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Fターム[5D112GA14]の内容

Fターム[5D112GA14]に分類される特許

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【課題】 基板の内周端面及び/又は外周端面の研磨を効率よく行なうことができ、かつ、残留研磨材の付着による記録媒体の性能信頼性を損ねることのない、記録媒体用基板の端面の研磨方法を提供することである。
【解決手段】 中心部に円孔を有するディスク状記録媒体用基板の内周端面又は外周端面を、粘弾性樹脂キャリア中に研磨砥粒を分散させた研磨メディアと接触させ、前記研磨メディアを流動させることで前記内周端面又は外周端面を研磨することを含む、記録媒体用基板の端面の研磨方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の中心部の円孔を小径化しても、この円孔の内周端面部分、特に、その面取面を簡易かつ良好に研磨できる方法を提供し、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板を廉価に大量に提供できるようにするとともに、磁気ディスクにおけるサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュを防止し、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化に資する。
【解決手段】 磁気ディスク用ガラス基板2の内周側の端面部分に、母粒子の表面に複数の研磨砥粒を有してなる遊離砥粒を含有する研磨液を供給し、この内周側の端面部分と、研磨ブラシ3、研磨パッド、または、研磨テープとを相対的に移動させることにより、内周側の端面部分を鏡面研磨する。 (もっと読む)


【課題】平滑性の高い情報記録媒体用基板の製造方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】情報記録媒体用基板を製造する情報記録媒体用基板の製造方法において、研磨工程における研磨液は1μm以上の粒子を除去した水又は超純水と研磨剤とを含む。 (もっと読む)


100Åを超える異常突起がなく、ライン密度30本/μmのテクスチャ条痕が明確且つ一様に形成されるように磁気ハードディスク用のガラス基板をテクスチャ加工する方法及びこのテクスチャ加工に用いられるスラリーを提供する。回転するガラス基板15にスラリーを供給し、加工テープ14を押し付け、走行させる。スラリーが、衝撃法により生成される人工ダイヤモンドからなる砥粒を分散したものである。砥粒として、一次粒子の平均粒径が1nm〜20nmの範囲にある人工ダイヤモンドの粒子、及びこの粒子からなる二次粒子の平均粒径が0.05μm〜0.20μmの範囲にあるクラスター粒子が使用される。スラリーに、高級脂肪酸アマイド、及びグリコール化合物、有機リン酸エステル及び界面活性剤から選択される少なくとも二種の剤から構成される添加剤が添加される。 (もっと読む)


体積中央粒径が約20ナノメートルから約100ナノメートルで体積スパン値が約20ナノメートルに等しいか或はそれ以上で約100ナノメートルより大きい粒子の分率が研磨剤粒子の約20体積%に等しいか或はそれ以下である多分散粒径分布を示す多数の研磨剤粒子を含有する基質研磨用研磨剤組成物。
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【課題】メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面平滑性に優れ、かつ突起や研磨傷等の表面欠陥を発生することなく、しかも経済的な速度で研磨を可能とする研磨液組成物を提供すること。
【解決手段】研磨材と水とを混合してなる研磨液組成物であって、研磨材の小粒径側からの積算粒径分布(個数基準)が50%となる粒径(D50)に対する90%となる粒径(D90)の比(D90/D50)が1.3〜3.0で、且つD50が10〜600nmである研磨液組成物、粒径(D50)が異なる2種類以上の研磨材と水とを混合してなる研磨液組成物であって、D50の最も小さな研磨材(A)のD50(D50S)に対するD50の最も大きな研磨材(B)のD50(D50L)の比(D50L/D50S)が1.1〜3.0であってAとBとの配合比率(A/B(重量比))が90/10〜10/90である研磨液組成物。 (もっと読む)


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