。この複数のウエルの各々に、メモリブロックが配列される。複数のメモリブロックは、それぞれ複数のメモリセル及び選択トランジスタを直列接続してなる複数のNANDセルユニットを配列してなる。複数のワード線が、1つのメモリブロック中の複数のNANDセルユニットに共通に接続される。複数のビット線は、第1方向に延びて複数のメモリブロックに存在するNANDセルユニットの一端に接続される。ソース線は、NANDセルユニットの他端に接続される。ウエルドライバは、第1電圧、又は第1電圧よりも大きい第2電圧を選択的に複数の前記ウエルの各々に与える制御を行う。 (もっと読む)


【課題】選択メモリセルに与える影響を緩和し、正確にデータを書き込むことのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルアレイと、選択メモリセルに書き込みパルス電圧を印加するとともに非選択メモリセルに中間電圧を印加する書き込み動作、書き込みベリファイ動作及び書き込みパルス電圧を第1のステップアップ値だけ上昇させるステップアップ動作を繰り返す制御を実行する制御部とを備える。制御部は、書き込みパルス電圧の印加回数が第1の回数より少ない第1期間では中間電圧を一定の値に保ち、書き込みパルス電圧の印加回数が第1の回数以上である第2期間では中間電圧を第2のステップアップ値だけ上昇させるようにステップアップ動作を制御し、且つ、第2のステップアップ値に基づき第1のステップアップ値を決定する。 (もっと読む)


【課題】メモリセルの過消去を防止し、データの誤書き込みを低減した不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリストリングに隣接するダミーに接続された第1配線、並びに、メモリセル毎に接続された第2配線を有するセルアレイを備え、ダミーセルに隣接する前記メモリセルを第1対象メモリセル、第1対象メモリセルに隣接する前記メモリセルを第2対象メモリセルとし、第1配線に印加される電圧を隣接第1配線電圧とし、第1対象メモリセルに接続された第2配線に印加される電圧を第2配線電圧とし、第2対象メモリセルに接続された第2配線に印加される電圧を第3配線電圧とした場合、駆動回路は、消去動作時において、第1配線電圧よりも第3配線電圧が小さい場合、第1配線電圧と第3配線電圧の差を第1配線電圧と第2配線電圧の差よりも小さくする。 (もっと読む)


【課題】書き込み/消去の繰り返しによる信頼性の低下を抑制することが可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、ウェル上にトンネル絶縁膜を介して形成された浮遊ゲートに蓄積する電荷量を制御することにより電気的にデータを書き換え可能な複数のメモリセルを備える。半導体記憶装置は、前記ウェル、及び前記浮遊ゲート上に絶縁膜を介して形成された制御ゲートに、電圧を印加する制御回路を備える。
前記メモリセルの消去動作において、前記制御回路は、第1の消去電圧が階段状に上昇する第1のパルス波を、前記ウェルに印加し、その後、第2の消去電圧の第2のパルス波を、前記ウェルに印加する。 (もっと読む)


【課題】向上された信頼性を有する不揮発性メモリ装置、不揮発性メモリ装置の消去方法、不揮発性メモリ装置の動作方法、不揮発性メモリ装置を含むメモリシステム、及びメモリシステムの動作方法が提供される。
【解決手段】本発明の消去方法は複数のメモリセルに消去電圧を供給する段階、複数のメモリセルのワードラインに読出し電圧に読出し動作を遂行する段階、及び複数のメモリセルのワードラインの少なくとも1つのワードラインに消去検証電圧を利用して消去検証動作を遂行する段階を含む。消去検証電圧は読出し電圧より低い。 (もっと読む)


【課題】消費電力および消費電流を低減することが可能な不揮発性半導体メモリを提供する。
【解決手段】複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、入出力パッドと、メモリセルから読み出したデータを、入出力パッドを介して外部に出力し、且つ、外部から書き込みデータおよびコマンドを、入出力パッドを介して入力するためのI/O回路と、メモリセルの、書き込み、読み出し、又は消去動作に必要な第1の電源電圧が印加される第1の電源電圧パッドと、第1の電源電圧よりも低く且つI/O回路に供給するための第2の電源電圧が印加される第2の電源電圧パッドと、第1の電源電圧を降圧し、第2の電源電圧よりも高い第1の降圧電圧を出力する第1の降圧回路と、第2の電源電圧を降圧し、第1の降圧電圧よりも低い第2の降圧電圧を出力する第2の降圧回路と、第1の降圧電圧が供給される第1の内部回路と、第2の降圧電圧が供給される第2の内部回路を備える。 (もっと読む)


【課題】プログラム動作の時にトンネル絶縁膜にトラップされた電子を短時間で容易に除去すること。
【解決手段】メモリセルのコントロールゲートにはプログラム電圧を印加し、半導体基板内に形成されたウェルにはデートラップ電圧を印加して前記メモリセルをプログラムする段階と、前記メモリセルを検証する前に、前記デートラップ電圧が前記ウェルに印加される間に前記コントロールゲートに前記デートラップ電圧より低い電圧を印加して、前記メモリセルのトンネル絶縁膜にトラップされた電子を除去する段階と、を含むことを特徴とする半導体装置の動作方法。 (もっと読む)


