【課題】表面粗さＲａが低減され、落下衝撃に強く、さらにヘッドクラッシュを起こしにくい情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アルミノシリケートガラス素材を研磨して情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法であって、前記アルミノシリケートガラス素材を粗研磨する粗研磨工程、及び粗研磨工程後の前記ガラス素材を精密研磨する精密研磨工程を含み、前記粗研磨工程において、（Ａ）酸化セリウムと、（Ｂ）ケイ酸ジルコニウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化アルミニウム、炭化ケイ素及び二酸化ケイ素からなる群より選択される少なくとも１つと、（Ｃ）ウレタンとを含み、前記（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）の割合が、１〜９質量％：５〜２４質量％：７５〜９０質量％である、研磨パッドを用いて粗研磨を行うことを特徴とする、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】粗研磨行程を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で、前記粗研磨行程は、ガラス素板の主面を、酸化セリウムを含有する研磨スラリーにて研磨した後に、前記研磨スラリーを研磨装置外に取り出す行程、前記取り出した研磨スラリー中の研磨剤のレーザ回折散乱法で測定された粒度分布の最大値が３．５μｍ以下であり、その粒度分布での累積５０体積％径Ｄ５０が０．５〜１．５μｍとなるように分級する行程、前記分級した研磨剤を含む研磨スラリーにて、他の異なるガラス素板の主面及び端面を研磨する行程を備える製造方法。好ましくは、この分級した研磨剤が、酸化セリウムと、ＳｉＯ_２，ＡｌＯ_３を含むアルミノシリケートとを含有し、アルミノシリケートの含有量が、酸化セリウムの含有量に対して０．１〜３０質量％である。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成におけるＣｅＯ_２濃度が０．０２〜１質量％であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】表面粗さＲａが低減され、落下衝撃に強く、さらにヘッドクラッシュを起こしにくい情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化セリウムを０．０２〜１質量％含むアルミノシリケートガラス素材を研磨して情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法であって、前記アルミノシリケートガラス素材を粗研磨する粗研磨工程、及び粗研磨工程後の前記ガラス素材を精密研磨する精密研磨工程を含み、前記粗研磨工程において、（Ａ）酸化セリウムと、（Ｂ）ケイ酸ジルコニウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化アルミニウム、炭化ケイ素及び二酸化ケイ素からなる群より選択される少なくとも１つと、（Ｃ）ウレタンとを含み、前記（Ａ）酸化セリウムの配合量が１〜５０質量％である研磨剤を用いて粗研磨を行うことを特徴とする、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の研磨後の平坦性を向上させることが可能なガラス基板の研磨方法を提供する。また、上記研磨方法をガラス基板の洗浄方法に応用する。
【解決手段】ガラス基板の研磨方法は、ガラス基板４の主表面の延在方向に沿って、ガラス基板４よりも硬い粒子を含む流体と上記主表面とを高速で相対移動させることにより上記主表面を研磨するものである。ガラス基板の洗浄方法は、ガラス基板４の主表面の延在方向に沿って、ガラス基板４よりも軟らかい粒子を含む流体と上記主表面とを高速で相対移動させることによりガラス基板４を洗浄するものである。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次ラップ加工及び２次ラップ加工には、ダイヤモンド砥粒が結合剤で固定されたダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂを用い、このダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂのラップ面２０ａは、平坦な頂部を有するタイル状の凸部２１が複数並んで設けられた構造を有し、１次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４〜１２μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、２次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１〜５μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％である。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次、２次及び３次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用い、ダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４μｍ〜１２μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１μｍ〜５μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｃは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が０．