【課題】いわゆる先ダイシングの技術を用いてウェーハを個々のデバイスに分割する場合において、デバイスを破損させることなくデバイスのピックアップを円滑に行う。
【解決手段】ウェーハＷの表面の分割予定ラインに分離溝Ｇを形成した後にウェーハＷの裏面Ｗ２を研削して裏面Ｗ２から分離溝Ｇを表出させて個々のデバイスＤに分割し、分割されたウェーハＷの裏面Ｗ２をテープ６に貼着してテープ６を伸張させてデバイスをピックアップするにあたり、テープ６として合成樹脂によって構成されたシート部材６０の一方の面に粘着材６１がドット状に敷設された粘着テープを使用することにより、粘着材が一面に敷設されたテープよりも粘着力を弱くしてウェーハＷの保持力を弱くすることにより、デバイスＤをピックアップしやすくする。 （もっと読む）

【課題】
軽量で高剛性な可動部を備え、高加減速で高精度位置決め可能な露光装置用ステージを提供する。
【解決手段】
原版または基板を搭載して移動する可動部を備える走査型露光装置であって、前記可動部は、走査方向に平行で、かつ、前記可動部の一端から他端に渡ってつなぎ目なく配置される複数の第１棒状部材と、前記複数の第１棒状部材と交差するように配置され、前記第１棒状部材とともに複数の直方体の辺を形成する複数の第２棒状部材と、前記複数の直方体の６面の四角形において対角線上に配置される複数の第３棒状部材と、を含む。 （もっと読む）

【課題】保持端末の吸着端面に対する保持対象物の姿勢を一定に保ち、吸着端面に対する保持対象物の姿勢が一定でなくなって傾くことに起因して、吸着端面と保持対象物との間の隙間が保たれなくなり、吸着端面と保持対象物とが接触することなどを抑制できる吸引保持ハンド、吸引保持方法、及び搬送装置を提供する。
【解決手段】吸引保持ハンドは、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生ずる負圧と、旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、保持対象物を非接触で吸引保持する吸引保持ハンドであって、旋回流発生室の吸引用吹出し口が開口した吸引保持面を有する吸引パットと、吸引パットに吸引されて吸引保持面に臨む位置に在る保持対象物の面に略連続する被吸引面に対向し、被吸引面に圧縮気体を吹き付けることが可能な位置に配設された複数の吹出し孔を有する気体吹出し装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】可動部の姿勢を高い精度で制御することができる駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置は、第１方向に移動する第１可動部と、前記第１可動部をその一端側および他端側において浮上させて支持する気体ベアリングをそれぞれ含む２つの浮上機構と、前記第１可動部によって支持およびガイドされながら前記第１方向に直交する第２方向に移動する第２可動部と、前記２つの浮上機構を制御する制御部とを有し、前記２つの浮上機構は、それぞれ前記第１可動部の浮上量を磁力によって変化させる電磁石を含み、前記制御部は、前記２つの浮上機構のそれぞれの前記電磁石の励磁を前記第２可動部の前記第２方向における位置に応じて制御する。 （もっと読む）

【課題】半導体プロセス部品から残留電荷を除去するシステム及びその方法を提供する。残留電荷の除去でデチャックの失敗を減少・防止することによって半導体プロセス部品の崩れや破損を防止する。
【解決手段】静電チャックに嵌められた電極に反対極性の放電直流電圧を印加し、またリフトピンユニットによって残留電荷が接地される出口を提供する。それによって、残留電荷が除去される。リフトピンユニットは静電チャック台座と同じ電位に保持されて、ＲＦパワーが印加されてプラズマを生成する際にスパークが発生するのを防止する。電荷センサを利用して残留電荷の量を検出及び測定し、次回のデチャック工程中の反対極性の放電電圧のパラメータが調整される。 （もっと読む）

