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Fターム[5C024BX06]の内容

光信号から電気信号への変換 (72,976) | 用途 (2,768) | コンピュータ、パソコン用 (34)

Fターム[5C024BX06]に分類される特許

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【課題】リセット用トランジスタから光電変換素子の方へ漏れる電流の影響を小さくすることが出来る半導体装置およびその駆動方法を提供する。
【解決手段】リセット用トランジスタと光電変換素子とリセット側電源線とダイオード側電源線を有する半導体装置において、リセット用トランジスタのゲート端子はリセット信号線に接続されており、光電変換素子の一方の端子は、ダイオード側電源線と電気的に接続されており、他方の端子は、リセット用トランジスタを介してリセット側電源線と接続されており、リセット用トランジスタが非導通状態のときに、リセット側電源線の電位をダイオード側電源線の電位に近づける。 (もっと読む)


【課題】 装置構成が単純で、アスペクト比を維持したまま解像度の切り替えが可能で、低解像度画像の取込み時間が短い2次元撮像装置を得る。
【解決手段】 光電変換手段(105)を有する画素(14)が行列状に配置し、その画素内に配置されたTFT(104、114)を走査配線(103、113)により供給される走査信号(G、Gy+1)によってデータ配線(102)と光電変換手段とを導通制御するようにしたマトリクス基板と、走査配線にゲート選択信号を供給する垂直走査回路部(11)と、データ配線を介して光電変換手段に初期化電圧を供給し、その後にデータ配線を介して光電変換手段の放電電位を読み込む水平走査回路部(12)とを具備しており、さらに走査配線は行列状に配置された画素一行あたり2本配置され、データ配線は、一行あたり2つの画素がそれぞれTFTを介して接続される。 (もっと読む)


撮像素子における欠陥がその検出及び補正に関するさまざまな技術が提供される。一実施形態では、既知の静的欠陥の位置を格納する静的欠陥テーブルが提供され、現画素の位置が、静的欠陥テーブルに格納された情報と比較される。もし現画素の位置が静的欠陥テーブル内で見つかれば、現画素は静的欠陥と識別され、同一色の先行画素値を置換値として補正される。現画素が静的欠陥と識別されない場合、現画素と隣接画素のセットとの間の画素間勾配を動的欠陥閾値を用いて比較することにより、現画素が動的欠陥かどうかが判定される。動的欠陥が検知されれば、補正のための置換値は、最小勾配を示す方向における、現画素と反対側の2つの隣接画素の値を補間して決定される。 (もっと読む)


【課題】動画撮影中に撮影条件が変化した場合であっても、ちらつきのない安定した動画像を生成できるようにする。
【解決手段】撮影条件変更前後の画像を取得し(S201)、取得した2つの画像間について対応点もしくは対応領域の対応部を複数組決定し(S202)、各対応部における画素値の変位を算出する(S203)。そして、S203で算出した画素値の変位と、撮影条件変更前の画像の処理に用いた階調曲線に基づいて、撮影条件変更後の画像の処理に用いる階調曲線に係る制御点を決定する(S204)。そして、S204で決定した制御点を用いて階調曲線を作成し(S205)、作成した階調曲線を用いて撮影条件変更後の画像に対して階調変換処理を行う(S206)。 (もっと読む)


【課題】集光素子において、通常の半導体装置作製工程でも安定的に作製できる構造を提供する。また、集光素子の形状ばらつきによる歩留まり低下、特性ばらつきを防止する。
【解決手段】本発明における集光素子は、第1の屈折率を有する1つ以上の第1の輪帯領域102と、第1の屈折率と異なる第2の屈折率を有する1つ以上の第2の輪帯領域103とを有し、前記第1の輪帯領域102と前記第2の輪帯領域103とが同心状に交互に隣接して配置された集光素子であって、第1の輪帯領域102および第2の輪帯領域102のうちの少なくとも1つは、輪帯領域の幅が徐々に狭くなる部分に間隙104を有する。 (もっと読む)


【課題】情報機器の入力装置などにおいて、3次元化されたアプリケーションに対する奥行方向のカーソル等の移動の不自然さを解消する。
【解決手段】本発明では、複数のレンズが略平面状に配列されたレンズアレイと、該レンズアレイに対して垂直方向に移動する被写体について、前記レンズアレイの複数のレンズによりそれぞれ結像される個眼画像の集合である複眼画像を取得する撮像素子とからなる複眼撮像手段と、該複眼撮像手段で取得される複眼画像を時系列に入力して、該複眼画像の個眼画像間の画像シフト量を順次算出するシフト量算出手段と、該シフト量算出手段で算出された第1の時刻の画像シフト量と、該第1の時刻と異なる第2の時刻の画像シフト量とにもとづいて、前記被写体の移動量を算出する移動量算出手段とを備えることを基本構成とする。 (もっと読む)


