液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。露光装置（ＥＸ）は、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板Ｐを露光するものであって、第１ベース部材（ＢＰ１）と、基板Ｐを移動可能に保持する基板ステージ（ＰＳＴ）と、基板ステージ（ＰＳＴ）を支持する第２ベース部材（ＢＰ２）とを備え、第２ベース部材（ＢＰ２）上に漏出した液体（ＬＱ）の第１ベース部材（ＢＰ１）への拡散が防止されている。 （もっと読む）

浸漬リソグラフィー方法において、フォトレジスト層（２０）を浸漬液体との接触により引き起こされる劣化から保護するために、フォトレジスト層（２０）にシールド層（３０）が提供される。シールド層（３０）は露光波長で透明であり、浸漬液体を実質的に通さない（且つ好ましくは、浸漬液体に不溶性である）。シールド層（３０）は、露光後フォトレジスト層（２０）を現像するのに用いられるのと同じ現像液を用いて除去することができる材料で形成され得る。
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リソグラフィ装置が開示される。装置は、放射ビームを供給する放射システム及びパターニング構造を支持する支持構造を含む。パターニング構造は、所望のパターンに従って放射ビームをパターン化するように構成される。装置はまた、基板を支持する基板支持体及びパターン化したビームを基板の標的部分上に投影する投影システムを含む。投影システムは、ビーム入口エリア６０を有する光学要素及びビーム出口エリア８０を有する光学要素を含み、光学要素のそれぞれを通して、パターン化したビームが通過する。装置はさらに、投影システムに結合し、複数の核形成部位が上に設けられる被核形成表面４０を含む。表面４０は、ビーム入口エリア６０及びビーム出口エリア８０の少なくとも一方から離れて配設される。
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リソグラフィ装置が、放射線ビームを提供するための照明システムと、パターニング・デバイスを支持するための支持構造とを含む。パターニング・デバイスは、ビームの断面にパターンを付与するように機能する。このリソグラフィ装置は、基板を保持するための基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。このリソグラフィ装置は、リソグラフィ装置内の基板またはパターニング・デバイスといったオブジェクトを支持するためのチャック・システム１００を有する。チャック・システムは、オブジェクトを支持するためのチャック１２０、チャックを支持するためのフレーム１１０、およびチャックをフレームに対して支持するためのチャック支持構造１１４を含む。チャック支持構造は、少なくとも１つの自由度で可撓な、チャックおよびフレームに結合された少なくとも１つのたわみ要素１３０を含む。
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光学素子の姿勢を細かく調整することのできるとともに、内部の気密性を高く保つことのできる光学素子保持装置を提供する。光学素子保持装置は、枠部材（４１）と、該枠部材の内側に設けられ、光学素子を保持するレンズ枠体とを備える。枠部材に設けられた変位モジュール（８２）は、光学素子の位置をレンズ枠体を介して調整する。Ｏリング（８８，９０）が、変位モジュールと枠部材との間に設けられている。 （もっと読む）

環境制御装置１００は、気体取込口５０ａを介して気体を取り込む取込機構５１と、気体から不純物を除去する第１の不純物除去機構５４とを備える。取込機構５１は、気体取込口５０ａと第１の不純物除去機構５４との間に設けられる。このような構成により、デバイス製造装置が配置されるチャンバ内への外気の侵入を防ぎ、高い精度でチャンバ内の環境を制御することが可能な環境制御装置を提供することができる。
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本発明は、基板上に付着した粘性液体層に存在するガス・ポケットを大幅に減少させることによって、インプリンティング層におけるパターン歪みを軽減する方法を対象とする。そのため、この方法には、粘性液体に近接した位置にあるガスの輸送を変更するステップが含まれている。すなわち、パターンが記録されることになる基板に近接した大気が、付着している粘性液体に対して、溶解性が高いか、拡散性が高いか、あるいは、その両方であるガスで飽和させられる。大気の飽和に加えて、又は、その代わりに、大気圧を低下させることも可能である。 （もっと読む）

液体を、液浸リソグラフィシステムのレンズとウェハテーブルアセンブリの間に実質的に閉じ込めることを可能とするための方法及び装置が開示される。本発明の一態様に従えば、露光装置はレンズとウェハテーブルアセンブリを含む。ウェハテーブルアセンブリは上面を有し、ウェハを支持して、レンズ及び少なくとも１つのコンポーネントに対して動かされるように配置されている。ウェハの上面とコンポーネントの上面は各々、ウェハテーブルアセンブリの上面とほぼ同じ高さである。ウェハの上面、ウェハテーブルアセンブリの上面及び少なくとも一つのコンポーネントの上面を含むウェハテーブルアセンブリの全上面は、実質的に平面状である。
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本発明の実施形態は、光をその中に通して処理するための同位体特定流体を使用する流体光学素子及びシステムに関する。流体の同位体組成を調整して、光学特性を変えうる。同位体特定流体の特性をモニターし且つ調整して、流体光学素子の所望の光学特性を得うる。１つの実施形態では、光を光学的に処理する方法は、閉じた空間内に置かれた同位体特定流体を含む光学素子を通して光を指向させることを含んでいる。同位体特定流体を選択して、光を光学的に処理するために同位体特定流体を通して指向された光に所定の所望な効果をもたらす。
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投影システムの最終エレメントと基板の間の空間に液体が供給されるが、液体と基板の間には空間が存在している。液体と基板の間にエバネッセント・フィールドが形成され、光子の一部を使用して基板を露光することができる。液体の屈折率によってシステムの解像度が改善され、また、基板上への液体の付着が回避される。
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【課題】 装置内部の可動テーブルの位置を正確に求めるために、１つ、任意選択で２つ以上のカラー干渉計デバイスを使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】 この装置は、前記可動テーブルの少なくとも一部を収容する空間にパージ・ガスを供給するためのフラッシング・ガス手段を備え、パージ・ガスは、干渉計デバイスの動作領域内へのパージ・ガスの漏れが干渉計測定値の有意な誤差をもたらさないように選択される。 （もっと読む）

【課題】 エアマウントによる疑似３点の支持構成が採用された従来の露光装置では、アクチュエータの推力をエアマウントで置換した場合、定盤を僅かながら歪ませてしまい、露光ショットずれを引き起こす恐れがある。
【解決手段】 各エアマウント５Ａ〜５Ｄの内圧を計測する圧力計４９Ａ〜４９Ｄを設け、これら圧力計４９Ａ〜４９Ｄの出力に基づいて各エアマウント５Ａ〜５Ｄの推力を調節してアクチュエータ４Ａ〜４Ｄの推力と置換させる除振装置を露光装置に採用することにより、推力置換後の除振台の歪みを防止することができる。これにより、投影光学系や位置センサ、レーザ干渉計の支持部等に撓みが生じなくなるので、露光ショットずれを防止して露光精度の向上を図ることができる。 （もっと読む）