【課題】パターン設計の自由度を高めつつＰＥＳの感度向上を図る。
【解決手段】２組（Ｍ組）のバーストパターンＢＰ１ａ，ＢＰ２ａは、データトラックパターン４０ｔの中心からの距離が相違すると共に半径方向の長さＬ１１が等しい２種類のバースト信号単位部（凸部４０ａ）を備え、かつ、長さＬ１０が（２・Ｍ／Ｎ）・トラックピッチであって両端が各バーストパターンＢＰ１ａ，ＢＰ２ａ・・の中心Ｃ１ａ，Ｃ２ａ・・とは一致しない範囲内に（１／Ｎ）・トラックピッチの間隔で中心Ｃ１ａ，Ｃ２ａ・・が４個（２・Ｍ個）存在するように形成され、２種類のバースト信号単位部は、両バースト信号単位部が回転方向において重ならず、半径方向における中心同士が２／２（「Ｍ／Ｎ」）・トラックピッチだけ半径方向において離間し、かつ両バースト信号単位部の半径方向において対向する端部同士が半径方向で離間している。 （もっと読む）

本発明は、とりわけ、内部に形成された貫通路を有し、ピンが延びる面を有する本体、およびピンとランドの間にチャネルを区画する複数の突起を取り囲むランドを含むチャッキング・システムに向けられる。さらなる実施形態では、本体が複数の突起を有する。
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【課題】微細な凹凸パターンを有する高密度の記録媒体、半導体、および磁気記録媒体を高いスループットで、かつ歩留まり良く製造すること。
【解決手段】凹凸パターンが形成された凹凸形成領域を有する原盤５と、被転写基板１とを、中空円筒状の上型９と下型１０で構成される金型の一対のプレス面間に挟み、前記上型９と下型１０の中心部を加圧して前記原盤５と被転写基板１に圧力を印加することで、前記原盤５の凹凸パターンを前記被転写基板１の表面に転写する工程を備えた板状構造体の製造方法において、前記上型９および下型１０の内周部にかかる圧縮荷重を遮断して、当該圧縮荷重を前記上型９および下型１０の外周側へ分散させる。 （もっと読む）

【課題】情報記録媒体の製造コストを低減する。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための露光パターンＰを描画可能に構成され、ビーム出力部は、その有効描画幅が各パターンＰＳＯ，ＰＳＯ・・の幅および長さよりも狭い電子ビームＥＢを出力可能に構成され、制御部は、基材を回転させる回転機構の内部で生成される内部信号および回転機構に対する回転駆動信号のいずれかに基づいて基材の回転に同期するようにして基準信号生成部によって生成された基準信号Ｓ１が出力されたときに予め規定された時間ｔ１ｗだけ待機した後にビーム出力部を制御して電子ビームＥＢを出力させると共にビーム偏向部を制御して描画すべきパターンＰＳＯの幅方向で電子ビームＥＢを往復動させてパターンＰＳＯを描画する描画処理を実行することによって露光パターンＰを描画する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式において、トラック密度を増加させた場合に記録トラック部とガードバンド部の幅が小さくなっても、ガードバンド部の加工が容易で、高記録密度記録を実現できる垂直磁気記録媒体及び、磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも軟磁性裏打ち層および磁気記録層とを有する垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層は少なくともＣｏとＰｔと酸化物を含むグラニュラー構造からなり、かつ同心円状の記録トラック部と、互いに隣接する前記トラック部間の非磁性材料からなるガードバンド部からなり、磁気記録層の厚さ（ｔ）が６ｎｍ以上１８ｎｍ以下で、トラックピッチが１３０ｎｍ以下、記録トラック部の幅（Ｄ）が５０ｎｍ以上、ガードバンド部の幅（ｄ）と磁気記録層の厚さ（ｔ）の比ｄ／ｔが５／２以上である垂直磁気記録媒体とする。 （もっと読む）

【課題】 二次元的に広がった均質なナノ構造を有するナノ構造体および安価で簡便なプロセスによって行うことができるナノ構造体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 親水性セグメントおよび疎水性セグメントを有する両親媒性ブロックコポリマーと、前記疎水性セグメントと相溶性を有する低分子化合物とを含有する混合溶液を水面に展開して単分子膜を得る。 （もっと読む）

【課題】 耐久性を維持しつつ、高出力を実現することができる磁気テープおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気テープは、情報が記録される記録領域１１と、情報が記録されない非記録領域１２とを有している。非記録領域１２は、磁性層が設けられた非記録磁性領域１２ａを有しており、この領域には、高さが０．５μｍ以上１０μｍ以下である突起部１３が、走行方向に１．０ｍｍ以上２．０ｍｍ以下、走行方向に対して垂直な方向に０．５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下の間隔で複数設けられている。 （もっと読む）

本発明は、磁気記録やデータ記憶に用いるパターン化磁気媒体、および磁気的にパターンを調整すべく利用可能な各種の調整技術を目的とする。例えば、媒体（１０、１０６）を、パターン化領域（２５）および非パターン化領域（２６）により画定される表面変型（１２、２５、２６）のパターンを示すように形成することができる。これらの技術は、パターン化領域を磁気的に調整することを旨に記述されている。これらの技術は、垂直パターン化媒体、すなわち媒体表面上にパターンが形成されていて、媒体平面に直交する磁気異方性を有する媒体に有用である。特に、垂直磁気異方性が、比較的幅が狭いパターン化特徴を効果的に調整可能にする重要な要素であることがわかっている。
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