【課題】ノイズ光の発生を効果的に抑制できる遮光構造を実現すること。
【解決手段】本発明に係る撮像装置は、複数のレンズを有する透明基板30、及び複数のレンズに対応する複数の画素を有するセンサ基板10を備える撮像装置であって、透明基板30とセンサ基板10の間に配置され、複数のレンズに対応する複数の透光孔25を有する遮光構造部20を備え、透明基板30から透光孔25を通過して画素PXに受光される光のうち、透光孔25の壁面26,27の反射光を低減するように、透光孔25の少なくとも一部の壁面にすり鉢状の傾斜面と突起部29を有するものである。 (もっと読む)


【課題】CCD、CMOS等の固体撮像素子の有効画素領域(撮像部)の周縁に、遮光性及び密着性に優れた遮光膜を形成することができ、得られる遮光膜が、高温高湿の条件下にあっても上記性能を維持することができる遮光膜形成用感放射線性組成物、固体撮像素子用遮光膜及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】本発明は、固体撮像素子における有効画素領域の周縁に、遮光膜を形成するために用いられる遮光膜形成用感放射線性組成物であって、黒色顔料と、酸価が15〜40mgKOH/g且つアミン価が25〜40mgKOH/gの変性アクリル系ブロック共重合体と、アセナフチレン又はN−フェニルマレイミドに由来する繰り返し構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、多官能性単量体と、光重合開始剤とを含有する。 (もっと読む)


不良ピクセルクラスタ検出のシステムおよび方法が開示される。特定の実施形態では、画像データを受信するために結合され、不良ピクセルクラスタ検出プロセスを実行するように適合された不良ピクセル補正モジュールを備えるシステムが開示される。該不良ピクセル補正モジュールは、2つのテストピクセルが、周囲ピクセルのグループの代表値をしきい値よりも多い量だけ超える値を有するかどうかを決定するためのロジックを含む。該しきい値はテーブルルックアップを介して決定される。 (もっと読む)


【課題】携帯情報処理装置に搭載されるカメラの検査を低コストな構成で実行することが可能な携帯情報処理装置、そのカメラの検査方法、およびコンピュータが実行可能なプログラムを提供することを目的とする。
【解決手段】本体側筐体2と、当該本体側筐体2に対して開閉可能に設けられ、かつ、閉じられる側の面に液晶ディスプレイ5およびカメラモジュール6を有するディスプレイ側筐体3とを備えたノート型PC1において、リッドセンサでディスプレイ側筐体3の閉じ状態を検出した場合に、カメラモジュール6の撮像素子の欠落画素を検査する欠落画素検査モードを実行する。 (もっと読む)


【課題】信頼性が高い固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】表面に電極13が形成されたプリント基板12と、このプリント基板12上に、受光素子が配列形成された受光面がプリント基板12に対して垂直になるように実装され、受光素子の信号出力を裏面から取り出す貫通電極22を有する固体撮像素子15と、この固体撮像素子15の貫通電極22及びプリント基板12の電極13を相互に接続する半田ボール16と、を具備し、半田ボール16は、固体撮像素子15を、その裏面において、プリント基板12に固定することを特徴とする固体撮像装置。 (もっと読む)


【課題】 画素起因ノイズ除去率を向上し、信号処理速度を向上することができるようにする。
【解決手段】 被写体像を撮像する複数の画素と、前記複数の画素から信号を読み出す複数の垂直出力線と、前記複数の垂直出力線に読み出された信号を増幅する増幅回路と、前記複数の画素から読み出された信号に含まれるノイズ成分を補正する補正回路と、前記増幅回路から出力された信号を水平出力線に転送する転送手段とを有し、前記補正回路と前記増幅回路は、少なくとも一部分を共有していることを特徴とする撮像装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】 従来は、上位ビット変換時の1クロック当たりの積分電荷量と下位ビット変換時の1クロック当たりの積分電荷両との比が列毎に異なり、補正処理の負担が大きくなるという問題があった。またA/D変換回路の持つオフセットを除去できないという問題があった。
【解決手段】 信号レベルの変化する方向が異なる少なくとも2つの参照信号を画素領域の列に対応して設けられたA/D変換回路に対して共通に供給する参照信号生成回路を備え、各A/D変換回路は増幅器と、アナログ信号及び参照信号生成回路から供給される参照信号を一方の端子に受け、他方の端子が前記増幅器の一の入力端子に接続される入力容量と、前記一の入力端子と前記増幅器の出力端子とを接続する帰還容量と、増幅器の出力端子からの出力を比較レベルと比較する比較器と、一方の端子が増幅器の出力端子と接続され他方の端子が比較器の一の入力端子と接続される接続容量と、を有する。 (もっと読む)