２μｍ以上２μｍ未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、１次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板を研磨する際に、前段の研磨工程で突き刺さったアルミナ砥粒を後段の研磨工程で効率良く除去可能な磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第１の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、磁気記録媒体用基板を洗浄した後に、第２の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と、を含み、粗研磨工程の最後に、アルミナ砥粒を含む研磨液の供給を停止し、代わりに砥粒を含まない洗浄液を供給して研磨盤からアルミナ砥粒を除去し、その後、第１の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら磁気記録媒体用基板の表面を研磨する中間研磨工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】本発明は、側面部の平滑性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、側面部の平滑性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板に高い生産性で研削する端面研削方法、及び該端面研削方法を用いた端面研削工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の内周側面または外周側面の少なくとも一方を、砥粒を結合材で固着した砥石を用いて研削する端面研削工程において、前記砥粒はレーザ回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定した粒子径の最大粒子径ｄｍａｘと最小粒子径ｄｍｉｎとの差である砥粒粒度分布幅△ｄ（＝ｄｍａｘ−ｄｍｉｎ）が２３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】フッ素を実質的に含有せず、ハードディスク基板に用いられる加工性の悪いガラス基板に対しても、高い研磨速度で表面粗さを小さくし、かつ研磨傷の発生を抑制することが可能な酸化セリウム系研磨剤、及びガラス製ハードディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記（１）〜（５）を満たすガラス製ハードディスク基板製造用酸化セリウム系研磨剤、及び該研磨剤も用いたガラス製ハードディスク基板の製造方法である。（１）総酸化希土類量（ＴＲＥＯ）が９５質量％以上であり、かつ当該ＴＲＥＯに対する酸化セリウム量が９９質量％以上である。（２）フッ素の含有量が０．０５質量％以下である。（３）粉末Ｘ線回折から算出される前記酸化セリウムの結晶子径が７００〜１０００Åである。（４）平均粒子径（Ｄ₅₀）が０．４〜０．８μｍである。（５）前記ガラス製ハードディスク基板のビッカース硬度が５７０Ｈｖ以上である。 （もっと読む）

【課題】対象物の表面における研磨材の残留を低減できる研磨剤組成物を提供する。
【解決手段】複数種の研磨剤組成物を順次供給されている対象物の表面を同一の研磨パッドで擦る研磨方法において、複数種の研磨剤組成物のうちの一種の研磨剤組成物として用いられて、複数種の研磨剤組成物のうちの研磨材を含む研磨剤組成物の後に対象物の表面に供給され、コロイダルシリカと酸と水とを含み、コロイダルシリカはＨｅｙｗｏｏｄ径で測定された体積基準の粒度分布における粒子径５０ｎｍの累積体積頻度が３５％以上かつ前記粒度分布における粒子径１５ｎｍの累積体積頻度が９０％以下である研磨剤組成物。 （もっと読む）

【課題】酸化セリウム砥粒を用いる研磨工程に由来する（１）最終研磨での研磨量が多く、材料ロスが大きくなること、（２）洗浄コストが高いこと、（３）砥粒が高価であること、等の問題を解消するとともに、ロールオフが小さく、高研磨レートで研磨できる方法、並びに研磨液を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板を製造する際に、最終研磨工程よりも前の研磨工程で使用される研磨液であって、ＢＥＴ粒径が６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるコロイダルシリカ砥粒と、ノニオン界面活性剤と、水とを含有し、好ましくは更に１０ミリモル/リットル以上１２０ミリモル/リットル以下の無機電解質を含有し、表面張力が２５ｍＮ／ｍ以上５０ｍＮ／ｍ以下である研磨液を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】１ｎｇ/ｄｉｓｋ以下のＣｅＯ_２砥粒の残存量を検出することが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化セリウムを含むＣｅＯ_２砥粒を用いて所定の形状に加工した複数のガラス基板を研磨する１又は複数のＣｅＯ_２砥粒研磨工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、最後のＣｅＯ_２砥粒研磨工程後、該複数のガラス基板から少なくとも１枚を抜き取って酸と還元剤の混合液への浸漬により該ガラス基板に残存するＣｅＯ_２砥粒の残存量を検出する抜き取り検査工程を含む。 （もっと読む）