【課題】少数枚ロットによる１キャリア内のウエーハ充填率が低い状態でも、設備稼働率の低下、スループットの低下を防止することができる半導体製造装置のキャリア交換方法およびキャリア交換装置を提供する。
【解決手段】比較部１０３は、基準情報管理部１０２に予め登録された半導体製造装置１１０の収容可能枚数と、装置状態監視部１０１が取得した仕掛り中のウエーハ枚数とを比較する。仕掛り中のウエーハ枚数が収容可能枚数未満である場合、交換キャリア検索部１０４は、回収開始予定時間と空キャリア発生予定時間とに基づいて交換可能キャリアを抽出する。交換可能キャリアが抽出された場合、回収キャリア検索部１０５は、回収開始予定時間と空キャリア発生予定時間とに基づいて回収先キャリアを決定する。回収先キャリアが決定された場合、指示部１０６は、半導体製造装置１１０にキャリア交換を指示する。 （もっと読む）

【課題】基板上のマークの位置をより短い時間で検出し、基板へのパターンの転写のために要する時間を削減する。
【解決手段】原版のパターンを基板の複数のショット領域に順に転写する。各ショット領域は、チップ領域１０２ａとそれを取り囲むスクライブライン領域Ｓ１とを含む。露光装置は、走査方向に駆動されている基板における隣接する第１スクライブライン領域Ｓ１、第２スクライブライン領域Ｓ２を同時に観察し、前記第１スクライブライン領域、前記第２スクライブライン領域にそれぞれ配置されている第１マーク１０４ａ、第２マーク１０４ｂからの光を検出する検出器と、前記検出器から出力される検出信号を処理して前記第１マーク、前記第２マークの位置を決定する処理部とを備える。前記基板は、前記第１マークおよび前記第２マークの位置に基づいて位置決めされ、露光される。 （もっと読む）

【課題】デバイスのサイズが小さくなるにつれ問題となる基板のムラを低減する。
【解決手段】チャンバ監視システムは、単一のセンサコントロールシステムが多数の異なる処理チャンバコントロールボードセンサ線に連結された並列アーキテクチャを含む。タコメータ等の単一の回転センサが、処理チャンバから離れた中央コントロールユニット内に存在しているため、回転データは単一のシステムにより処理され、その後、様々な異なるネットワーク通信プロトコルに従ってメインシステムコントローラ、ファクトリインターフェース又はその両方にルーティングされる。中央コントロールユニット及びチャンバコントロールボード内のプルアップネットワークをマッチさせることにより、クロウバー効果等の電気信号の異常を低減する。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する基板収納容器を閉鎖・密閉する際に、ガスケットを嵌合保持溝へ挿入する作業が容易であり、かつ、基板収納容器のシール性能のばらつくことが少ない基板収納容器及び基板収納容器の蓋体の製造方法を提供する。
【解決手段】開口を有し、基板を収納する容器本体２と、開口部を閉鎖する蓋体３と、容器本体２と蓋体３との間に介在するガスケット７を有する基板収納容器１において、蓋体３を筐体４とカバープレート６と筐体４の外側に設けられる枠体５とから形成し、前記枠体５は、前記筐体４と前記カバープレート６との間に挟持されていて、前記筐体４と前記枠体５との間にガスケット７が挟持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】未処理ウエハと処理済ウエハとの混在を回避する収納方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１０は、基板処理室１０２、基板を収納するフープＬＰ及びフロントストレージＦＳＴ、基板処理室とフープ及びフロントストレージとを連結する大気搬送室ＴＭを有する。基板処理システム１０における収納方法は、フープに収納された複数の未処理ウエハを順次基板処理室に搬送し、基板処理室にて未処理ウエハをプラズマ処理する処理ステップと、プラズマ処理後の処理済ウエハをフロントストレージＦＳＴまで順次搬送し、処理済ウエハを一時的に退避させる退避ステップと、フープＬＰから最後の未処理ウエハが搬出されたかを判定する判定ステップと、最後と決定された未処理ウエハが搬出された場合、フロントストレージに収納された複数の処理済ウエハを順次フープまで搬送して再収納する再収納ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】被加工物を収納する収納手段を備えた加工装置において、が収納手段に対する被加工物の出し入れをしやすくする。
【解決手段】搬送手段が収納手段３１から被加工物Ｗ１を搬出して保持手段に搬送し、保持手段に保持された被加工物Ｗ１が加工される加工装置において、収納手段３１に被加工物Ｗ１を載置可能な被加工物載置台３３を備えており、被加工物載置台３３には、被加工物の収納手段３１への搬入または被加工物Ｗ１の収納手段３１からの搬出時に被加工物Ｗ１の出入口となる入出部３３２と、被加工物Ｗ１の搬出入方向と水平面内において垂直に交わる方向を回転軸３３３ａとして入出部３３２が上方を向くように被加工物載置台３３を回転させる回転機構３３３とを備えることにより、オペレータから入出部３３２を見やすくなり、所望の位置に被加工物Ｗ１を収納しやすくなると共に、所望の被加工物Ｗ１を取りだしやすくなる。 （もっと読む）

