説明

Fターム[5D112HH10]の内容

Fターム[5D112HH10]に分類される特許

1 - 4 / 4


【課題】凹欠陥のサイズおよび成膜条件の影響を受けずに、凹欠陥部が金属薄膜積層体のいずれかの層に至る深さであると特定できる程度に分析することのできる金属薄膜積層体の表面欠陥分析方法の提供。
【解決手段】非磁性基体100上に、それぞれ異なる金属成分(A〜E)組成を有する複数の金属薄膜層(1〜5)が積層された金属薄膜積層体102で、凹欠陥部11を有する前記金属薄膜積層体102の、前記凹欠陥部11の底部に照射され前記金属薄膜積層体102を透過し前記非磁性基体100に到達する電子ビームを照射して得られる第1EDXスペクトルおよび正常部表面に照射される前記電子ビームにより得られる第2EDXスペクトルを比較して得られるスペクトル強度の低下比率と、各金属成分(A〜E)の各金属薄膜層(1〜5)への配分率とから、凹欠陥部11の底部が存在する金属薄膜層を特定する。 (もっと読む)


【課題】潤滑剤塗布プロセスにおいて所定の膜厚で均一な潤滑層を安定的に形成するためには、潤滑剤塗布液のプロセス管理が重要である。塗布液中の潤滑剤の濃度が低い場合にも適用できる、微量の試料で且つ簡便な潤滑剤塗布液の劣化診断方法を提供する。
【解決手段】本発明における潤滑剤塗布液の劣化診断方法は、塗布液を乾燥して溶媒を揮発・除去した後、TOF−SIMSにより発生する各種イオンを測定し、基準のCOイオン強度と標識のBis体潤滑剤末端構造のC11イオンの強度とを比較し、イオン強度比(C11イオン強度/COイオン強度)から潤滑剤塗布液の寿命を判定して劣化診断を行なうことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な磁気特性、信頼性特性を有する磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクの製造方法であって、前記保護層はプラズマCVD法により成膜され、反跳分子散乱法を用いて測定される前記磁性層中の水素含有量が許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定し、該設定した成膜条件により前記保護層を形成する。 (もっと読む)


【課題】近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な信頼性特性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクであって、カーボン60(C60)をエッチング用のガスとして用いたESCA(エスカ)にて測定される磁性層中のアルゴン(Ar)含有量が許容値となるように磁性層の成膜条件、具体的には成膜時のガス圧を設定し、この設定した成膜条件により磁性層を形成する。 (もっと読む)


1 - 4 / 4