【課題】 高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれも生ずることのない被処理体の搬送機構を提供する。
【解決手段】 薄い板状の被処理体Ｗを搬送するために比較的長い共通搬送エリア６内に設けられた搬送機構４０において、前記共通搬送エリアの長手方向に沿って設けられる案内レール４２と、前記案内レールに沿って移動可能になされた移動体４４Ａと、前記移動体に設けられて、前記被処理体の周縁部の下側角部に係合される断面Ｌ字状の係合段部８２，８４を有する複数の被処理体支持支柱８０とを備える。これにより、被処理体を上記係合段部により保持することにより、高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれが生ずることも防止する。 （もっと読む）

【課題】試料を試料室から露光装置に入れる動作と試料を露光装置から試料室に出す動作とを、同時に行なえるを提供する。
【解決手段】パターンの設けられている基板を保持する基板ステージ手段と、前記基板を一時格納する基板格納手段と、試料を移動可能に保持する試料ステージ手段と、前記試料を一時格納する試料格納手段と、前記試料を前記試料格納手段と前記試料ステージ手段との間で搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送手段を格納する第１搬送空間と、前記第１搬送空間の気圧を制御する第１気圧制御手段とを有する第１ロードロック手段と、前記試料を前記試料格納手段と前記試料ステージ手段との間で搬送する第２搬送手段と、前記第２搬送手段を格納する第２搬送空間と、前記第２搬送空間の気圧を制御する第２気圧制御手段とを有する第２ロードロック手段と、を有することを特徴とする半導体露光装置。 （もっと読む）

【課題】低水分分圧でエピタキシャル成長を行える技術を提供する。
【解決手段】このエピタキシャル成長装置１では、搬入室２５と第１のロードロック室３１との間に搬送室１４が配置され、その搬送室１４と、搬入室２５と、第１のロードロック室３１には、窒素ガス導入ポート２０、２１、２８がそれぞれ設けられている。窒素ガス導入ポート２０、２１、２８から窒素ガスを導入すると、窒素ガス雰囲気中で搬入室２５から第１のロードロック室３１内に基板１７を搬送できる。第１のロードロック室３１内に搬入された基板１７は、ボートに搭載され、ボートローダ２９によって熱処理室１２内に搬入される。そのボートローダ２９周囲には、加熱されたオイルが循環できる循環路４が配置されており、ベーキングの際に、ボートローダ２９を加熱できるように構成されている。従って、従来では加熱できない部分までベーキングを行うことができる。 （もっと読む）