【課題】
ＸＹステージのピッチング方向の揺れを抑えた高精度な位置決めを行う基板ステージを提供する。
【解決手段】
ステージと、前記ステージを第１方向に駆動する第１駆動機構と、前記ステージを前記第１方向に直交する第２方向に駆動する第２駆動機構と、前記第２駆動機構による前記第２方向へのステージの駆動を案内する駆動ガイドと、前記駆動ガイドと対向して設けられ前記ステージを支持するエアベアリングと、を有するステージ装置であって、
前記第２駆動機構は、前記ステージを前記第１方向に駆動する手段を更に有し、前記第１駆動機構によって前記ステージを駆動する際に、前記駆動ガイドと前記エアベアリングとの間隔を、前記第２駆動機構を駆動することで制御する制御手段を有することを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】アルミナと同等以上の耐食性や体積抵抗率を有しながらアルミナより高い熱伝導率を有する新規な材料を提供する。
【解決手段】本発明の窒化アルミニウム基複合材料は、遷移金属、アルカリ金属、ホウ素の各元素がそれぞれ１０００ｐｐｍ以下であり、熱伝導率が４０〜１５０Ｗ／ｍＫ、熱膨張係数が７．３〜８．４ｐｐｍ／℃、体積抵抗率が１×１０¹⁴Ωｃｍ以上であり、構成相として、ＡｌＮとＭｇＯとを含み、更に、希土類金属酸化物、希土類金属−アルミニウム複合酸化物、アルカリ土類金属−アルミニウム複合酸化物、希土類金属酸フッ化物、酸化カルシウム及びフッ化カルシウムからなる群より選ばれる少なくとも１種を含むものである。 （もっと読む）

【課題】複数の処理チャンバを備える半導体製造装置に対して最適なウェーハ搬送制御処理を実現し、半導体製造のリードタイムを短縮して効率性を高めることができる半導体製造装置の制御システムおよび制御方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハをロット単位で処理する半導体製造装置の処理動作を指示する処理指示装置１０の搬送制御判断部１２は、装置状態データ収集部１１、ロット処理データ収集部１４および搬送制御データベース１３から取得した、装置状態データ、在庫ロット数、ウェーハ処理時間、ロット間クリーニング時間およびウェーハ搬送制御内容を示すデータに基づいて、ウェーハ搬送制御内容ごとに全在庫ロットの平均リードタイムを算出する。搬送制御判断部１２は、算出結果から最適なウェーハ搬送制御内容を選択し、処理指示部１５が選択されたウェーハ搬送制御内容に従うウェーハ搬送を半導体製造装置１６に実施させる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の搭載のためにホルダーが装着されるバッチ型半導体の製造装置のボートにおいて、製造が簡単な半導体基板ホルダーの製造方法及びこのホルダーを通じてよりコンパクトな半導体基板のボート搭載を遂行してその生産性が向上するバッチ式ボートとそれを用いた半導体基板のローディング／アンローディング方法並びにこれらが含まれた半導体の製造装置を提供する。
【解決手段】半導体基板の底部が安着される外周と内周大きさを有するパイプ形状のホルダー基材１０を成形し、ホルダー基材１０を半導体基板のローディング用ボートで半導体基板の配置間隔に合わせてリング形状に切断してホルダーリング１２を製作する。 （もっと読む）

