【課題】 有機ＥＬ装置の視野角特性を改善する。
【解決手段】有機ＥＬ装置は、画素電極（１３）、発光機能層（１８）及び対向電極（５）からなる有機ＥＬ素子（８）を複数含む。これら複数の有機ＥＬ素子には、反射層（３４）及び半透明半反射層たる前記対向電極からなる、複数の共振器が対応する。有機ＥＬ素子には、赤色用、緑色用、及び青色用の区別がある。このうち緑色用の有機ＥＬ素子は２つあり、そのうちの１つである有機ＥＬ素子（８Ｇ１）に対応する共振器内の画素電極（１３Ｇ１）の厚さは、他の１つである有機ＥＬ素子（８Ｇ２）に対応する共振器内の画素電極（１３Ｇ２）の厚さと異なる。これにより、両有機ＥＬ素子における共振対象波長が異なることになる。かかる状況によると、いわゆる短波長シフトが生じても、正対視する場合と同じ緑色が、視認者に認識されうる。 （もっと読む）

【課題】画面位置の制約を受けずに異なる表示色での表示が自由にできるドットマトリックス型ディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】第１色と第１帯電極性とを有する第１の表示媒体と、第２色と第２帯電極性とを有する第２の表示媒体との２種類の表示媒体を組み合せ、対向電極対間に配置した第１の表示素子（１１−１）１個と、第１色と第１帯電極性とを有する第１の表示媒体と、第３色と第２帯電極性とを有する第３の表示媒体との２種類の表示媒体を組み合せ、対向電極対間に配置した第２の表示素子（１１−２）１個との２個の表示素子をもって１表示単位としてマトリックス配置し、各表示素子に配置した対向電極対に電圧を印加して各表示素子に封入された２種類の表示媒体を反転移動させて情報画像を表示する。 （もっと読む）

【課題】高いコントラストが得られ、各部位での色むら、濃度むら、筋むらを抑制できるカラーフィルターの製造方法等を提供する。
【解決手段】描画データに基づく、インク付与工程を有するカラーフィルター１の製造方法であって、液滴吐出装置の構成物の洗浄または交換、カラーフィルター１の条件の変更がなされると、描画データに基づいて、インクジェット方式でインクの液滴を吐出し、テスト用基板上のセルに対してインクを付与し、テスト用基板の各セル１４内のそれぞれのインクの量を検出し、その検出結果に基づいて、基板１１の各セル１４内のそれぞれのインクの量が目標値になるようにセル１４に付与するインクの液滴数を調整するのに用いる補正データを作成する補正データ作成工程を行い、補正データにより描画データを補正し、補正後の描画データを用いて、インク付与工程を行う。インクの樹脂材料は、重合体Ｗ、Ｚの少なくとも一方を含む。 （もっと読む）

【課題】高いコントラストが得られ、各部位での色むら、濃度むら、筋むらを抑制することができるカラーフィルターの製造方法等を提供する。
【解決手段】描画データに基づく、インク付与工程を有するカラーフィルター１の製造方法であって、液滴吐出装置に関する所定の物理量を検出し、それが許容範囲から外れたとき、描画データに基づいて、インクジェット方式でインクの液滴を吐出し、テスト用基板上のセルに対してインクを付与し、テスト用基板の各セル１４内のそれぞれのインクの量を検出し、その検出結果に基づいて、基板１１の各セル１４内のそれぞれのインクの量が目標値になるようにセル１４に付与するインクの液滴数を調整するのに用いる補正データを作成する補正データ作成工程を行い、補正データにより描画データを補正し、その補正後の描画データを用いて、インク付与工程を行う。インクの樹脂材料は、重合体Ｗ、Ｚの少なくとも一方を含む。 （もっと読む）

【課題】迷光による画質劣化を抑えることが可能な反射板、これを備えた表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】発光パネル１０の光取り出し側に、複数の反射素子３１Ｃを有する反射板３０を配設する。反射素子３１Ｃの周囲に、樹脂材料よりなる第１埋め込み層３４Ａと、樹脂材料および光吸収材料を含む第２埋め込み層３４Ｂを形成する。樹脂材料としては、アクリル、エポキシ系の紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂など、光吸収材料としては、炭素（Ｃ），酸化クロム（ＣｒＯ），窒化チタン（ＴｉＮ）およびシリコン（Ｓｉ）などを用いる。第２埋め込み層３４Ｂにより、反射素子３１Ｃに入射しなかった漏れ光ｈ１を吸収し、迷光による画質劣化を抑える。 （もっと読む）

