【課題】基体の全幅に均一な膜を成膜できる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基体（１０１）の幅よりも狭い幅の基体搬送体（２０２）を基体（１０１）の裏面側に当接して搬送するとともに、基体搬送体（２０２）を通過する基体（１０１）の表面に、基体（１０１）よりも幅広の窓（１０６ａ）を有するシャッター（１０６）を介して基体（１０１）の表面に成膜することで、基体（１０１）の全幅に均一な膜を成膜できる成膜装置（２００）を提供する。 （もっと読む）

【課題】潤滑剤にたいする濡れ性が高く、かつ高硬度で緻密な炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧した成膜室１０１内に炭素と水素を含む原料の気体Ｇを導入し、この気体Ｇを、通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極１０４と、その周囲に設けられたアノード電極１０５との間で、放電によりイオン化し、このイオン化した気体を基板Ｄに加えたバイアス電圧で加速して基板Ｄの表面に照射することによって、基板Ｄの表面に炭素膜を形成する炭素膜の形成方法であって、前記基板Ｄの表面に加えるバイアス電圧としてパルス状の負の電圧を用いることを特徴とする炭素膜の形成方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、潤滑剤に対する濡れ性が高く、平滑な表面を有し、高硬度で緻密な水素を含む炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法、並びに、該炭素膜の形成方法により形成された水素を含む炭素膜を有する磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】水素を含む炭素膜の形成後に、成膜室１０１内に不活性ガスを導入し、不活性ガスをイオン化して水素を含む炭素膜の表面に加速照射し、水素を含む炭素膜の少なくとも表層部を脱水素化する。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の供給時に発生する飛沫を抑え、さらに液面の波紋の影響を低減し、蒸着材料のロスを少なくする蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空室１２内に、送りロール１３と巻取りロール１４を設けてベースフイルム１５を走行させ、中途の冷却キャン１６で定速回転させる。冷却キャン１６の幅方向の長さはルツボ１と略同じ円筒状で、内部の冷却水でベースフイルム１５の温度上昇による変形等を抑制する。ルツボ１を蒸着材料蒸発部分と、これに直角に設けた蒸着材料溶融部分で構成し、蒸着材料溶融部分で蒸着材料供給時に生じる波紋の影響を防ぎ安定な蒸着を行う。冷却キャン１６を軟磁性部分１６Ａと非磁性部分１６Ｂで構成し、１つの電子銃２１から照射される蒸発，溶解用電子ビーム２１Ａ，２１Ｂと、これを局部偏向することにより、蒸着材料を溶解，蒸発し、電子ビーム相互干渉による異常放電を抑え、ルツボ１を小さくし蒸着材料のロスを少なくする。 （もっと読む）

【課題】カソードおよびアノード間の異常放電の発生率を十分に低下させる。
【解決手段】熱電子を放出するカソード２２と、カソード２２から熱電子が放出されている状態においてカソード２２との間に印加されているグリッド電圧の電圧値に応じた量の電子を放出するグリッド２３と、カソード２２との間にアノード電圧が印加されて電子を加速させるアノード２４と、加速された電子を集束して電子ビームＥＢを生成する集束部２５とを備えた電子ビーム蒸着装置用の電子ビーム照射装置６であって、カソード２２は、アノード２４側の一面２２ｓの十点平均粗さＲｚが０．１０μｍ以上０．２８μｍ以下の範囲内となるように研磨されている。 （もっと読む）

【課題】カソードおよびアノード間の異常放電の発生率を十分に低下させる。
【解決手段】熱電子を放出するカソード２２と、カソード２２から熱電子が放出されている状態においてカソード２２との間に印加されているグリッド電圧の電圧値に応じた量の電子を放出するグリッド２３と、カソード２２との間にアノード電圧が印加されて電子を加速させるアノード２４と、加速された電子を集束して電子ビームＥＢを生成する集束部２５とを備えた電子ビーム蒸着装置用の電子ビーム照射装置６であって、アノード２４は、カソード２２に対向配置されたフランジ部（鍔状部）２４ａと、熱電子を集束部２５に向けて案内する筒状部２４ｂとが一体形成されて構成されると共に、フランジ部２４ａにおけるカソード２２側の一面２４ｓの算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上７．３μｍ以下の範囲内となるようにショットブラスト加工されている。 （もっと読む）

【課題】 蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行され、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】 製造装置は、非磁性支持体１の供給ロール14と、回転冷却ドラム20と、蒸着材料18を収容するるつぼ17と、蒸発した蒸着材料の非磁性支持体への最大入射角を規制する最大入射角規制マスク21A 、及び最小入射角を規制する最小入射角規制マスク21B と、非磁性支持体１面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスク21C,21D と、各マスク21A,21B,21C,21D の間の開口部を開閉可能なシャッター23と、巻き取りロール16とを備え、耳端部規制マスク21C,21D は、その上流側端部と冷却ドラム20との距離ｄ_A が、その下流側端部と冷却ドラム20との距離ｄ_B よりも大きくなるように設けられている。 （もっと読む）

【課題】 製造インラインにおいて金属薄膜磁性層の非磁性支持体近傍における酸素含有量を正確に評価し、品質の安定した金属薄膜磁性層を得ることのできる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 走行している非磁性支持体１の一方の面上に、真空蒸着法により酸素ガスを供給しつつ金属薄膜磁性層を形成する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
金属薄膜磁性層の形成後に、非磁性支持体１の他方の面側から支持体１を通して金属薄膜磁性層に光を投射し、その反射光の明度を測定１５することにより金属薄膜磁性層の非磁性支持体近傍における酸素含有量を監視する方法。 （もっと読む）