【課題】 板状体を確実に保持して搬送することができる板状体の搬送装置を提供する。
【解決手段】 板状体を上方から吸着保持する保持部材１０と、保持部材１０を移動可能に支持する支持部材２０とを備える板状体の搬送装置１であって、中空部１３は、導入孔１１ｂから導入された圧縮気体の流れを分岐させて各噴射口１２ａに案内する分岐流路１４を備え、分岐流路１４は、各分岐点に流入した圧縮気体を２方向に分岐して流出するように形成されており、分岐点への流入方向に対して２つの流出方向が対称である。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる位置合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数のウェハを重ね合わせる位置合わせ装置は、一の基板を保持する第１ステージと、第１ステージに対向して配され、他の基板を保持する第２ステージと、駆動力を第２ステージに対して作用させることにより、並進３自由度及び回転３自由度のうちの少なくとも５自由度で第２ステージを駆動するアクチュエータと、アクチュエータを制御して第２ステージに保持された他の基板を第１ステージに保持された一の基板に重ね合わせる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハカセットのドアの開閉に要する時間を短縮してスループットを向上したウエハローディング・アンローディング方法および装置の実現。
【解決手段】取り出し口に設けられた開閉されるドア13を有し、複数のウエハWを収容するウエハカセット10を載置するウエハカセット載置部26と、ドア13を移動するドア移動機構22-25と、ウエハカセット10との間でウエハを搬出・搬入するウエハ搬送アーム30と、を備え、通常時はドア13を閉め、ウエハを搬出・搬入する直前にドアを開き、ウエハを搬出・搬入した後ドアを閉じるウエハローディング・アンローディング装置であって、ドア移動機構は、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて、ドアの開き位置を変化させる。 （もっと読む）

【課題】質量体駆動源の応答遅れ及び推力変動によって起こるステージ駆動反力漏れを抑制するステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明のステージ装置は、ステージと、前記ステージを支持する定盤と、前記ステージを駆動する駆動手段と、前記ステージの駆動に伴い前記定盤に作用する力を相殺するように力を前記定盤に作用させる力発生機構とを有するステージ装置であって、前記力発生機構は、第１力発生機構と第２力発生機構とを含み、前記第２力発生機構は、前記ステージの駆動に伴い前記定盤に作用する力と前記第１力発生機構によって前記定盤に作用させる力との差分に基づいて、前記定盤に力を作用させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スライド機構により被加工物を収納する際に、被加工物が収納手段から飛び出してしまうのを確実に防止する。
【解決手段】搬送手段が収納手段３１から被加工物Ｗ１を搬出して保持手段に搬送し、保持手段に保持された被加工物Ｗ１が加工される加工装置において、収納手段３１は、搬送手段側に開口する第一の搬送口３２０とオペレータ側に開口する第二の搬送口３２１とを有する枠体３２と、第二の搬送口３２１を介して枠体３２から引き出し可能な被加工物載置台３３と、被加工物載置台３３を第二の搬送口３２１を介して引き出された状態から枠体３２の中に押し込む際の慣性力によって被加工物載置台３３０に載置された被加工物Ｗ１が第一の搬送口３２０から飛び出すのを一定の力で防止する掛止部３３４とを有し、搬送手段が被加工物Ｗ１を第一の搬送口３２０を介して搬出入する際には掛止部３３４による掛止を解除する。 （もっと読む）