【課題】垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に適した垂直磁気記録媒体用基板を得る。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用基板１０の研磨に、テクスチャー加工を用いる。回転する垂直磁気記録媒体用基板１０上に砥粒を含んだ研磨スラリーを供給しながら、研磨テープ２６を押し付けて垂直磁気記録媒体用基板１０にテクスチャー加工を施すに際して、研磨テープ２６に含まれる研磨繊維の平均直径を４００ｎｍ以下にし、且つ、研磨スラリーに含まれる砥粒の平均粒径を１５０ｎｍ以下にする。 （もっと読む）

【課題】複数の研磨工程を経て所望の端部形状を有することとなる磁気ディスク用ガラス基板を提供。
【解決手段】粒径の大きい研磨砥粒４０を含有する研磨液を供給しながら、ガラス基板１と軟質の研磨パッド１０とを相対的に移動させて研磨を行う先行研磨工程では、ガラス基板１の主表面の端部が中央部と比べて隆起する形状（スキージャンプ）が生じる。後続研磨工程では、粒径の小さい研磨砥粒５０を含有する研磨液と、研磨パッド１０より硬度の高い研磨パッド２０とを用い、仮に平坦な端部を有するガラス基板を研磨すれば主表面の端部が中央部と比べて下降する形状（ロールオフ）のガラス基板１００が得られる研磨を行うことで、先行研磨工程で発生したスキージャンプを相殺する方向に変化させ、端部形状を平坦に近付ける。 （もっと読む）

【課題】複数の研磨工程を経て所望の端部形状を有することとなる磁気ディスク用ガラス基板を提供。
【解決手段】粒径の大きい研磨砥粒４０を含有する研磨液を供給しながら、ガラス基板１と硬質の研磨パッド１０とを相対的に移動させて研磨を行う先行研磨工程では、ガラス基板１の主表面の端部が中央と比べて下降する形状（ロールオフ）が生じる。後続研磨工程では、粒径の小さい研磨砥粒５０を含有する研磨液と、研磨パッド１０より硬度の低い研磨パッド２０とを用い、仮に平坦な端部を有するガラス基板を研磨すれば主表面の端部が中央部と比べて隆起する形状（スキージャンプ）のガラス基板１００が得られる研磨を行うことで、先行研磨工程で発生したロールオフを相殺する方向に変化させ、端部形状を平坦に近付ける。 （もっと読む）

【課題】基板表面のうねり、中でも、基板外周部表面のうねりを低減できるメモリーハードディスク基板用研磨液組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明のメモリーハードディスク基板用研磨液組成物は、水系媒体及びシリカ粒子を含み、積載荷重９．３ｋＰａの摩擦測定試験において前記研磨液組成物を用いて測定される被研磨基板と研磨パッドとの動的摩擦係数の平均値が０．３５以下であり、かつ、前記動的摩擦係数の振幅が０．０２７以下であるメモリーハードディスク基板用研磨液組成物である。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なわずに磁気ディスク基板の表面粗さを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物と、これを用いた磁気ディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク基板用研磨液組成物は、水と、シリカ粒子と、酸、酸の塩及び酸化剤から選ばれる少なくとも１つとを含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子は、透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた該シリカ粒子の最大径を直径とする円の面積を該シリカ粒子の投影面積で除して１００を乗じた値が１００〜１３０の範囲である磁気ディスク基板用研磨液組成物である。 （もっと読む）

