【課題】記録ディスク媒体の原盤パターン露光のための露光システムのコストを抑制する。
【解決手段】原盤に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する露光装置とその制御装置を含む露光システムにおいて、原盤パターンを描画するための描画データ信号が、複数の波形パターンの組合せからなるものであるとき、制御装置５０に、複数の波形パターンのうち互いに異なる波形パターンを個々の波形データ列として記憶する波形データ記憶部５１、５２と、互いに異なる波形パターンを示す波形データ列により描画データ信号を構成するための波形データ列の出力順序を記憶する出力順記憶部５３、５４とを個別に備え、さらに、波形データ列を出力順序に従って順次、露光装置に送出するデータ処理部５６を備える。 （もっと読む）

【課題】溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供する。
【解決手段】描画処理後の原盤をターンテーブルから外した後再度ターンテーブルに載置したときの原盤の中心座標と、ターンテーブルの回転中心との差を検出し、ターンテーブルの停止時に検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた検出手段からの検出信号に基づいて移動手段により吸着前の原盤を径方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】露光ビームを照射して潜像パターンを形成する記録装置と記録方法において、ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】電子線を用いて基板上に所望のパターンを精度良く描画することができる電子線描画装置を提供する。
【解決手段】 駆動信号生成装置２５２からの移動ステージを駆動する信号ｓ５２ａと同期して、該信号の周波数が所定倍された信号を生成する同期信号生成装置２５３、該同期信号生成装置２５３の出力信号ｓ５３とリニアエンコーダの出力信号ｓ１３に基づいて、移動ステージの位置偏差を算出する位置偏差演算装置２５４、該位置偏差演算装置２５４の出力信号ｓ５４に基づいて、基板に照射される電子線の照射位置を調整する照射位置調整装置２５５を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光量不足を生じさせずに模様を描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】非露光領域Ａｂのうちの１つが非露光領域Ａｂに対して回転半径方向で接する２つの露光領域Ａａ１と回転方向で接する２つの露光領域Ａａ２とで囲まれ、露光領域Ａａ１の回転方向に沿った長さＬ１よりも露光領域Ａａ２の回転方向に沿った長さＬ２を短くすべき部位が存在する露光パターンＰＡ（模様）の描画時に、露光領域Ａａ１とすべき第１領域への照射回数をＮ回、露光領域Ａａ２とすべき第２領域への照射回数をＭ回としたときに、第１領域の回転半径方向に沿った第３の長さＬ３を（Ｎ＋１）で除した値よりも、Ｍ回のうちの最内周側への照射時におけるビーム中心と最外周側への照射時におけるビーム中心との間の回転半径方向に沿った第４の長さＬ４を（Ｍ−１）で除した値の方が小さくなるように照射する。 （もっと読む）

【課題】プロセス管理が不要で、グルーブの幅、長さと深さの制御を両立させることが可能な原盤用媒体及びその原盤用媒体を用いた原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板１に、反射膜２、保護膜３、光を吸収する第一の光吸収性層４、熱により物理的もしくは化学的変質を起こす熱変質層５、光を吸収する第二の光吸収性層６を順次形成する。この原盤用媒体を用いて、例えば、光ディスク原盤を作製する。即ち、原盤用媒体を用意する工程と、原盤用媒体の第二の光吸収層６側からレーザ光を照射し、熱変質層５に潜像を形成する工程と、第二の光吸収性層６を除去する工程と、熱変質層５に形成された潜像を現像する工程と、から光ディスク媒体原盤９を作製する。 （もっと読む）

【課題】離型処理に起因する問題を解消し、ディスク製造工程の効率化を実現する。
【解決手段】例えばＢＤ−Ｒ、ＢＤ−ＲＥの製造用のスタンパを製造する際に、無機レジスト原盤の特性を活用して、現像工程及びマスター→マザースタンパへの凹凸反転工程を省略し、製造時のタクトタイムと歩留まりを改善する。無機レジスト原盤では露光部が隆起する現象が発生する。この隆起をそのまま利用してスタンパを作製することで、原盤から作製されたスタンパは、露光部分（グルーブ部分）が凹状部となるようにする。また無機レジスト原盤では、無機レジスト層の表面に薄膜の表面コート層を形成し、隆起グルーブを所望の形状に制御する。 （もっと読む）

