【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法において、各ガラス基板の洗浄状態のバラツキをなくし、ガラス基板が次工程に持ち込む塵埃の数を一定にすることにより、常に安定した品質を保つことを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、ガラス基板１５０の研磨工程と、複数の洗浄槽内に少なくとも成分の異なる２種類以上の洗浄液１１２を洗浄槽１１４ごとに洗浄液１１２の種類を分けて供給しながら洗浄液１１２にガラス基板１５０を浸漬してタクト方式による洗浄を行う洗浄工程とを含み、洗浄工程において、洗浄液１１２に含まれる塵埃の数を計数し、計数した塵埃の数に応じてタクト時間内に塵埃の数が所定値以下となるよう洗浄液１１２の供給量を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく表面粗さ及びスクラッチを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】シリカ粒子と、イオン性親水基を有する重量平均分子量１０万以下の重合体、クメンスルホン酸及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種以上と、水とを含み、前記シリカ粒子の粒径（Ｒ（ｎｍ））対累積体積頻度（Ｖ（％））グラフが、粒径４０〜７０ｎｍで式(１):Ｖ≧Ｒ＋３０、粒径１０〜２０ｎｍで式(２):Ｖ≦３×Ｒ＋１０、及び４０〜４５ｎｍで式(３):Ｖ≧Ｒ＋５０を満たし、さらに、前記シリカ粒子の最大径を直径とする円の面積を前記シリカ粒子の投影面積で除して１００を乗じた値の平均値が１００〜１４０の範囲である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起や研磨傷等の表面欠陥、特に深さが０．１ｎｍ以上、５ｎｍ未満、幅が１０μｍ以上、５０μｍ未満、長さが１０μｍ以上、１ｍｍ未満の微小スクラッチを顕著に低減し、しかも経済的に研磨をすることが可能である研磨液組成物、該研磨液組成物を用いた微小スクラッチの低減方法及び前記研磨液組成物を用いた基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一次粒子の平均粒径が２００ｎｍ以下であるコロイダルシリカ、過酸化水素、ｐＫ１が２以下の酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記ｐＫ１が２以下の酸が、有機ホスホン酸を含む有機酸からなり、その塩が周期律表（長周期型）１Ａに属する金属又はアンモニウムとの塩であり、該研磨液組成物の酸価（Ｙ）が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】 高密度化およびアクセスタイムの短縮を可能とする磁気記録装置に用いられる磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 結晶化ガラス基板の精研磨に、圧縮弾性率が７０〜９０％、密度が０．４〜０．６ｇ／ｃｍ^３、Ｃ硬度が７０〜８０の高密度、高硬度のパッドを用いる。 （もっと読む）

【課題】 基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、タッチダウンハイトが６ｎｍ以下のガラス基板を得る。
【解決手段】 複数のポリッシング工程により表面を研磨する処理を含むタッチダウンハイトが６ｎｍ以下とされる磁気ディスク用のアモルファスガラス基板の製造方法であって、コロイダルシリカの研磨剤によって、ガラス基板の表面をポリッシングすることにより、微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であるガラス表面を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主表面のキズを除去すると共にガラス基板のエッジ部へのダメージを排除してガラス基板の稜線部分のハマ欠け現象を回避すること。
【解決手段】この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、形状加工工程の後に実施される基板表面研削工程を、固定砥粒を用いた基板表面研削工程に置き換え、かつ、当該基板表面研削工程を端面研磨工程の後に実施するように工程の順序を入れ替える。 （もっと読む）

