【課題】フラットパネルディスプレイの大量生産を可能とし、かつ保管、運搬が容易で安価である。
【解決手段】プラスチック基板と対向して組み合わせてフラットパネルディスプレイとするための薄膜半導体アレイ３を有する単板状の絶縁基板４が長尺状のプラスチックフィルム２上に連続して貼合されてなる。また、フラットパネルディスプレイとする薄膜半導体基板を製造する装置であって、薄膜半導体アレイ３を保護するための保護フィルムが貼合された単板状の絶縁基板４を長尺状のプラスチックフィルム２上に連続して貼合する貼合部と、保護フィルムを加熱または紫外線照射により剥がす剥離部と、長尺状の保護フィルム６を長尺状のプラスチックフィルム２にラミネートして薄膜半導体アレイ３を保護するラミネート部と、長尺状の保護フィルム６をラミネートした長尺状のプラスチックフィルム２をロール状に巻き取る巻取り部とを有する。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板側と対向基板側との組み立て時に位置ずれが生じても混色を抑制でき、かつ、開口率の低下を防止できる液晶パネルを提供する。
【解決手段】画素電極35のそれぞれにいずれかが対応するカラーフィルタ層42の複数色の着色部42r，42g，42bの間に信号線32に対向して無色層43を形成する。アレイ基板15側と対向基板16側との組み立て時に位置ずれが発生した場合でも異なる色に対応する着色部42r，42g，42bが同一の画素電極35に重なりにくく、信号線32を必要以上に太くすることなく混色を抑制できる。互いに異なる色に対応する着色部42r，42g，42b間に光漏れ防止用の遮光層を形成する必要がなく、開口率の低下を防止できる。 （もっと読む）

【課題】半透過液晶表示装置に採用されてモノセルギャップを具現できる表示基板を提供する。
【解決手段】表示基板はベース基板、絶縁層、第１画素電極、及び第２画素電極を含み、ベース基板は透過領域と反射領域を有する画素領域が複数個定義され、絶縁層は、ベース基板の上部に形成され、透過領域に対応してエンボスパターンを有し、第１画素電極はエンボスパターンの絶縁層上に形成された第１透明電極及び反射領域に対応してベース基板の上部に形成された第１反射電極を含み、第２画素電極はエンボスパターンの絶縁層上に形成された第２透明電極及び反射領域に対応してベース基板の上部に形成された第２反射電極を含む。 （もっと読む）

【課題】フラットな液晶表示パネルを湾曲することによって形成される円筒型液晶表示装置において、液晶表示パネルの端部の突き合わせ部における段差をなくする。
【解決手段】研磨によって薄くした液晶表示パネルを湾曲させて円筒型の表示装置を形成する。液晶表示パネルの端部どうしが突き合わされる部分には線Ｌが形成される。線Ｌにおける段差を小さくするために、カラーフィルタ基板２０の端部Ｅ２における板厚ＴＣ２を、液晶表示パネルの他の端部Ｅ１におけるＴＦＴ基板１０の板厚ＴＴ１およびカラーフィルタ基板２０の板厚ＴＣ１の合計よりも大きくする。 （もっと読む）

【課題】表示の形態に対応して画素を構成することにより、各種情報を高い輝度で表示可
能な電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置をヘッドアップディスプレイに用いるにあたって、２つのサブ
画素１００ｂによって１つの画素１００ａを構成し、２つのサブ画素１００ｂのうちの第
１サブ画素１００ｂ₁は、赤色（Ｒ）に対応するカラー用サブ画素とし、第２サブ画素１
００ｂ₂は、緑色（Ｇ）に対応するカラー用サブ画素とする。かかる構成によれば、簡易
ナビゲーション表示やスピード表示などを行なうのに十分である。また、画素１００ａを
２つのサブ画素１００ｂで構成したので、１つの画素１００ａ内で薄膜トランジスタ３０
や配線が占める割合が小さいので、画素開口率が高い。 （もっと読む）

【課題】表面が撥液性に優れたパターン付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。
【解決手段】支持フィルム上に含フッ素化合物層が積層された含フッ素化合物層積層フィルムであって、該含フッ素化合物層は含フッ素化合物を３０〜１００質量％含有する組成物からなり、含フッ素化合物層の積層量が支持フィルム１ｍ^２あたり１〜４０ｍｍ^３であることを特徴とする含フッ素化合物層積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】 表示装置の開口率を向上させる。
【解決手段】 複数の画素の各々の画素は、第１の色用の第１サブピクセルと、第２の色用の第２サブピクセルと、第３の色用の第３サブピクセルとで構成され、前記第１のサブピクセルは、その長手方向が映像線の延在方向であり、前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとは、それらの長手方向が走査線の延在方向であり、前記第２サブピクセルと前記第３サブピクセルとは、前記第１サブピクセルの片側に前記映像線の延在方向に隣接して配置され、前記映像線の延在方向に隣接する２つの前記画素において、前記第１サブピクセルは連続し、前記映像線の延在方向に隣接する３つの前記画素を第１乃至第３の画素とするとき、前記第１の画素と前記第２の画素との間において、前記第２サブピクセルは連続し、また、前記第２の画素と前記第３の画素との間において、前記第３サブピクセルは連続している。 （もっと読む）

