【目的】 高度のコンタミレスが要求される処理を良好に行なうことができる処理装置用シール装置を提供する。
【構成】 シール装置4は、密封端面５ａ，７ａ間を、これにシールガス通路９からシールガス１０を噴出させることにより、非接触状態に保持しつつ、両領域Ａ，Ｂ間を遮蔽シールするように構成された静圧形のノンコタクトガスシールである。シールガス通路9は、プラスチックカバー３、シールケース６及び静止密封環７を貫通して密封端面５ａ，７ａ間に開口する一連のものであり、プラスチックカバー３に形成される第１シールガス通路部分９１とシールケース６に形成される第２シールガス通路部分９２とはカバー段部３とシールケース端部６ａとの衝合部分において連通接続されている。 （もっと読む）

【課題】 使用したクリーニング部材の表層に付着したパーティクルを除去して、新品同様のクリーニング部材の表面状態に再生する半導体装置用クリーニング部材の再生方法を提供することを課題とする。

【解決手段】 ウエハ１の少なくとも片面にポリアミック酸を熱硬化させた耐熱性樹脂からなるクリーニング層２が設けられてなる半導体装置用クリーニング部材の再生方法であって、上記クリーニング層の表層に付着したパーティクルをドライエッチング方式を用いて除去することを特徴とする半導体装置用クリーニング部材の再生方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、立位姿勢で搬送される板状部材を所定の処理のため姿勢変更する際の、板状部材の損傷を防止することは勿論のこと、支持手段の損傷も防止して信頼性の向上を図った板状部材の搬送装置および搬送方法と、フラットパネルディスプレイの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】取付けフレーム８に、回転駆動機構１０が設けられるとともに、この回転駆動機構に連結され取付けフレームに所定間隔を存して設けられ立位姿勢にしたガラス基板Ｇの下端縁を支持して搬送可能な複数の支持ローラ（回転支持部材）９を備え、この取付けフレームを支持ローラおよび回転駆動機構ごと昇降駆動する昇降駆動機構１２を備え、この昇降駆動機構を取付けフレームに取付けられる支持ローラおよび回転駆動機構ごと前後方向に移動変位させる前後移動機構１５を具備する。 （もっと読む）

【課題】 容器開閉装置の載置台上に載置された容器に対し、簡単に、少ない不活性ガス
量で、短時間で、効率的に容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気で置換する。
【解決手段】 半導体ウエハ等の収容容器１の開閉装置１０の載置台上に載置された当該
容器１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージシ
ステム２０が、不活性ガス供給路２１、容器１内の酸化性ガス排出路２２、これらを接続
するバイパス路２３を備え、供給路２１の一端には、容器１に設けられた給気用パージポ
ート３に接合する給気ノズル２４が設けられ、供給路２１とバイパス路２３との接続部よ
りも上流側には、第１のバルブ２６が設けられ、排出路２２の一端には、容器１に設けら
れた給排気用パージポート４に接合する給排気ノズル２５が設けられ、排出路２２とバイ
パス路２３との接続部よりも下流側には、第２のバルブ２７が設けられ、バイパス路２３
には、第３のバルブ２８が設けられている。 （もっと読む）

基板コンテナは、エンクロージャとドアシャーシとを有する。エンクロージャはエンクロージャの内部に対して基板を挿入したり取り出したりするためのアクセス開口部を備えている。ドアシャーシは開口部を選択的に閉じるように形成されている。ドアシャーシは第１の壁を有し、そこから周辺壁が延びている。基板コンテナはシャーシに対して動作可能に連結されたラッチ機構を有する。ラッチ機構はシャーシを開口部へ動作可能に固定するように形成されている。基板コンテナのドアは凹凸加工された粒子捕捉領域を有しており、ラッチ機構やその他のところで発生した粒子が粒子捕捉領域によって捕捉される。
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本発明の実施形態は、標準化機械インタフェース（ＳＭＩＦ）ポッドなどの搬送コンテナをパージングする方法およびシステムを対象にしている。詳細には、浄化されたパージガスを使用して、コンテナと密閉チャンバ（たとえば半導体処理ツール）を、密閉チャンバの環境に対する有機物および他の有害な汚染物質による有害な汚染を伴うことなくインタフェースさせることができるよう、前面作動統一ポッド（ＦＯＵＰ）および他の非気密封止搬送コンテナを浄化することができる。この方法およびシステムを使用して、電子材料を製造し、かつ、処理している間、ウェハ、半導体コンポーネント、および極めて清浄な環境への露出を必要とする他の材料などの対象を搬送することができる。
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【課題】 小型化されて占有エリアが少なく、しかもティーチングも短時間で行うことが可能な搬送機構を有する被処理体の処理システムを提供する。
【解決手段】 被処理体Ｗに対して所定の処理を施す処理装置１２Ａ，１２Ｂと、この処理装置に対して被処理体を搬送させる搬送機構２０とよりなる処理システムにおいて、前記搬送機構は、前記被処理体を搬送するために独立して制御可能になされた上下２段の搬送アーム７０と、前記処理装置における処理済みの前記被処理体を搬送する際には前記下段の搬送アームのみを用いるように制御する制御部８０とを備える。これにより、小型化されて占有エリアが少なく、しかもティーチングも短時間で行うことを可能とする。 （もっと読む）