【課題】収差を軽減して試料に荷電粒子ビームを照射可能であるとともに、試料の表面にガスを導入する場合などでも、放電のおそれ無く荷電粒子ビームを照射することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置１は、荷電粒子ビームＩを放出する荷電粒子源９と、荷電粒子ビームＩを補正、偏向する補正・偏向手段１９、及び、二つの外側電極１６ａ、１６ｂと、外側電極１６ａ、１６ｂに挟み込まれた少なくとも一つの中間電極１６ｃとが、照射方向に配列して構成され、荷電粒子ビームＩを集束させて試料Ｍに照射させる対物レンズ１６を有する荷電粒子ビーム光学系１１と、荷電粒子ビーム光学系１１の対物レンズ１６の中間電極１６ｃに、外側電極１６ａ、１６ｂに対して正負いずれかの電位差が生じるように電圧を切り替えて印加することが可能な対物レンズ制御電源３６とを備える。 （もっと読む）

【課題】数百ミクロン以上の所望領域を高速に一括加工可能な機能が従来の荷電粒子線装置には無かった。試料の所望の領域の所望の層を短時間で一括加工し、荷電粒子線による検査、解析、微細加工等を実現する荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置内にプラズマのガス供給源とプラズマ電源に繋がった電極を所望領域近傍に設置できる構成とし、局所的なプラズマ加工と荷電粒子線による検査、解析、微細加工等の複合機能を実現する。 （もっと読む）

【課題】 フィラメントから放出される熱電子量を、安定して高精度に制御する。
【解決手段】 フィラメント制御装置１０は、フィラメント５の抵抗値を測定する抵抗測定手段１と、第１期間中の抵抗平均値Ｒａｖｅを演算する抵抗平均値演算器２と、抵抗平均値Ｒａｖｅと電力目標値Ｗｒｅｆとから、フィラメント５に供給すべき電流目標値Ｉｒｅｆを演算する電流目標値演算器３と、第１期間の後の第２期間中において、電流目標値Ｉｒｅｆと一致するように、フィラメント５に流れる電流値を制御する定電流電源４と、第１期間および第２期間のタイミングを制御するタイミング制御回路６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】電子銃内のplasmaの継続中に、カソードからターゲットに電子ビームパルスを複数回発射する電源装置を提供し、単位電子ビームパルスの波形、相互の時間間隔を可変にして群パルスを作り、表面改質効果ならびに品質を改善する。
【解決手段】低圧電離気体のプラズマが封入されている電子銃のカソードからターゲットに電子ビームを発射する高圧電源回路をコンデンサ充放電形式とし、そのコンデンサを複数、独立に備え、予め充電し、第一のコンデンサを放電させて第一の単位電子ビームパルスを発射し、遅延時間をおいて第二のコンデンサを放電させて第二の単位電子ビームパルスを発射し、さらにこれを続けて断続した複数個の単位電子ビームパルスによる群パルスを形成させてターゲットに照射する。各単位パルスの大きさと遅延時間を選択可能としてターゲット表面の熱作用モードを最適化する。 （もっと読む）

【課題】真空中での溶解、溶接、加工、および蒸着等に用いられる電子源において、電子銃のビームパワーを急速に変化させる。
【解決手段】フィラメントカソード１とブロックカソード２との間に第1の電圧を印加し、ブロックカソード２とアノード３との間に第２の電圧を印加する。第1の閉ループ調整システム８，７を使用してフィラメントカソード１を定電流値に調整することによって、ブロックカソード２の最大ビームパワーに十分なフィラメント温度にする。瞬時ブロック電力値と公称ブロック電力値との間の差に反応するブロック電力調整器１３等を含む第2の閉ループ調整システム１７、１３、１２が、フィラメントカソード１とブロックカソード２との間の電圧を調整する。 （もっと読む）