【課題】 精密研磨工程後の薬液での洗浄によって研磨剤を基板表面から除去することができ、かつ洗浄後の基板表面が近年のＥＵＶリソグラフィー技術等で要求されるような極めて高い表面の平滑性を有する基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス又はガラスセラミックスからなる基板の表面を研磨し、表面粗さＲＭＳを１．０ｎｍ以下とした後、硫酸、硝酸、塩酸から選ばれる酸を少なくとも１種以上含む溶液を用いて前記基板の表面を洗浄し、洗浄前後の前記基板の表面粗さＲＭＳの変化量の絶対値が０．５ｎｍ以下である洗浄工程を含み、かつ前記溶液は、２００ｇの溶液で希土類酸化物０．００１ｇを３０分以内に溶解する溶液である基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルミナと酸化剤と酸を含有する磁気ディスク用研磨液において、保存期間に依
存することなく、再現性よく高い研磨速度を発現し得る磁気ディスク用研磨液キット、磁
気ディスク基板の研磨方法及び良質な磁気ディスク基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミナを含むスラリー（Ａ）と、酸化剤を含む酸化剤液（Ｂ）と、酸を含
む酸剤液（Ｃ）とから少なくとも構成される磁気ディスク用研磨液キット、少なくとも、
アルミナを含むスラリー（Ａ）と、酸化剤を含む酸化剤液（Ｂ）と、酸を含む酸剤液（Ｃ
）とを混合して得られた混合液を磁気ディスク基板と研磨布との間に供給して磁気ディス
ク基板を研磨する研磨方法、並びに下記の工程を有する研磨した磁気ディスク基板の製造
方法：（１）少なくとも、アルミナを含むスラリー（Ａ）と、酸化剤を含む酸化剤液（Ｂ
）と、酸を含む酸剤液（Ｃ）とを混合して研磨液を調製する工程、（２）磁気ディスク基
板を研磨定盤の研磨布に押し当て加圧する工程、及び（３）工程（１）で調製された研磨
液を磁気ディスク基板と研磨布との間に供給しながら、基板と研磨定盤を動かして磁気デ
ィスク基板を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカが有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したものでなくともガラス基板主表面を高精度で研磨できる方法を提供する。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第４級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる１以上の水溶性高分子およびコロイダルシリカを含有するスラリーを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。前記スラリーが水溶性ポリエーテルポリアミンを含有する前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い研磨速度で低い表面粗さを有する優れた品質の基板を製造することができるガラス基板用の研磨液組成物及びガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカ粒子を含有するガラス基板用の研磨液組成物であって、電子顕微鏡写真の画像解析により求められる該シリカ粒子の投影画像において、該シリカ粒子の投影面積（Ａ１）と該シリカ粒子の最大内接円面積（Ａ）との面積比Ｒ（Ａ１／Ａ）の平均値が１．２〜３．０の範囲にあり、ｐＨが１〜５であるガラス基板用の研磨液組成物、該ガラス基板用の研磨液組成物を研磨パッドと被研磨基板の間に存在させ、３〜１２ｋＰａの研磨荷重、ｐＨが１〜５で研磨する工程を有するガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】板状体の破損を防止して安定的な研削加工を行うことができる板状体の製造方法を提供する。
【解決手段】研削加工面の高低差が０．２ｍｍ以下であるように管理された研削加工定盤を用いて板状体を研削加工する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給しガラス基板の表面を鏡面に研磨する鏡面研磨工程と、この鏡面研磨工程後のガラス基板を保管液に接触させて保管するガラス基板の保管工程、または、鏡面研磨工程後のガラス基板を保管液に接触させつつ後工程に搬送するガラス基板の搬送工程とを含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、鏡面研磨工程後におけるガラス基板における研磨砥粒の残留を防止して、高平滑性の磁気ディスク用ガラス基板を製造することを可能とし、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能にする。
【解決手段】保管工程、または、搬送工程で用いる保管液として、鏡面研磨工程においてガラス基板に付着した研磨砥粒の凝集を抑制するさせる液性に調整されているものを用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ｒａ値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨材料を提供する。
【解決手段】主として平均繊維径５μｍ以下の極細短繊維からなる不織布を有し、高分子溶液および／またはラジカル反応性化合物溶液を不織布と共存させた状態でラジカル種を発生させる改質処理により得られる研磨材料。 （もっと読む）

