【課題】小さい膜厚においても高い耐久性および高い耐食性を両立することができるＤＬＣ膜の製造方法および製造装置の提供。
【解決手段】炭化水素系原料ガスの熱分解により発生させたラジカル粒子により被成膜基板上に第１層を形成する工程と、該炭化水素系原料ガスのプラズマ中で発生させたイオン粒子により第２層を形成する工程とを含むことを特徴とする第１層および第２層から構成されるＤＬＣ膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フィラメント状のカソード電極の寿命を高めると共に、高硬度で緻密な炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧した成膜室１０１内に炭素を含む原料の気体Ｇを導入し、この気体Ｇを通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極１０４と、その周囲に設けられたアノード電極１０５との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体Ｇを加速して基板Ｄの表面に照射することによって、基板Ｄの表面に炭素膜を形成する炭素膜の形成方法であって、カソード電極１０４を回転させながら炭化処理した後に、この炭化処理されたカソード電極１０４を用いて、炭素膜の形成を行う。 （もっと読む）

【課題】流路内の磁気ディスクに潤滑剤コーティングを塗布する潤滑剤蒸気の流路における表面で凝縮するのを防止する。
【解決手段】蒸気は、リザーバ内の液体を加熱することで得る。流路は、リザーバと開孔を有するディフューザとの間に蒸気チャンバを有する。この蒸気チャンバはリザーバとディスクとの間における直線経路と同一方向に延在する第１の壁と、ヒータとリザーバとの間に熱伝導経路を生ずる第２の壁とを有する。第１および第２の壁の相対温度を制御して、流路表面における凝縮をほぼ防止する。 （もっと読む）

【課題】基板の凹凸構造の凹部に陰極アーク方式で磁性体を充填することにより、凹部に対する磁性体の充填性が向上する磁気デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】凹凸構造を表面に有する基板２３を用意する工程と、陰極アーク放電により陰極材料のアークプラズマ２４を発生させる工程と、前記アークプラズマ２４中のイオンを該基板２３の表面に照射する工程と、該イオンにより前記凹凸構造の少なくとも凹部に磁性材料を充填して磁性体領域を形成する工程を含む磁気デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンのスタンパを効率良く高精度で製造できるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】所定の凹凸パターンの転写面１０Ａを有する原盤１０に、照射源３２から粒子を一方向に直線的に照射して膜を成膜する成膜法により、原盤１０の表面の法線Ｌｎに対して少なくとも一時的に照射方向を相対的に傾斜させ、且つ、照射源３２に対して原盤１０の姿勢を相対的に変化させつつ導電性材料の粒子を照射し、転写面１０Ａの上に導電膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】金属磁性材料の使用効率を向上することを目的とする。
【解決手段】真空室１内において、巻き出しローラ２よりの高分子フィルム３を冷却ローラ５を介して巻き取りローラ４に巻き取るようにすると共にこの冷却ローラ５の下方にルツボ７が設けられ、このルツボ７内の金属磁性材料８を加熱蒸発し、この冷却ローラ５面を走行するこの高分子フィルム３にこの加熱蒸発した金属磁性材料８を蒸着するようにすると共にこのルツボ７とこの冷却ローラ５との間にこの高分子フィルム３上にこの加熱蒸発した金属磁性材料分子を決った方向に堆積する蒸気入射規制マスク１１及び成膜開口部１０ａを有する防着板１０を設けた磁気記録媒体の製造装置において、この蒸気入射規制マスク１１のこの成膜開口部１０ａ近傍にヒーター１２を配置し、このヒーター１２をこの金属磁性材料８の融点以上の温度に加熱するようにしたものである。 （もっと読む）