【課題】センサのベースラインの計測精度の向上を図る。
【解決手段】基準マーク板ＦＭには、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測用の４つの基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置が、レチクルアライメントマークＲＭを検出する計測用パターンＳＴの位置と一致するような配置で形成されている。したがって、基準マーク板ＦＭの伸縮などにより、各基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の相互間の距離や、各基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４と計測用パターンＳＴとの距離が変化したとしても、基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置と計測用パターンＳＴの位置は常に一致した状態が維持される。したがって、基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４及び計測パターンＳＴを用いたベースライン計測では計測誤差の発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、同一露光マスクのアライメントマーク間の最小許容間隔を保ち、対象体のアライメントマークに必要な領域を縮小でき、対象体の同マークの再利用が可能な露光マスクの位置合わせ方法及び薄膜素子基板の製造方法の提供。
【解決手段】 本発明は、アライメントマークが形成された複数のホログラムマスクを用いて、アライメントマークが形成された露光対象となる対象体にパターン露光を行うに際し、両アライメントマークを用いてホログラムマスクと対象体との位置合わせを複数回行う露光マスクの位置合わせ方法で、対象体上のパターン露光のための一領域と、該一領域の露光に用いるマスクとの位置合わせ用マークとを結ぶ直線が、対象体上の一領域に隣接するパターン露光のための他領域と、該他領域の露光に用いるマスクとの位置合わせ用マークとを結ぶ直線に対して交差するように各アライメントマークを設けて位置合わせを行う方法を提供する。 （もっと読む）