【課題】容易に、転写元となるパターンの線幅よりも線幅が狭いパターンを形成できる微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】
第一の基板３上には、１以上の凹状パターンが形成されている。この凹状パターン上に、誘電体膜４を形成する。その後、第一の光硬化性樹脂２を塗布する。第一の光硬化性樹脂２上に第二の基板５を貼り合わせ、光照射により、第一の光硬化性樹脂２を硬化させる。硬化後、第一の基板３と第二の基板５とを、誘電体膜４と第一の光硬化性樹脂２との境界で分離する。第二の基板５上の第一の光硬化性樹脂２に、第一の基板３上の凹状パターンよりも線幅が狭い凸状パターンが転写される。 （もっと読む）

【課題】回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。
【解決手段】電子ビームを照射して走査することにより基材に描画するにあたり、
第１のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第１のステップと、
第２のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第２のステップと、
前記第１のドーズ量にて描画される部分と前記第２のドーズ量にて描画される部分とが混在する領域を設ける第３のステップと、
を含む電子ビーム描画方法。 （もっと読む）

【課題】電磁誘導を介したトランス機構により、固定側から回転側に非接触で電力を供給することで、耐久性を向上する。
【解決手段】ターンテーブル内に設けられ回転軸とともに回転するクランプ電極に対し、筐体側からクランプ電圧をロータリトランスを介して供給し、クランプ電極の静電力によってターンテーブルに載置された基板を把持する。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、非接触で電力を供給することができ、摩耗を招くことがなく耐久性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】割れにくく取り扱いが容易で、高精細パターンをもつ光ディスク用原盤を提供する。
【解決手段】表面を研磨した基板１０と、基板１０の研磨した面上に形成された第１下地層１１と、基板１０上に、第１下地層１１を覆うように形成された第２下地層１２と、第２下地層１２上に形成された無機レジスト層１３とを有する光ディスク用原盤である。更に、第１下地層１１は、基板１０より熱伝導率が高い下地層であり、第２下地層１２は第１下地層１１よりもアルカリ溶液に対して難溶な下地層である。 （もっと読む）

