【課題】基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、（ｉ）（ａ）８以上のモース硬さを有する第１の研磨粒子を５〜４５ｗｔ％、（ｂ）より小さな一次粒子の凝集体を含む三次元構造を有する第２の研磨粒子を１〜４５ｗｔ％、及び（ｃ）シリカを含む第３の研磨粒子を１０〜９０ｗｔ％含む研磨材と、（ｉｉ）液体キャリヤーとを含む、研磨用組成物を提供する。本発明はまた、（ｉ）上記の研磨用組成物を用意する工程、（ｉｉ）表面を有する基板を用意する工程、及び（ｉｉｉ）基板表面の少なくとも一部を研磨用組成物で削って基板を研磨する工程を含む、基板の研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に磁性層を形成する工程と、前記磁性層を部分的に除去し、その面上にＳｉＯ_２からなる非磁性層を形成する工程と、前記磁性層が表出するまで前記非磁性層に研磨加工を施す工程と、を含み、前記研磨加工は、前記非磁性基板を回転させながら、前記非磁性層の表面にセリアスラリーを供給し、走行する研磨テープを前記非磁性層の表面に押し付けることにより行い、前記セリアスラリーは、一次粒子の平均一次粒子径が０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であり、平均二次粒子径が０．０５μｍ〜５μｍの範囲内である酸化セリウム粒子を含み、かつ、分散液として水系分散剤または水を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨後基板の長波長うねりを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物及び、該研磨液組成物を用いたハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】α化率が８０〜１００％のαアルミナ、α化率が４０〜７０％のαアルミナ、中間アルミナ、酸、酸化剤、及び水を混合して得られるハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】酸化セリウムの粒子径を大粒径化することなく研磨レートの向上、ひいては生産性の向上を実現する、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨スラリーを研磨布と円形ガラス板の間に供給し、研磨布により円形ガラス板の主表面を研磨する研磨工程と、該研磨スラリーが当該研磨工程で使用された研磨スラリーを含むようにするスラリー循環工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、該研磨スラリーが、メディアン径が０．３〜３μｍである酸化セリウム粒子とアセチレン系界面活性剤とを含有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】最終研磨にコロイダルシリカスラリーを用いる場合、研磨時間に比例して端部のダレ量が増加する傾向が見られるため、最終研磨前のガラス基板のロールオフを小さくしてこの問題を解決する。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第４級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる１以上の水溶性有機高分子および平均粒径が０．４〜１．８μｍの酸化セリウム砥粒を含有するスラリーと、研磨布とを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】下記１）〜３）を満足するガラスポリッシング加工用組成物の提供。１）研削性の向上：研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。２）スクラッチの低減：ハードディスク表面上のスクラッチ（傷）を減らし、収率を向上させる。３）研削クズ除去性の向上：ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】ポリアルキレンポリアミンとＣ２〜Ｃ１２のアルキレン又はアリーレンジカルボン酸との重縮合物のアルキレンオキシド付加物を含有することを特徴とするガラスポリッシング加工用組成物。 （もっと読む）

【課題】ガラス加工において、高い加工性を有し、かつ泡立ちを少なく抑え、加えてｐＨ上昇を抑制し、更に十分な防錆性を発現する組成物を提供する
【解決手段】（Ａ）式：Ｒ^１−（ＡＯ）_ｎ−Ｈ
［式中、Ｒ^１は水素又は炭素数１〜８の炭化水素基であり、ＡＯはオキシエチレン基、オキシプロピレン基及びオキシブチレン基からなる群から選択され、ｎは総分子量が５００〜１００００である数である、ランダム型、ブロック型、リバース型及びこれらの複合型重合物である。］
で表される非イオン界面活性剤、
（Ｂ１）式：Ｒ^２Ｏ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｍ−ＳＯ_３Ｈ
もしくは、
（Ｂ２）式：Ｒ^３−ＳＯ_３Ｈ
［式中、Ｒ^２及びＲ^３は、炭素数２〜１１の炭化水素基を表す。ｍは０〜５の整数である。］
またはその塩で表される陰イオン界面活性剤、
（Ｃ）含リンキレート剤
（Ｄ）式：Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^６Ｎ
［式中、Ｒ^４は、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基もしくはヒドロキシブチル基を示し、Ｒ^５、Ｒ^６は、同一又は異なって、水素、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシエトキシエチル基及び炭素数１〜８の炭化水素基からなる群から選択される基を表す。］
で表されるアミン、
を含有する水溶性ガラス加工液組成物。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、回転する研磨パッド１０１を非磁性基板１の表面に押し付けながら、この非磁性基板１の表面と研磨パッド１０１との間に研磨液Ｓを供給し、非磁性基板を回転又は揺動させることにより行い、研磨液Ｓは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その１次粒子径が１〜１０ｎｍの範囲、その２次粒子径が５０〜１００ｎｍの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のガラス系材料を準備する工程と、前記板状ガラス系材料を研削する研削工程を含み、前記研削工程は少なくとも前記板状ガラス系材料をダイヤモンドパッドで研削するサブ工程を有する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のガラス系材料を準備する工程と、
前記板状ガラス系材料を研削する研削工程と、
前記板状ガラス系材料を研磨する研磨工程を有する情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨工程の研磨スラリーのｐＨを１〜５または９〜１３の範囲で研磨する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行いつつ、記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の上に磁気記録パターンＭＰに対応した形状にパターニングされたレジスト層３を形成する工程と、レジスト層３を用いて磁性層２を部分的に除去する工程と、磁性層２が除去された面上を覆う非磁性層４を形成する工程と、磁性層２が表出するまで非磁性層４に研磨加工を施す工程と、磁性層２の表面を水素プラズマに曝す工程と、磁性層２の上に保護層５を形成する工程と、保護層５の上に潤滑膜６を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、非磁性基板１を回転させながら、非磁性基板１の表面にダイヤモンドスラリーＳを供給し、走行する研磨テープ１０５を非磁性基板１の表面に押し付けることにより行い、ダイヤモンドスラリーＳは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その１次粒子径が１〜１０ｎｍの範囲、その２次粒子径が５０〜１００ｎｍの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、更に主表面の面荒れを少なくする。
【解決手段】（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）が６２モル％以下のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスからなる円板を、酸化セリウム研磨工程の跡、硫酸濃度２０質量％以上８０質量％以下、過酸化水素濃度１質量％以上１０質量％以下である洗浄液を用いて５０℃以上１００℃以下の液温にて洗浄し、その後、ガラス円板の主表面をコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて仕上げ研磨する。 （もっと読む）