【課題】円形または楕円形などの非矩形状の表示領域を有する表示装置において、表示領域の外形が滑らかで、表示品位の優れた表示装置を提供すること
【解決手段】本発明にかかる表示装置は、非矩形状の表示領域１と、表示領域１を囲う額縁領域２と、表示領域１に配列された複数の絵素５と、絵素５に設けられた複数色の有効表示領域４と、を備え、表示領域１の境界部分（表示エリア端３）に位置する絵素５に設けられた複数色の有効表示領域４のそれぞれは、一つの絵素５において開口率が同じで、かつ複数色の有効表示領域４の各色が並ぶ第１方向（横方向）と垂直な第２方向（縦方向）における中心線６が第１方向に隣接する絵素５に設けられた有効表示領域４の中心線６の延長線上に位置するよう形成されているものである。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、明度およびコントラスト比に優れたカラーフィルターの製造方法を提供すること、明度およびコントラスト比に優れたカラーフィルターを提供すること、また、該カラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルターの製造方法は、基板１１を準備する基板準備工程と、基板１１上に、着色部形成用の材料で構成された塗膜を形成し、フォトリソグラフィー法を用いて、各色の着色部１２を形成する着色部形成工程と、インクジェット方式により、遮光材料を含む遮光部形成用材料のインク３を隣接する着色部１２間に付与するインク付与工程と、インク３を乾燥させることにより、インク３から溶剤を除去し、固形状の遮光部１３とする遮光部形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】表示装置における表示品質の低下を抑制する。
【解決手段】表示装置１０における複数の単位画素Ｃの各々は複数の組Ｓを含み、当該単位画素Ｃに含まれる複数の組Ｓのうち第１の組Ｓ１以外の組Ｓ（例えば第２の組Ｓ２）において、第１のサブ画素領域Ｇ１の表示色と同じ表示色である第３のサブ画素領域Ｇ３のＹ方向の長さＹｇ３は、第１のサブ画素領域Ｇ１のＹ方向の長さＹｇ１と等しく、かつ、第１のサブ画素領域Ｇ１の画像表示面積と第３のサブ画素領域Ｇ３の画像表示面積とは等しく、第２のサブ画素領域Ｇ２の表示色と同じ表示色である第４のサブ画素領域Ｇ４のＹ方向の長さＹｇ４は、第２のサブ画素領域Ｇ２のＹ方向の長さＹｇ２と等しく、かつ、第２のサブ画素領域Ｇ２の画像表示面積と第４のサブ画素領域Ｇ４の画像表示面積とは等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】単位画素においてデッドスペースが生じることを抑制する。
【解決手段】 各々が、光検出領域Ｈおよび表示領域Ｉからなる複数の単位画素Ｃを備えた表示装置１０であって、光検出領域Ｈは受光領域Ｅと回路領域Ｆとからなり、表示領域Ｉは、各々に画素電極５３が配置されてＸ方向に配列する複数のサブ画素領域Ｇからなり、
光検出領域Ｈから見てＹ方向には表示領域Ｉが隣接して配置され、受光領域ＥのＹ方向の長さと回路領域ＦのＹ方向の長さとは異なり、受光領域Ｅおよび回路領域ＦのうちＹ方向の長さが小さい方に隣接する第１のサブ画素領域Ｇ１のＹ方向の長さは、受光領域Ｅおよび回路領域ＦのうちＹ方向の長さが大きい方に隣接する第２のサブ画素領域Ｇ２のＹ方向の長さよりも大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透光性基板の一方の面にマイクロレンズアレイを設けたＥＬディスプレイ装置において、モアレ及び画像のボケの発生を防止する。
【解決手段】マイクロレンズエレメント２８の光軸方向における発光層２２とマイクロレンズエレメント２８との間の間隔ｔと、マイクロレンズアレイ３０のピッチＰｌと、画素構造のピッチＰｅとが、（１）ｔ≧Ｐｅ、且つ、Ｐｅ＝ｍ×Ｐｌ（ただしｍは自然数）、（２）ｔ＜Ｐｅ、且つ、Ｐｅ＝ｍ×Ｐｌ（ただしｍは自然数）、（３）ｔ＜Ｐｅ、且つ、Ｐｅ≧５×Ｐｌ、上記条件（１）、（２）、及び（３）のいずれか１つを満足しているようにした。 （もっと読む）

【課題】透明電極がＺｎＯ膜で形成され、且つ、熱処理に対する特性の変化を低減することが可能な、表示用基板及びその製造方法並びに表示装置を提供する。
【解決手段】表示用基板１は、支持基板２と、支持基板２上に形成された有機樹脂層３と、有機樹脂層３上に形成された透明電極４と、を備え、透明電極４は有機樹脂層４に密着して形成された酸化亜鉛を含む第１層５と、第１層５上に形成された、第１層５よりも厚い層厚を有する酸化亜鉛を含む第２層６と、からなる。第１層５は、直流スパッタ又は直流マグネトロンスパッタにより形成されており、第２層６は、高周波スパッタ、高周波マグネトロンスパッタ、高周波重畳直流スパッタ、高周波重畳直流マグネトロンスパッタの何れかにより形成される。表示用基板１は、例えば、液晶表示装置の対向電極用の透明電極付基板として使用することができる。 （もっと読む）