【課題】精度よく電子線のブランキングを行うことを可能とする。
【解決手段】ブランキング装置２０において、第１同軸伝送路２４Ａと第２同軸伝送路２４Ｂとによって、ブランキング電極１４ａ,１４ｂに対して、駆動回路２１、及び終端器２５を電気的に接続する。そして、駆動回路２１の出力インピーダンス、同軸ケーブル２２、第１同軸伝送路２４Ａ、第２同軸伝送路２４Ｂ、ブランキング電極１４ａ,１４ｂ、及び終端器２５の各特性インピーダンスを、例えば５０Ωに整合する。これにより、駆動回路２１から出力される駆動信号の反射が回避されるため、ブランキング電極１４ａ,１４ｂへの印加電圧にオーバーシュートやリンキングが発生することがなくなり、精度よく電子線のブランキングを行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】従来の無機レジストを用いたスタンパは、その側面部に支持基材が露出していた。このようなスタンパを用いて２Ｐ法により基板等の成形を行うと、スタンパの側面部に露出した支持基材と成形時にはみ出した硬化性樹脂が密着し、スタンパの側面部に残渣が生じてしまうという問題があった。本発明の目的は、支持基材と無機レジストからなるスタンパを用いて基板成形を行った場合でも、硬化性樹脂の残渣を生じないスタンパを提供することにある。
【解決手段】本発明に係る透光性スタンパは、光記録媒体の情報パターンを硬化性樹脂を用いて形成する際に用いられる透光性スタンパであって、該透光性スタンパは、透光性支持基材と情報パターンに対応した凹凸パターンが形成された透光性無機レジスト層を有し、前記透光性スタンパの側面部に、前記硬化性樹脂との剥離性が前記透光性支持基材よりも優れる剥離層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低コストで製造でき、高密度記録が可能な追記型情報記録媒体等の提供。
【解決手段】 混合無機材料で形成された記録層を基板上に有してなり、前記混合無機材料が、（Ａ）硫黄化合物と、（Ｂ）酸化珪素と、（Ｃ）金属、半金属又は半導体から選択される無機材料（ただし、前記（Ａ）硫黄化合物及び前記（Ｂ）酸化珪素とは異なる）とを含み、前記記録層における、少なくとも任意の一波長の光に対する光吸収能が、前記（Ｃ）金属、半金属又は半導体から選択される無機材料を除いてなる同厚の記録層よりも高いことを特徴とする追記型情報記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、時間をかけることなく、スタンパ原版を構成する基板に深さの異なる溝を形成することができるスタンパ原版の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】スタンパ原版５０の製造方法は、シリコンウエハ５１にネガレジスト層５２を形成する工程と、ネガレジスト層５２に対して電子線を部分的に照射する工程と、現像により非露光部分５２Ｂを除去する工程と、ネガレジスト層５２の一部が残った状態のシリコンウエハ５１に、ポジレジスト層５３を形成する工程と、ポジレジスト層５３に対して所定のパターンを電子線で描画する工程と、現像により露光部分を除去する工程と、露出したシリコンウエハ５１およびネガレジスト層５２の表面に対してリアクティブイオンエッチングを行うことで、シリコンウエハ５１の表面に異なる深さの溝５１ａ，５１ｂを有する凹凸形状を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】特別な手法を用いることなく、無機レジスト層を有する基板から金属層を円滑に剥離することが可能な光ディスク用原盤の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無機レジスト層２３と金属層３６との間に、無機レジスト層２３との密着強度が低い中間層３０を設けることで、特別な手順を要することなく、金属層３６上の凹凸パターンの形状を良好に維持しながら、金属層３６を基板２０から容易に剥離することができる。 （もっと読む）

【課題】短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を実現する。
【解決手段】フォトレジストを塗布したガラス基盤５に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ光１を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤露光装置であり、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御する。パルスジェネレータ１３から各トラックのフォーマット信号送出クロックＣＬＫをフォーマッタシステム１５に送出し、さらに短ピット露光ビーム強度制御回路１７にピット露光データ信号を送出し、回路１７から光変調器３にピット形成信号を送出することにより、短ピットを形成する。２は露光光学系、４はフォーカスアクチュエータである。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲやＬＷＲが良好な凹部または凸部を有する凹凸パターンを形成し得るパターン描画方法を提供する。
【解決手段】基材上の樹脂層に描画用ビームを照射して露光領域Ａ０を露光して露光パターンを描画する際に、描画用ビームの中心位置を樹脂層に対して第１の方向（矢印Ｒの向き）に沿って相対的に移動させつつ第１の方向と交差する第２の方向（左右方向）において所定のピッチＰ１〜Ｐ５で隣り合う照射領域Ａａ１〜Ａａ６のうちの１つに描画用ビームを照射するビーム照射処理を照射領域Ａａ１〜Ａａ６に対して実行して露光領域Ａ０を露光する描画方法であって、露光領域Ａ０のうちの１つを露光する際に、照射領域Ａａ１〜Ａａ６のうちの第２の方向における両端部の照射領域Ａａ１，Ａａ６と、隣り合う照射領域Ａａ２，Ａａ５とのピッチＰ１，Ｐ５について、各照射領域Ａａ１〜Ａａ６の各々のピッチＰ１〜Ｐ５を平均した長さよりも短くする。 （もっと読む）

【課題】原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】原盤作製用ディスク２の１ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒（４６−１〜５５−１、４６−２〜５５−２、４６−３〜５５−３、４６−４〜５５−４）を配置し、原盤作製用ディスク２を一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスク２の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する。 （もっと読む）