【課題】所望の表面粗さに修正処理された固定砥粒シートを用いて、バッチ間で板厚のばらつきが小さくなるように研削加工を行うことができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、固定砥粒を有するシートを用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面の平坦度を調整する表面研削工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記表面研削工程において、ジルコニアを含有する遊離砥粒を含む研磨液及び鋳鉄製リングを用いて修正した前記シートを用いて表面研削を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な端部形状を得ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】多成分系のガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する鏡面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、鏡面研磨工程によって得られるガラス基板の端部形状を示すＤｕｂｏｆｆ値が±１０ｎｍ以内となるように研磨液の凝集度または分散度を制御して鏡面研磨工程を行う。 （もっと読む）

本発明は、アルファアルミナ、ヒュームドアルミナ、シリカ、ニッケル−リンを酸化する酸化剤、錯化剤および水を含む化学機械研磨組成物を提供する。また、本発明は、基材を研摩パッドおよび該化学機械研磨組成物と接触させること、該研摩パッドと該研摩組成物を該基材に対して動かすこと、ならびに該基材の少なくとも一部を研摩して、該基材を研磨すること、を含む基材の化学機械研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】研磨材のケーキング及び粒径の変化を抑制しうる、アルミナとシリカとを含有する研磨材スラリーの製造方法の提供
【解決手段】工程（１）：アルミナと水と電位調整剤とを混合し、アルミナのゼータ（表面）電位が４８ｍＶ以下であり、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の含有量が２５０ｐｐｍ以下であるアルミナスラリーを得る工程、及び、工程（２）：工程（１）で得られたアルミナスラリーとシリカとを混合してアルミナとシリカとを含有する研磨材スラリーを得る工程、を有する研磨材スラリーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク等のガラス基板の研磨において、高速研磨と基板表面の高平坦性とを両立させる。
【解決手段】平均粒子径が１０〜５０ｎｍで表面に突起を持つ凹凸状コロイダルシリカ粒子が連結してなり、かつ、動的光散乱法によるメディアン径（Ｄ１）が３０〜１５０ｎｍで、透過型電子顕微鏡により測定した平均粒子径（Ｄ２）との比（Ｄ１／Ｄ２）が２〜５であるコロイダルシリカ粒子凝集体が水中に分散しているガラス基板用研磨液。 （もっと読む）

【課題】ダイレクトプレス法により略板状ガラスを製造する際に、反りが小く、生産性に優れ、反り修正のために取出工程後に新たな別工程を実施する必要の無くすこと。
【解決手段】溶融ガラスをプレスして略平板状とする成形工程と、略平略板状ガラスを冷却・均熱化する均熱・冷却工程と、を含み、均熱・冷却工程中の一部の過程において、下型上の略板状ガラスの上面と接触または近接するように上面冷却速度調整部材が配置され、上面冷却速度調整部材が床面に直接または間接的に固定された支持部により支持されている略板状ガラスの製造方法。また、これを用いたプレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法、情報記録媒体製造方法、および、光学部品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨加工後に研磨材の流れ出しにより基板に傷が付くことを防止できる磁気ディスク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用基板の製造方法は、一対の定盤の間に挟持され、複数の磁気ディスク用基板を保持した状態で自転しながら公転するキャリアを備えた研磨装置で研磨材を供給しながら前記磁気ディスク用基板を研磨加工する工程を含む磁気ディスク用基板の製造方法であって、前記研磨加工において、前記定盤の駆動を停止する前に前記研磨材の供給を停止させることを特徴とする。 （もっと読む）