【課題】機能膜を形成する工程において、機能膜区画に向けて吐出された液滴が、機能膜区画に膨出した遮光層の部分に乗り上げることに起因して、機能膜の断面形状が不均一となり機能膜の機能が劣化することを抑制できる電気光学装置、及びカラーフィルタを提供する。
【解決手段】電気光学装置は、光透過性を有する、又は発光する機能膜と、機能膜の形状を規定する側壁層と、側壁層が機能膜側に膨出した膨出部と、を備え、膨出部の外形は、直線及び曲線の両方又はいずれか一方で形成されており、直線又は曲線が相互の接続部において形成する膨出部側の角度が鈍角である電気光学装置である。また、膨出部の外形は、直線及び曲線、又は曲線で形成されており、直線と曲線と、又は曲線と曲線と、はその接続部において互いに接している電気光学装置である。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＹ方式で原色に近いデータ変換式を規定するとともに、ＣＭＹ方式よりもさらに明るい表示を行うことができる画像表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】１画素が、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ホワイト（Ｗ）の４色のサブピクセルからなり、カラー表示、白成分を強調したカラー表示、モノクロ表示、の表示モードを有する反射型または半透過型の液晶表示装置、または、反射型または半透過型の電子ペーパ表示装置。 （もっと読む）

表示デバイスが、複数のエレクトロルミネッセンス表示画素と、複数の半導体素子（「チップレット」）と、複数のカラーフィルタおよび／またはダウンコンバータとを備え、複数の表示画素をアドレス指定するために、各画素が電気絶縁層のビアホールを介して１つ以上の半導体素子の出力に電気的に接続される。カラーフィルタおよび／またはダウンコンバータと半導体素子とは、デバイスの同じ表面に設けられる。 （もっと読む）

【課題】 アレイ基板及びこれの製造方法を提供すること。
【解決手段】 表示基板は、ベース基板の表示領域に形成され、互いに交差するゲート配線とデータ配線に接続されるトランジスタを含むトランジスタ層、トランジスタ層上の画素領域に形成されるカラーフィルタ、互いに異なるカラーフィルタとの間に形成され、光を遮断する第１遮光部材、第１遮光部材上に配置されて、第１遮光部材をカバーする第１透明部材、表示領域を取り囲むベース基板の周辺領域に形成され、カラーフィルタと同一物質からなる第１カラーパターン、及び第１透明部材と同一物質からなり、第１カラーパターンをカバーするように周辺領域に配置される第２透明部材を含む。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、高品質なカラー画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、画素の開口領域を区画する非開口領域に、互いに交差するように配置されたデータ線（６ａ）及び走査線（３ａ）と、データ線より上層側に形成されており、平坦化処理が施された平坦部（２４０）及び平坦部より下層側に掘り下げられた凹部（２５０）を有する層間絶縁膜（４３）と、平坦部上に形成されたシールド層（２１０）と、層間絶縁膜より上層側に、少なくとも凹部を埋めるように形成されたカラーフィルタ（２２０）と、カラーフィルタより上層側に、データ線及び走査線の交差に対応するように形成された画素電極（９ａ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】静電容量結合方式のタッチパネル機能を有し表示面への接触物の接触位置を検出可能であるとともに映像を表示可能な表示装置に用いられる有用なカラーフィルタを提供する。
【解決手段】カラーフィルタ５０は、基材５２と、基材の一方の側に設けられ複数の着色部５６を有するカラーフィルタ層５４と、基材の他方の側に設けられた電極部６０と、電極部６０，７０とカラーフィルタ層５４との間に設けられたシールド層と、を備える。電極部は表示面１２への接触位置を検出するための回路に電気的に接続されるようになる。シールド層は、電極部から絶縁されるとともに、接地されるようになる。 （もっと読む）

【課題】多色液晶表示装置に生じる位相差問題を解消することのできる光学補償能を有するカラーフィルタ基板を提供することを課題とし、また上記カラーフィルタ基板を容易にかつ高品質で製造し、さらには、位相差膜が均一に形成されることで、配向不良や輝点不良の発生がない光学補償能を有するカラーフィルタ基板を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも、（ａ）基板上に格子状に区画したブラックマトリックス、（ｂ）前記ブラックマトリックスの区画内に液晶性化合物を熱又は光により硬化させた位相差層、（ｃ）前記位相差層の下に配向膜層、（ｄ）前記位相差層上にカラーフィルタ、とを有するカラーフィルタ基板において、前記ブラックマトリックス上部の表面積（Ａ）とブラックマトリックス基部と基板の接触する部分の面積（Ｂ）が（Ａ）／（Ｂ）＜１．０を満たすことを特徴とするカラーフィルタ基板。 （もっと読む）

【課題】高色再現性と高輝度とを両立する有機ＥＬ表示装置を提供し、観察方向依存性の小さい有機ＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ発光素子、及び、アルミニウムフタロシアニン顔料及びピグメントグリーン７のうち少なくとも１種を含む緑色顔料と、ピグメントイエロー１８５及びピグメントイエロー１５０のうち少なくとも１種を含む黄色顔料と、を含む顔料を用いて構成された緑色画素を含むカラーフィルタを具備する有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

本明細書で議論されるように、ビジュアル通信システム、双方向ビジュアル通信を行う方法、及び装置が提示される。一実施形態では、装置は、（１）片面にマイクロ・レンズの第１のアレイを有するレンズ基板、（２）表示画素の第２のアレイを有する光出力基板、及び（３）第１のアレイの表示画素に関して横に相互分散され、第１のアレイのマイクロ・レンズから光を受光するように配置された画像センサの第３のアレイを有する光入力基板を含む。
（もっと読む）

