【課題】ハードディスクガラス基板の加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上に有効な加工特性に優れた研磨スラリー並びに当該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑液組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の成分を含むハードディスクガラス基板研磨用潤滑液組成物。
（Ａ）炭素数６〜２５で水酸基を２個以上有する脂肪族モノカルボン酸
（Ｂ）多価アルコール類
（Ｃ）アルカノールアミン
（Ｄ）水 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のうねりの低減を実現できるアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物は、シリカ粒子と、スルホン酸基を含有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を含有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が１．５〜５．０Ｌ／ｇである。前記スルホン酸基を含有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を含有する重合体の重量平均分子量は、３０００〜１０００００であると好ましい。 （もっと読む）

【課題】 下記１）〜３）を満足するガラスエッチング組成物、ガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法の提供。
１）研削性の向上： 研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。
２）スクラッチの低減： ハードディスク表面上のスクラッチ（傷）を減らし、収率を向上させる。
３）研削クズ除去性の向上： ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】 アルカリ化合物と（１）分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有するアルコール、（２）分子中に２個以上のアルコール性水酸基を有するアミン化合物及び（３）リン系キレート剤からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物とを含有する水溶液であることを特徴とするガラスエッチング組成物、これを利用するガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化セリウムを砥粒として含有する研磨液や研磨パッドを用いずに、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨するガラス基板の研磨方法と、該研磨方法を用いた研磨工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨する研磨工程において、研磨定盤の研磨面にはダイヤモンド砥粒を含む固定砥粒工具を設置し、該固定砥粒工具の研磨面でガラス基板を研磨したときの、ガラス基板の加工速度が１．５〜０．１μｍ／ｍｉｎであることを特徴とするガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、Ｒａの小さい情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に使われるコロイダルシリカスラリーにおいて、コロイダルシリカ砥粒が、ＢＥＴ比表面測定法により求められるＢＥＴ粒子径が４０ｎｍ以下であり、ＢＥＴ粒子径（ｎｍ）／円形度で表される平滑度指数が５０ｎｍ以下であるコロイダルシリカスラリー、及び前記コロイダルシリカスラリーを用いて製造された情報記録媒体用ガラス基板、並びに前記情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層が設けられた磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学強化後に精密研磨した場合でも、平滑性と平坦性のよい情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板として、ＭｇＯとＣａＯとのアルカリ土類金属と、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとのアルカリ金属とを含み、アルカリ土類金属に対するアルカリ金属の質量比が、０．１＜（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．８０の範囲にあるガラス素材からなるものを用いて行ない、円板状の情報記録媒体用ガラス基板１ａを得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、主平面の平滑性と端部形状に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、平均粒子直径が１００ｎｍ以下の砥粒を含有する研磨液を用いて、ガラス基板の両主平面を仕上げ研磨する仕上げ研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、同一ロット内で研磨されるガラス基板間の板厚偏差を１．５μｍ以下としてガラス基板の主平面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板を研磨する際に、前段の研磨工程で突き刺さったアルミナ砥粒を後段の研磨工程で効率良く除去することを可能とした磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を滴下しながら基板を研磨する粗研磨工程と、基板を洗浄した後に、第２の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を滴下しながら基板を研磨する仕上げ研磨工程とを含み、粗研磨工程の後半に、第１の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を滴下しながら、アルミナ砥粒とコロイダルシリカ砥粒が混在する状態で基板の表面を研磨する中間研磨工程を設け、この中間研磨工程において、アルミナ砥粒で研磨する状態からコロイダルシリカ砥粒で研磨する状態へと、徐々にアルミナ砥粒とコロイダルシリカ砥粒との混在比率を変えていく。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供と、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）を−３０μｍ〜＋３０μｍとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、平行度が３．２μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （もっと読む）