【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス３を、固定砥粒であるダイヤモンドシート１０を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート１０が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス３表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート１０を用いて鏡面板ガラス３表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく、適度にコントロールされたエッチング性を付与することで、強固に付着した微小なパーティクルを基板表面から脱離させ、更に界面活性剤を用いて脱離したパーティクルを洗浄剤中に安定に分散させることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５未満であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】凸状欠陥の形成が抑制または防止できる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得ること。
【解決手段】シリカ粒子を含む研磨液を用いてガラス基板１の主表面を鏡面に研磨する鏡面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、上記鏡面研磨工程では、シリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子がガラス基板１に付着しないようシリカ粒子の凝集体もしくは不純物粒子とガラス基板との電位差を制御する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】研磨残りが無く、少ない処理時間で、割れやかけの発生が無い、内周端面及び外周端面の表面を効率よく平滑にできる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板の端面を研磨ブラシ又は研磨パッドと研磨液を用いて研磨する端面処理工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記研磨液が、フッ酸系溶剤を含むことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造において、低いレベルの表面粗さ、低いレベルの表面欠陥、早い研磨速度を共に実現することができる方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の前記主表面に対して研磨材を用いて研磨を行う工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記研磨材のｐＨが４〜６であり、前記研磨材は、研磨粒子と、前記研磨粒子を分散させる分散媒と、前記研磨材のｐＨを変化させずに、前記研磨材における電解質濃度を上げる添加剤と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
高い研磨速度を持ち、被研磨基板のうねり低減可能な研磨液組成物、また、該研磨液組
成物を用いた被研磨基板のうねり低減方法、及び該研磨液組成物を用い、うねりを低減さ
せた高品質の基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
α−アルミナ、中間アルミナ、酸化剤及び水を含有する研磨液組成物、該研磨液組成物
を用いて、被研磨基板のうねりを低減する方法、並びに前記研磨液組成物を用いて、被研
磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板を製造するに当たり、円形ガラス板の主表面の研磨工程において、研磨レートを落とすことなく、ロールオフを低減する。
【解決手段】カルボン酸基、カルボン酸基の塩、スルホン酸基及びスルホン酸基の塩の少なくとも１つが主鎖に結合している水溶性ポリマーと、コロイダルシリカまたはヒュームドシリカとを含有する酸性の研磨液、もしくはコロイダルシリカまたはヒュームドシリカ１００質量部に対し、スルホン酸基を有する界面活性剤を０．０２〜０．１質量部含有する酸性の研磨液を用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】基板品質が向上したガラス基板を生産性よく製造できる方法の提供
【解決手段】研磨材及び水を含有する研磨液組成物を研磨パッドと被研磨ガラス基板との間に存在させて研磨する工程を有するガラス基板の製造方法であって、前記研磨液組成物のｐＨは４以下であり、前記研磨液組成物及び前記被研磨ガラス基板は、前記研磨液組成物に浸漬した前記被研磨ガラス基板の表面に原子間力顕微鏡の探針を押し付けて測定される探針の進入深さが４ｎｍ以下となる関係を満たす。これにより、例えば、研磨後の表面粗さが低減され、かつ、経済的な研磨速度を有する研磨が可能となる。 （もっと読む）

【解決課題】 基板端面の面ダレを改善した磁気記録媒体が得られ、加工コストを削減可能で、自動化に適した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 単結晶シリコン被処理基板または多結晶シリコン被処理基板について、研削条件を２段階以上に変えて超砥粒砥石または砥粒により機械研削することにより、研削後の加工面における加工変質層が１μｍ以下になるようにする工程を含む磁気記録媒体基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板における砥粒の突き刺さり及び表面汚れを低減可能なハードディスク基板用研磨液組成物、及び、これを用いたハードディスク基板の製造方法の提供
【解決手段】酸化アルミニウム粒子、有機窒素化合物、及び、水を含有するハードディスク基板用研磨液組成物。前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径は、０．１〜０．７μｍであり、前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径が１μｍ以上の粒子の含有量は、０．２重量％以下であり、前記有機窒素化合物は、分子内に２以上のアミノ基及び／又はイミノ基を有する有機窒素化合物である。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板における砥粒の突き刺さり及びうねりを低減でき、表面品質が向上されたハードディスク基板を製造できるハードディスク基板の製造方法の提供
【解決手段】酸化アルミニウム粒子及び水を含有する研磨液組成物を研磨パッドに接触させながら基板を研磨する工程を有し、前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が０．１〜０．７μｍであり、前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径が１μｍ以上の粒子の含有量が０．２重量％以下であり、前記研磨パッドに対する前記研磨液組成物の接触角が０〜１００度であるハードディスク基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨速度の低下なく砥粒の突き刺さり及びロールオフの低減が可能なハードディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いたハードディスク基板の製造方法の提供
【解決手段】研磨液組成物が、二次粒子の体積中位粒子径が０．１〜０．７μｍ、粒子径１μｍ以上の粒子の含有量が０．２重量％以下である酸化アルミニウム粒子、及び、式（Ｉ）で表される構成単位と式（ＩＩ）及び／又は式（ＩＩＩ）で表される１以上の構成単位とを有する共重合体を含む。式中、ＡＯはオキシアルキレン基であり、ＸはＯ又はＮＨである。また、式（Ｉ）の構成単位を形成するためのモノマーとしてはメトキシポリエチレングリコールメタクリレート等が、式（ＩＩ）の構成単位を形成するためのモノマーとしてはステアリルメタクリレート等が、式（ＩＩＩ）の構成単位を形成するためのモノマーとしてはポリプロピレングリコールメタクリレート等が挙げられる。
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【課題】結晶面の少なくとも１つの面積が１ｍｍ²以上からなる単結晶を含む多結晶シリコン基板の研磨において基板表面に段差の発生しない平面研磨加工方法を提供する。
【解決手段】基板表面に２種以上の異なる結晶方位を有する結晶面を露出し、該結晶面の少なくとも１つの面積が１ｍｍ²以上である単結晶からなる多結晶シリコン基板の平面研磨加工方法であって、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃｅ，Ｃａ，Ｍｇの酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物である研磨材とコロイダルシリカ、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化セリウムの一種以上からなる酸化剤とを含む研磨液を用いて研磨を行う多結晶シリコン基板の平面研磨加工方法である。 （もっと読む）