【課題】光学レンズと撮像素子との間隔を減少させ、焦点距離を短縮することのできる複眼撮像装置を提供する。
【解決手段】光軸Lが互いに平行である凸形状の複数の光学レンズ35が配置されてなる光学レンズアレイ3と、光学レンズアレイ3から所定距離隔てて配置される撮像素子12と、光学レンズアレイ3と撮像素子12との間に配置され、複数の光学レンズ35の各々から出射される光が互いに干渉しないよう遮断する隔壁部材5と、を備える複眼撮像装置10において、隔壁部材5は複数の光学レンズ35の各々に対応する複数の開口52が形成された平板であって、隔壁部材5は、光学レンズ35と接しない状態で、且つ、複数の光学レンズ35の出射面の一部が複数の開口52の内側に位置するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】連通孔の閉塞工程を独立して行う必要がなく、これにより、撮像装置の製造工程の簡略化を図り、生産効率を向上させる。
【解決手段】撮像素子を搭載したプリント基板11及び赤外線カットフィルタ4がセンサカバー3に対してそれぞれ接着固定されることにより収納空間が形成される撮像ユニットと、撮像ユニットに取り付けられるレンズユニットとを備え、センサカバーには、レンズユニットを接着により取付けるために接着剤が塗抹される第1ユニット接着部341が設けられ、第1ユニット接着部には、レンズユニットの接着取付けにより閉塞される位置に収納空間と外部を連通する連通孔341aが形成されている。 (もっと読む)


【課題】 光デバイスの小型化及びその生産性の向上を図ることにある。
【解決手段】 光デバイスの製造方法は、(a)複数の開口部を有する配線基板に、光学的部分を有する複数の光学チップを、光学的部分がいずれかの開口部を向くように搭載すること、(b)光透過性基板を、複数の開口部を覆うように接着層を介して配線基板に貼り付けて、光学的部分と光透過性基板との間に空間を形成すること、(c)配線基板及び光透過性基板を、複数の個片が得られるように切断すること、を含む。 (もっと読む)


【課題】CMOSイメージセンサのフォトダイオード部において、感度向上を図るとともに、隣接画素への電荷のクロストーク(漏れ込み)を低減する。
【解決手段】高濃度のP型の半導体基板(例えばシリコン基板)である基板P+層26上に、基板P+層26よりも不純物濃度が低いP型層27を形成し、P型層27の上側位置にN型光電変換領域14を設ける。これにより、P型層27で発生した光電子のうち基板方向へ拡散した電子は、基板P+層26において確実に捕捉され再結合により消滅するようにする。 (もっと読む)


【解決手段】 実施例によるカメラモジュールは、WLO(Wafer Level Optics)レンズを含むレンズアセンブリーと、表面実装技術を利用して前記レンズアセンブリーが実装されるセンサアセンブリーを含む。また、実施例によるカメラモジュールは、SMT技術を利用してレンズを直接センサダイに載せることで、カメラモジュールの製造工程を単純化し、製造費用を節減することができる効果がある。さらに、カメラモジュールの高さが低くなり、スリムなデザインとすることができる。 (もっと読む)


【課題】光量の少ない条件下においても、解像度を落とさずに良好な画像を取得する固体撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の固体撮像装置は、複数の列に対応して設けられ、アナログ画素信号をデジタル画素信号に変換する複数のAD変換手段を備える。各AD変換手段は、コンパレータと、カウンタと、カウント制御部とを備える。前記コンパレータは、三角波形をもつ参照電圧と、対応する垂直信号線からのアナログ信号とを比較する。前記カウント制御部は、対応する列のコンパレータと他の列のコンパレータとを含む複数のコンパレータの複数の出力信号線に接続され、当該複数の出力信号線の状態に応じて前記カウンタのカウント動作を制御する。前記カウンタは、前記複数のコンパレータに入力される複数のアナログ画素信号の和を表すカウント値を前記デジタル画素信号として出力する。 (もっと読む)


【課題】材料の解像度や感度特性を向上させたり、下地膜を加工することなく、隣接するカラーフィルタ間の隙間や重なりをなくして分光特性の優れたカラーフィルタを形成する。
【解決手段】パターンニング時に、カラーフィルタ材料間の間隔は、カラーフィルタ材料の特性や熱処理時の溶融量を考慮して、溶融後に隙間がなくなるような間隔に設定する。また、アライメント精度による位置ずれを考慮して、カラーフィルター6a、6bおよび6cの端部が互いに重ならないような間隔に設定する。このように、カラーフィルタ6a’、6b’および6c’を、隣接する他の色のカラーフィルタ材料との間に所定の間隔Cが開くように半導体基板1上にパターンニングし、これを加熱処理して流動および硬化させる。 (もっと読む)


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