【課題】研磨液を循環使用する場合であっても、優れた研磨品質を安定的に供給することのできるガラス基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給してガラス基板の表面を鏡面研磨するガラス基板の研磨方法であって、研磨方法は、ゼータ電位をモニターするゼータ電位モニターステップと、ゼータ電位モニターステップにおけるゼータ電位の絶対値が所定値を下回ったときに、ゼータ電位の絶対値が所定値以上になるようにゼータ電位調整剤を添加するゼータ電位調整ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】アルミナ粒子とシリカ粒子とを含む磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、研磨速度の向上とロールオフの低減が可能な磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、オキシアルキレン基を有する化合物、及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子が透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた前記シリカ粒子の粒径（ｎｍ）に対して小粒径側からの累積体積頻度（％）をプロットして得られた前記シリカ粒子の粒径対累積体積頻度グラフにおいて粒径１０ｎｍにおける累積体積頻度が０〜４０％でありかつ粒径４０ｎｍにおける累積体積頻度が５５〜１００％である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、最大板厚偏差に優れるガラス基板を研削するガラス基板の研削方法と、該研削方法を用いた工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、ガラス基板を研削する前の両面研削装置の上定盤の研削面と下定盤の研削面の形状を、内周端における上定盤の研削面と下定盤の研削面との差をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研削面と下定盤の研削面との差をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）が−３０μｍ〜＋３０μｍとしたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】複数バッチの研磨加工を行っても加工レートの低下を抑制できるガラス基板の研磨方法を見いだし、次世代のハードディスク用ガラス基板に求められる、機械的強度が高いガラス基板を低コストかつ高精度の形状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】被加工物としてのガラス板を上定盤と下定盤との間に研磨パッドを介して保持し、研磨パッドとガラス板を相対移動させて該ガラス板を研磨する方法であって、タンクに貯留された砥粒を含む研磨液を循環供給しながら研磨を行う通常研磨工程と、砥粒を含む研磨液の循環供給を停止し、砥粒を含まないリンス液を供給しながら前記研磨パッドとガラス板を相対移動させるリンス工程と、を含み、前記リンス工程に使用したリンス液のすくなくとも一部を、前記砥粒を含む研磨液の前記タンクへ供給することを特徴とするガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造するとき、溶融ガラスあるいは軟化したガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、主表面の粗さが０．０１μｍ〜１０μｍである表面凹凸と、ヘイズ率が２０％以上の光学特性とを有する板状ガラス素材を成形し、前記表面凹凸および前記表面特性を有する前記板状ガラス素材を、固定砥粒を用いて研削する。その後、前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】良好な表面凹凸の精度と耐衝撃性を備えた磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】主表面の粗さが０．０１μｍ以下であり、かつ、磁気ディスク用ガラス基板としての目標平坦度の平坦度を有する板状ガラス素材を作製するプレス成形工程と、少なくとも前記板状ガラス素材の主表面に圧縮応力層を形成させたガラス基板を作製する化学強化工程と、前記ガラス基板の主表面に研磨パッドを押圧させ、前記ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて、前記ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、を有する。さらに、プレス成形工程で作製される板状ガラス素材の板厚を、磁気ディスク用ガラス基板としての目標板厚に対して、前記主表面研磨工程による研磨量の分だけ厚くする。 （もっと読む）

【課題】片面のみに磁性層を備える磁気ディスク用ガラス基板を効率よく加工することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融又は軟化したガラスをプレス成形することにより、表面粗さＲａが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である第１主表面と、表面粗さＲａが０．００５μｍ以下である第２主表面と、を備え、かつ、磁気ディスク用ガラス基板として必要な平坦度を有するガラスブランクを成形するガラスブランク成形工程と、ガラスブランクの第１主表面のみを加工する表面加工工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】片面のみに磁性層を備える磁気ディスク用ガラス基板を効率よく加工することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】溶融したガラスを切断してプレスされたガラスブランクを用いて、磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、表面粗さＲａが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である第１主表面と、シアマークを備える第２主表面と、を備え、かつ、磁気ディスク用ガラス基板として必要な平坦度を有するガラスブランクを成形するガラスブランク成形工程と、ガラスブランクの第１主表面のみを加工する表面加工工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の面取り部にピット欠陥がないガラス基板の提供を目的とする。また、ガラス基板の側面部と面取り部を生産性高く確実に研磨するガラス基板の端面研磨方法、および磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面研磨に用いる研磨ブラシとして、植毛部の幅が、積層されたガラス基板同士の積層幅（ガラス基板とスペーサを合わせた厚み。スペーサを使用しないガラス基板積層体の場合はガラス基板の厚み。）の１．１〜２．２である研磨ブラシを用いる。該研磨ブラシを使用した内周端面研磨により、磁気記録媒体用ガラス基板の面取り部に残留するキズを生産性高く確実に除去でき、面取り部のピット欠陥がない磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く提供できる。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できるＮｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物であって、前記研磨液組成物は、研磨材、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、脂肪族アミン化合物又は脂環式アミン化合物、及び水を含有し、前記複素環芳香族化合物は、複素環内に窒素原子を２個以上含み、前記脂肪族アミン化合物又は脂環式アミン化合物は分子内に窒素原子を２〜４個含む。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】コロイダルシリカ、複素環内に窒素原子を２個以上含む複素環芳香族化合物、酸、酸化剤及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記コロイダルシリカは、ΔＣＶ値が０〜１０％であり、ＣＶ９０が１〜３５％であり、かつ、平均粒径が１〜４０ｎｍである磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）