【課題】全波長成分のうねりを低減できる製造方法を提供し、磁気ヘッドの接触を低減して磁気ヘッドの浮上走行安定性の向上した媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の製造方法は、Ｎｉ−Ｐ系合金からなる下地層を有する基板の該下地層に、有機酸または無機酸と、第１の研磨材とを含む第１のスラリー液を供給しながら、アルミナ、チタニア、シリカおよびジルコニアよりなる群から選択される研磨材を０．１ｗｔ％から２５ｗｔ％の濃度で含有する第１の多孔質材料を用いて前記基板を研磨する第１研磨工程と、前記第１研磨工程により加工された下地層の表面を、有機酸または無機酸と、第１の研磨材よりも小さい粒径を有する第２の研磨材とを含む第２のスラリー液を供給しながら第２の多孔質材料で研磨する第２研磨工程からなる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク表面のより外周側に拡大された記録再生用領域において所望な端部形状を有し、かつ、基板表面の粗さが従来に比べさらに低減した磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、キャリア内に収納したガラス基板の主表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給した状態で、前記ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させて前記ガラス基板の主表面を研磨する鏡面研磨工程と、製造されたガラス基板に対して前記ガラス基板の端部形状の評価を行う検査工程と、を有する、前記主表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１５ｎｍ以下である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記検査工程において、グライド領域の外周端部における主表面と浮上するグライドヘッドとの間の領域の面積が４８μｍ^２以下であるものを良品として判定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高研磨速度と高清浄性の両立を実現でき、循環研磨において長時間高い研磨速度を維持できるガラスハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アミン化合物と、酸と、シリカ粒子と、水とを含有するガラスハードディスク基板用研磨液組成物であって、前記アミン化合物は、アミノアルコール並びにピペラジン及びその誘導体からなる群から選択され、分子内に窒素原子を２個又は３個有し、そのうち少なくとも１個は１級アミンもしくは２級アミンであるガラスハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】研磨液のコロイダルシリカの付着個数を定量的に評価する検査情報をフィードバックして、最適な洗剤等に切り換えることで、最終洗浄工程における高清浄化の要求を満たせるよう工夫した光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に蛍光色素５３を結合させた、シリカ系の砥粒であるコロイダルシリカ５２を含む研磨液で光学部品５０を精密研磨する精密研磨工程と、精密研磨された光学部品５０に付着している異物を洗浄して除去する最終洗浄工程と、最終洗浄された光学部品５０に付着しているコロイダルシリカ５２の付着個数を定量的に評価する検査工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカを含む研磨液を光学部品の研磨に用いる場合に、研磨液に含まれるコロイダルシリカを明確に分析できるように工夫した光学部品用研磨液を提供する。
【解決手段】光学部品５０を研磨するときに用いる研磨液５１である。研磨液５１は、シリカ系の砥粒であるコロイダルシリカ５２を含み、コロイダルシリカ５２の表面には、蛍光色素５３が結合されている。蛍光色素５３の表面は、外殻５４で覆われている。コロイダルシリカ５２の平均粒径は、１〜１００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】研磨レートを向上させ、うねり低減やロールオフ低減の目的で添加される中間アルミナにより生じるアルミナ固着を低減することのできる研磨剤組成物および磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨材、中間アルミナ、酸、酸化剤、および水を含み、さらに、（ｉ）ホスホン酸基を二つ以上有する有機ホスホン酸キレート性化合物、（ｉｉ）分子中に繰り返し単位を有する分子量が５００〜１５００００の高分子陰イオン界面活性剤、（ｉｉｉ）所定の構造のポリオキシアルキレン基を有する有機リン酸エステル型陰イオン界面活性剤、から選ばれる少なくとも一種である、研磨対象へのアルミナ固着を低減するアルミナ固着低減剤を含む。 （もっと読む）

【課題】適用範囲が広く研磨した表面における端面だれを低減できる研磨剤組成物を提供する。
【解決手段】研磨材（但し中間アルミナを除く）、酸、酸化剤を含有する研磨剤組成物であって、研磨材の累積粒度分布のＤ１０およびＤ５０を用いて算出したＤ１０／Ｄ５０の値が０．５５以上である研磨剤組成物。 （もっと読む）