【課題】データ書き替えの繰り返しによってメモリセルの閾値電圧が下がりくくなることを防止する。
【解決手段】半導体装置1の各メモリセルMCは、共通の浮遊ゲートFGを有する第1のトランジスタ(読出用)TRAと第2のトランジスタ(書込用)とを含む。制御回路11は、一方のトランジスタに通電したときにメモリセルに流れる電流と、両方のトランジスタに通電したときにメモリセルに流れる電流とを比較することによって、第1および第2のトランジスタにそれぞれ接続されるサブビット線SBL_R,SBL_P間のショートを検出する。 (もっと読む)


【課題】消去動作及びソフトプログラム動作の際のメモリセルの劣化の影響を抑制することのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、制御部を備える。制御部は、データ消去のため所定範囲のメモリセルに対し消去電圧を印加する消去動作、データ消去が完了したか否かを確認する消去ベリファイ動作、及びデータ消去が完了しなかった場合に消去電圧を所定のステップアップ値だけ上昇させるステップアップ動作を繰り返す制御を司る。制御部は、一連の消去動作時に消去電圧を印加した回数が第1の回数より大きく、第2の回数(第1の回数<第2の回数)未満の場合、所定範囲のメモリセルを過消去状態から第1の閾値電圧分布状態に設定するソフトプログラム動作を実行し、消去電圧を印加した回数が第1の回数以下、又は第2の回数以上の場合、ソフトプログラム動作を実行しないように構成されている。 (もっと読む)


【課題】メモリセルから正確にデータを読み出すことのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、複数のメモリセルを備えたメモリセルアレイと、選択メモリセルに読み出し電圧を印加するとともに、非選択メモリセルに読み出しパス電圧を印加して読み出し動作を実行する制御回路とを備える。制御回路は、選択メモリセルの制御ゲート電極とソースとの間の電圧を第1の値に設定して選択メモリセルの閾値電圧を読み出す第1の読み出し動作と、選択メモリセルの制御ゲート電極とソースとの間の電圧を第1の値より小さい第2の値に設定して選択メモリセルの閾値電圧を読み出す第2の読み出し動作とを実行可能に構成される。制御回路は、第2の読み出し動作を実行する場合、選択メモリセルの制御ゲート電極の電圧を0又は正の値に保ちながら制御ゲート電極とソースとの間の電圧を第2の値に設定する。 (もっと読む)


【課題】フェイルビット数を高速に検知する。
【解決手段】実施形態に係わる不揮発性半導体メモリは、第1の単位のデータをz個の第2の単位のデータに分け、各第2の単位のデータについてフェイルビットを累積するアキュムレータ12と、書き込み後にフェイルビットを検知する動作を制御する制御回路10とを備える。制御回路10は、各第2の単位のデータについて、そのうちの第3の単位のデータをセンスアンプSA0に記憶させ、センスアンプSA0から、各第2の単位のデータを1ビットずつ、合計zビットずつパラレルに読み出し、検知回路DTCT0を用いてzビットからフェイルビットを検知し、zビットをアキュムレータ12に転送することにより、各第2の単位のデータについてフェイルビットを累積する。 (もっと読む)


【課題】ピーク電流を低減する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置10は、不揮発性メモリ11と、電圧発生回路24と、検知回路25とを含む。電圧発生回路24は、チャージポンプ30と、チャージポンプ30を動作させるクロックを生成するオシレータ32とを有し、かつ不揮発性メモリ11に電圧を供給する。検知回路25は、外部からの電源電圧を監視し、電源電圧が特定のレベルより低くなったことを検知する。電圧発生回路24は、電源電圧が特定のレベルより低くなった場合に、クロックの周波数を低くする。 (もっと読む)


【課題】メモリ容量を容易に調整することが可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】このフラッシュメモリでは、Y方向に配列された4つのP型ウェルPWのうちの端の1つのP型ウェルPWに複数のメモリブロックMB0〜MB3を設け、残りの3つのP型ウェルPWにそれぞれ3つのメモリブロックMB10〜MB12を設ける。また、それぞれメモリブロックMB0〜MB3,MB10〜MB12のX方向に隣接してロウデコーダRD0〜RD3,RD10〜RD12を設ける。メモリブロックMB10〜MB12を削除してメモリ容量を減らす場合でも、周辺回路の再レイアウトが不要となる。 (もっと読む)