【課題】良好な端部形状を得ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】多成分系のガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する鏡面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、鏡面研磨工程によって得られるガラス基板の端部形状を示すＤｕｂｏｆｆ値が±１０ｎｍ以内となるように研磨液の凝集度または分散度を制御して鏡面研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】円盤状のガラスディスクの表面を研削した後に研磨砥粒を含む研磨液を用いてガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の主表面の研磨工程後における研磨砥粒の残滓や凹欠陥の発生を防止して、高平滑性の磁気ディスク用ガラス基板を製造することを可能とし、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能にする。
【解決手段】研磨液２１をガラスディスクの表面に供給するときの研磨液２１の温度を、雰囲気温度以下、または、２０°Ｃ以下とし、あるいは、研磨工程を終了したときのガラスディスクの表面の温度を３０°Ｃ以下とする。 （もっと読む）

【課題】研磨レートを維持しつつ、ガラス基板端部の盛り上がりやだれを防止することの可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および研磨パッドを提供することを目的としている。
【解決手段】ガラス基板１を、研磨材を含有するスラリーを供給しながら、ガラス基板１と研磨パッド１０とを相対的に移動させて研磨する主表面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記研磨パッド１０は、研磨材２を２５〜３３（重量％）、好ましくは２７〜３０（重量％）含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 効率的に、ダイヤモンドホイールを洗浄し、目詰まりを除去することができる磁気記録媒体表面処理用のダイヤモンドホイールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】 積層された複数の円板状の単位ダイヤモンドホイール２０を含む磁気記録媒体表面処理用のダイヤモンドホイール１を洗浄する方法であって、ダイヤモンドホイール１の表面に、ケイ酸砥粒研磨剤と界面活性剤を主成分とする洗浄液を付着させ、ナイロンによって形成され、毛径が０．０５ｍｍないし０．５ｍｍで、毛丈が１０ｍｍないし３０ｍｍの洗浄ブラシ５を、洗浄液が付着したダイヤモンドホイール１の表面に当接させ、ダイヤモンドホイール１を軸まわりに回転させつつ、洗浄ブラシ５を、ダイヤモンドホイール１の軸方向に移動させて、洗浄ブラシ５によって、ダイヤモンドホイール１の表面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体表面処理用のダイヤモンドホイールの洗浄方法。 （もっと読む）

【解決課題】Ni-Pめっきを施した磁気基板の研磨、特に仕上げ研磨用として、スクラッチや突起等の表面欠陥を低減することが可能である研磨用組成物を提供する。
【解決手段】金属イオンに配位可能な共重合樹脂（A）、研磨促進剤、及び水を含有することを特徴とするNi含有基板の研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁気記録媒体における基板表面の異物に起因するトラブルを極力抑え得る磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用ガラス基板であって、ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面の面取り部及び／又は側壁部の表面粗さＲａが０．００１〜０．０４μｍである。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において問題となる異物を、研磨液から適切に除去する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板を準備する基板準備工程と、ガラス基板を鏡面研磨する基板研磨工程とを備え、基板研磨工程は、磁石フィルタ１０６を通して研磨液を循環させつつガラス基板を研磨する。磁石フィルタは、研磨液に、磁束密度で少なくとも５０００ガウス以上の磁場を印加する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録ヘッドの浮上高さを従来よりも低くすることが可能となり、更に磁気記録膜に良好な磁気異方性が得られる高記録密度化を実現できるシリコン基板を提供する。
【解決手段】（１）異なる素材の砥粒を含む遊離砥粒スラリー及び／又は異なる材質のテープを用いる少なくとも二段階のテクスチャー加工と、（２）異なる加工圧力を用いる少なくとも二段階のテクスチャー加工と、（３）異なる素材の砥粒を含む遊離砥粒スラリー及び／又は異なる材質のテープを用いるとともに、異なる加工圧力を用いる少なくとも二段階のテクスチャー加工とからなる一群から選ばれるテクスチャー加工を用いて、シリコン基板表面にテクスチャーを形成する磁気ディスク用テクスチャー入りシリコン基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）