【課題】各画素における光透過特性の画素間での均一性を向上させたカラーフィルタ及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】基板１２上に形成された仕切り１４により区画され、インクによる複数の色要素からなる画素１３を備えるカラーフィルタ２００であって、前記画素１３が複数形成された領域の外側にダミー画素１３’が形成される。前記画素１つ当たりに付与されるインク及び前記ダミー画素１つ当たりに付与されるインクは、ほぼ同量である。また、前記画素１３を覆う保護膜２１は、前記ダミー画素１３’をも覆うように形成されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ層を全面蒸着しながら、簡便に補助電極と第２電極との接続を行いうる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のＴＦＴが形成された基板上に複数の画素が形成されるトップエミッション型有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記有機ＥＬ素子が、第１電極と、第１電極に対向して設けられた透明な第２電極と、第１電極と第２電極の間に挟まれる有機ＥＬ層とを有し、前記第１電極の端部は絶縁膜により覆われており、前記第２電極が前記絶縁膜上にパターン形成された金属膜と接続されてなり、絶縁膜上に金属膜パターンを形成する工程と、形成された金属膜パターンに重ねるようにワイヤマスクを、張力をかけた状態で設置する工程と、ワイヤマスクが設置された基板全面に有機ＥＬ層を形成する工程と、基板からワイヤマスクを除く工程と、ワイヤマスクを除いた基板全面に第２電極を形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液体レンズを有する表示装置の視野角を広げる。
【解決手段】本発明の表示素子は、光源を有する透過型の表示装置に備えられる表示素子であって、内部に液体レンズを有し、光源からの入射光を透過させて出射するセルと、液体レンズが入射光を焦点させる位置に形成され、光を吸収する吸収体と、セルから出射する光を拡散させる拡散部とを備えている。 （もっと読む）

【課題】複数の表示セルを積層した構造を有する表示装置において、色バランスを改善すること。
【解決手段】一対の透明電極１，２間に第１の波長の光を反射する液晶を封入した第１の表示セルと、一対の透明電極３，４間に第２の波長の光を反射する液晶を封入した第２の表示セルと、一対の透明電極５，６間に第３の波長の光を反射する液晶を封入した第３の表示セルと、を上から順に積層した構造の表示装置において、第１の表示セル及び第２の表示セルの透明電極１〜４の光透過率の中心波長を、第３の波長寄りに設定する。これにより、透明電極１〜４による第３の波長の光の損失が減少し、第３の表示セルの反射光強度が向上して色バランスが改善する。 （もっと読む）

【課題】接触孔を形成するための乾式エッチング工程を容易にする。
【解決手段】第１基板上にゲート電極を含むゲート線及び高さ上向部材を形成する段階、ゲート線及び高さ上向部材上にゲート絶縁膜を形成する段階、ゲート絶縁膜上に半導体とソース電極を含むデータ線、及びソース電極と対向して、高さ上向部材と少なくとも一部が重畳するドレイン電極を形成する段階、ゲート絶縁膜及びデータ線上に第１絶縁膜を形成する段階、第１絶縁膜上のゲート線及びデータ線に対応する部分に画素領域を区画するように遮光部材を形成する段階、遮光部材によって区画された画素領域に色フィルターを形成する段階、遮光部材及び前記色フィルター上に第２絶縁膜を形成する段階、第２絶縁膜、遮光部材または色フィルター、及び第１絶縁膜を写真エッチングして、ドレイン電極の高さ上向部材と重畳する部分を露出させる接触孔を形成する段階、及び第２絶縁膜上に接触孔を通じてドレイン電極と連結される画素電極を形成する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス基板の開口率と消費電力とを向上させる。
【解決手段】アクティブマトリクス基板１０１Ａは、透明基板１０と、透明基板１０上に形成された配線（Ｌ_Ｇ，Ｌ_Ｄ，Ｌ_Ｐ，Ｌ１，Ｌ２等）と、この配線（Ｌ_Ｇ，Ｌ_Ｄ，Ｌ_Ｐ，Ｌ１，Ｌ２等）の少なくとも一部を覆う透明半導体層４４と、配線（Ｌ_Ｇ，Ｌ_Ｄ，Ｌ_Ｐ，Ｌ１，Ｌ２等）および透明半導体層４４の少なくとも一部を覆う透明な絶縁膜と、を備える。配線（Ｌ_Ｇ，Ｌ_Ｄ，Ｌ_Ｐ，Ｌ１，Ｌ２等）は、主配線としての第１メタル配線４１Ｍと、これから分岐する副配線としての透明な配線（４１，４２，４３等）と、を含む。主配線としての第１メタル配線４１Ｍは、少なくとも一部が副配線としての配線（４１，４２，４３等）よりも高い導電性を備えた材料を用いて形成される。 （もっと読む）