【課題】消去時間を短縮する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置10は、共通の半導体領域に設けられた複数のページを有し、複数のページの各々は電気的に書き換え可能な複数のメモリセルを有する、メモリセルアレイ11と、選択ページに対して消去動作を行う制御回路23と、消去動作後に、メモリセルアレイ11に対して消去し過ぎたメモリセルが存在するか否かを判定するベリファイ回路18とを含む。ベリファイ回路18は、選択ページの全メモリセルが閾値OEV1以上であるか否かを判定し、非選択ページのうち消去状態のメモリセルが閾値OEV1より低い閾値OEV2以上であるか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】メモリセルの劣化がある程度進行している状態と、要求仕様を満たさなくなるまで劣化が進行した状態とを外部で認識できるようにする。
【解決手段】半導体装置1において、メモリセルMCは、閾値電圧の相違を利用してデータを不揮発的に記憶する。制御回路11は、データ消去時、メモリセルの閾値電圧が第1ベリファイ電圧以下でない場合にはメモリセルに閾値電圧を小さくするための消去電圧を印加する。制御回路は、消去電圧の印加時間が第1の判定値を超えると第1の劣化状態を表わす信号を出力し、消去電圧の印加時間が第1の判定値より大きい第2の判定値を超えると第2の劣化状態を表わす信号を出力する。 (もっと読む)


【課題】 1つをメモリブロックの書き込み動作中に、別のメモリブロックの読み出し動作を実行することで、アクセス効率を向上する。
【解決手段】 半導体メモリは、複数ビットの書き込みデータおよび書き込みデータのパリティデータをビット毎に保持する複数のメモリ領域を有する複数のメモリブロックを有している。書き込みコマンドに応答して、メモリブロックの1つである書き込みメモリブロックのメモリ領域に、書き込みデータおよびパリティデータが順に書き込まれる。読み出しコマンドに応答して、書き込みメモリブロックを除くメモリブロックの1つにおいて、書き込みデータおよびパリティデータが供給されていないデータ線に対応するメモリ領域からデータが読み出され、書き込み動作により読み出させないデータが再生される。これにより、書き込み動作と並行して読み出し動作を実行できる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、プログラム電流クランプを有する不揮発性メモリ素子及び関連する方法を提供する。
【解決手段】 選択トランジスタとメモリ・トランジスタとを有する不揮発性メモリ・セルをプログラミングする方法が提供される。当該方法は:前記メモリ・セルの第1の入力に予め設定された制限電流を印加する段階;前記メモリ・セルの第2の入力に電気的に接続された電流制限回路に制限電圧を印加する段階;前記メモリ・セルの電圧降下を安定化させるために制限電圧を印加する段階;前記電流制限回路により決定された予め設定された制限された電流で前記メモリ・セルをプログラミングするために、前記メモリ・セルに傾斜したゲート電圧を印加する段階;を有する。 (もっと読む)


【課題】メモリセルごとの消去回数を低減することで、フラッシュメモリの寿命を延ばす。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置3は、複数の半導体領域202の各々に設けられ、かつ直列に接続されたメモリトランジスタ及び選択トランジスタを有する複数の不揮発性メモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルブロックと、同一行にあるメモリトランジスタを共通接続するようにして、複数のメモリトランジスタのコントロールゲートに接続された複数のワード線WLと、同一行にある選択トランジスタを共通接続するようにして、複数の選択トランジスタのゲートに接続された複数の選択ゲート線SGとを含む。ロウデコーダ20は、消去動作時に、半導体領域に消去電圧を印加した状態で、データが消去される選択ワード線に負の第1の電圧を印加し、データが消去されない非選択ワード線に正の第2の電圧を印加する。 (もっと読む)


【課題】 プリチャージ動作を不要にすることで、読み出しアクセス時間を短縮する。
【解決手段】 メモリセルは、第1電圧線と第2電圧線の間に接続ノードを介して直列に接続され、相補の論理を記憶する一対のセルトランジスタを有する。第1制御回路は、読み出し動作時に、一対のセルトランジスタのコントロールゲートを活性化レベルに設定する。第2制御回路は、読み出し動作時に、第1電圧線を第1電圧に設定し、第2電圧線を第1電圧より高い第2電圧に設定する。読み出し回路は、読み出し動作時に、接続ノードに生成される電圧に応じて、メモリセルに保持されている論理を判定する。これにより、読み出し動作において、メモリセルに保持されている論理に応じて、接続ノードを第1電圧または第2電圧に設定できる。 (もっと読む)


【課題】消去閾値電圧分布圧縮時間を減少し、総合消去処理時間を改善するためのシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】不揮発性メモリのメモリブロックを消去する方法が、消去パルスのパルス幅(PW)を初期幅に設定するステップ、メモリブロックが消去メトリックを満たすまで、または最大数の消去パルスが印加されるまで、メモリブロックに消去パルスを繰り返し印加するステップ(517)、消去パルスのパルス電圧の大きさを初期パルス電圧レベルから最大パルス電圧レベル(PMAX)に徐々に調整するステップ(519)、パルス電圧の大きさが初期パルス電圧レベルと最大パルス電圧レベルとの間の中間電圧レベルに達したとき、消去パルスの幅を初期幅より狭くなるように減少するステップ(525)を含む。狭いパルスはより高い電圧レベルで印加されて、メモリブロックの過剰消去の量が減少される。 (もっと読む)


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