【課題】高精細かつ出射光強度・輝度等の良好な有機ＥＬディスプレイの提供。
【解決手段】透明基板、少なくとも２種のカラーフィルタ層、バンク層、少なくとも１種の色変換層、保護層およびバリア層を含み、色変換層は、特定の波長域の光を吸収して吸収波長と異なる波長の光を出力し、保護層は、１種または複数種の透明な金属酸化物からなることを特徴とする色変換フィルタ。 （もっと読む）

【課題】本発明は、インクジェット印刷を用いて、透明基板上に形成されたカラーフィルタ上の所定位置に、安価で精度よくスペーサー粒子を配置し、固着する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも以下の工程を有することを特徴とするカラーフィルタの上の所定位置にスペーサー粒子を固着してなるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。
（１）スペーサー粒子を少なくとも溶媒中に分散したスペーサーインクを調製する工程。（２）上記所定位置に対応する位置に凹部を形成し、さらに上記スペーサーインクが供給されたとき、インクの乾燥過程において凹部へスペーサー粒子が集合する現象を発現する表面加工を施した凹版を作成する工程。
（３）凹版の凹部へインクジェット印刷で選択的にスペーサーインクを供給し、乾燥する工程。
（４）凹部へ集合したスペーサー粒子をカラーフィルタ上の所定位置に転写し、固着する工程。 （もっと読む）

【課題】層を追加することなく色補正を行い、液晶パネルの厚みの増加及びカラーフィルタ側のガラスの厚みが薄くなることを回避する。
【解決手段】第１画像を形成する第１サブ画素と第２画像を形成する第２サブ画素が隣接し表示面側にカラーフィルタを有する液晶基板と、前記表示基板に張り合わされ前記第１画像と前記第２画像をスリットにより夫々異なる視方向に判別可能に遮光する遮光バリアを備えた遮光バリア基板と、前記遮光バリアを覆うオーバーコートとを有する表示パネルであって、前記オーバーコートは色補正の材料を含有する。 （もっと読む）

【課題】画像を認識する機能を有する表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の表示装置は、第１基板と、第１基板上に形成されるゲート線と、第１基板上に形成され、ゲート線と交差するデータ線と、ゲート線及びデータ線に接続される第１スイッチング素子と、第１スイッチング素子に接続される画素電極と、第１基板上に形成され、赤外線を感知する受光素子と、受光素子と第１基板との間に形成されて配置され、受光素子と重畳して光を遮断する遮光パターンと、第１基板に対向する第２基板とを、有する。 （もっと読む）

【課題】安価で自由に所望の色を表示することができる表示装置を得る。
【解決手段】表示用ＬＥＤ７として白色ＬＥＤを使用し、この表示用ＬＥＤ７の前方に離間して、所望の色の着色フィルム３Ｂを貼り付けた透明樹脂板３Ａからなる着色パネル３を配置する。色の異なる着色フィルム３Ｂを使用することで、所望の発光色を自由に且つ簡単に表示することができる。着色パネル３は、透明樹脂板３Ａの面に有色インクで印刷（例えばシルク印刷）したものであってもよいし、光透過性を有する樹脂に顔料を混合して板状に成形したものであってもよい。 （もっと読む）

【課題】
従来よりも設計の自由度を広くできると共に開口率を向上させることが容易な横電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】
共通電極７２は、複数のドレインバスライン５６の各々の全面を覆うと共に、複数の画素領域の各々に対応するゲートバスライン５５の所定領域を除いて覆っている。前記画素領域の各々に対応するゲートバスライン５５の前記所定領域は、当該ゲートバスライン５５に隣接する他の画素領域の蓄積容量電極７３によって覆われている。蓄積容量電極７３は、ゲートバスライン５５に対してその一方のサイドエッジ５５ｂを乗り越えるようにして重ねられ、共通電極７２は、ゲートバスライン５５に対してその他方のサイドエッジ５５ａを乗り越えるようにして重ねられるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】指向性表示における画像が暗くなりやすい。
【解決手段】第１基板４１と、第１基板４１に対向する第２基板８１と、第１基板４１及び第２基板８１間に設けられ、複数の画素の前記画素ごとに発光が制御される発光層７７と、第２基板８１及び発光層７７の間に設けられた遮光膜８３と、を有し、前記複数の画素は、第１の画像を形成する第１の画素５₁及び第２の画像を形成する第２の画素５₂を少なくとも含んでおり、遮光膜８３には、第１の画素５₁の発光層７７から第２基板８１を経て第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、第２の画素５₂の発光層７７から第２基板８１を経て第２の範囲に及ぶ光を通す開口部８５が設けられており、発光層７７は、前記画素ごとに、遮光膜８３に対して傾斜した斜面を有しており、各前記斜面は、開口部８５に向いていることを特徴とする電気光学装置。 （もっと読む）