【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】 アライメント検出系ＡＳを用いてウエハＷ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出され、得られた検出信号が複数のフィルタ処理を用いて解析され（ステップ３０２〜３０６）、その解析結果に基づいて複数のフィルタ処理の処理条件を含む複数の照明条件及び結像条件以外の検出条件が最適化される（ステップ３０８〜３１４）。これにより、アライメントマークの検出条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】 ウェハステージの移動距離を短くして作業時間を短縮する。
【解決手段】 マスクステージ１４は、マスクステージ基準マーク１５を備えると共にマスク３０を支持する。ウェハステージ１６は、マスクステージ１４に対して露光光の光軸方向に間隔をあけて配置され、ウェハ４０を支持する。ナノインプリント装置２４は、ウェハ４０上にアラインメントマーク４４を形成可能である。オンアクシスカメラ２０は、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４とを投影光学系１２を介して同時に撮像する。位置調整装置２６は、マスクステージ１４に対するウェハステージ１６の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４をオンアクシスカメラ２０によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ１６の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】複数の露光工程を経て変形したウエハであっても高精度に位置合わせを実施することができ、かつ、高いスループットが容易に得られる露光装置を提供する。
【解決手段】光源から光を導入し、測定対象物６に形成されたアライメントマーク５０ａ、５０ｂに対して光を照射する照明系と、アライメントマーク５０ａ、５０ｂにおいて反射、又は回折、又は散乱された光を結像する結像系とを有する位置検出系を備え、位置検出系が検出したアライメントマーク５０ａ、５０ｂの位置情報に基づいて、測定対象物６に対して回転、シフト、及び倍率補正の少なくとも１つを実施する露光装置であって、結像系は、光からアライメントマーク信号を検出する画像検出素子を備え、画像検出素子による測定領域７０は、測定対象物６の回転中心からアライメントマーク５０ａ、５０ｂへ向かう第１方向の測定領域に比べ、第１方向に直交する第２方向の測定領域の方が広い。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。露光装置は、投影光学系が配置される第１領域と、第１領域と異なる第２領域とを含む所定領域内で、基板を載置して移動可能な第１ステージと、所定領域内で移動可能な第２ステージと、第１、第２ステージをそれぞれ第１、第２領域の一方から他方に移動するとともに、所定領域内で第１、第２ステージを独立に移動するリニアモータシステムと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１ステージとの間に液浸領域が維持される第１状態と、投影光学系と第２ステージとの間に液浸領域が維持される第２状態との一方が他方に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、リニアモータシステムによって、投影光学系の下方で第１、第２ステージを移動する制御システムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光で着色画素を形成する際、露光領域の移動方向末端部にても位置合わせが良好な露光方法を提供する。
【解決手段】光軸より基板５０の反移動方向に第１パターンの位置合わせマークの位置情報を取得する前方撮像カメラＣＭ−Ａ、移動方向に後方撮像カメラＣＭ−Ｂを設けた露光装置を用い、位置合わせマークを撮像するための前方撮像用開口部５３−Ａ、後方撮像用開口部５３−Ｂを設けたフォトマスクを用い、フォトマスクＰＭ３の下方を移動してくる位置合わせマークを前方撮像カメラ又は／及び後方撮像カメラで撮像し、取得した位置合わせマークの位置情報から第１パターンに対するフォトマスクのパターンの位置合わせがなされ露光光が照射される。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】 ツインステージ型露光装置において、露光が終わるまで計測ステーションに待機時間が生じると、計測値の経時変化が生じていた。
【解決手段】 露光ステーションによる露光と、計測ステーションによる計測を並行して実行する際、露光に要する時間が計測の時間よりも長い場合、計測ステーションによる基準マーク計測を再度行う。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高く維持して、アライメントを高精度に行う。
【解決手段】複数のウエハマークが形成されたウエハを露光する露光システムにおいて、計測対象のウエハマークに対応させてウエハＷ２上に複数の基準パターンを形成する簡易型露光装置４と、ウエハＷ２上の計測対象の複数のウエハマークとこれに対応する基準パターンとの位置ずれ量を計測するマーク検出装置１０と、その位置ずれ量の計測結果に基づいてウエハＷ２の位置合わせを行って、ウエハＷ２上の複数のショット領域を露光する露光装置１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】原版と基板との位置合わせの正確度または精度への迷光の影響を軽減する露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版１１の位置を表す原版基準マークと基板３１の位置を表す基板基準マークのそれぞれに含まれ、ＸＹ方向に延びる二種類のマーク部を、投影光学系２０を介して同時に、ＸＹ方向の各々に対応する二種類の検出部を使用して検出する検出器４０と、迷光成分を検出器４０の検出結果から除去した後のピーク位置に基板ステージ３２を移動することによって原版１１と基板３１とをＸＹ平面内で位置合わせする制御部５０と、を有する露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】
非点収差補正にともなうスループットの低下を低減すること。
【解決手段】
非点収差を補正する状態可変の光学素子を含み、原版からの光を基板に投影する投影光学系と、基準マークを含み、基板を保持して移動する基板ステージと、投影光学系を介して基準マークを撮像する第１のスコープと、基板に形成されたアライメントマークを、投影光学系を介さずに撮像する第２のスコープと、投影光学系の光軸の方向において異なる基板ステージの複数の位置それぞれで第１のスコープに基準マークを撮像させて投影光学系の非点収差を求め、非点収差に基づき光学素子の状態を制御して投影光学系の非点収差の調整を行い、調整の後に第１のスコープに基準マークを撮像させ、光軸に直交する面内における調整による基準マークの位置ずれ量を求め、位置ずれ量に基づいて第２のスコープのベースライン値を補正する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定する、より正確なセンサを提供する。
【解決手段】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定するセンサは、パターン付き放射ビームを受け取る受容部分と、受容部分を介してパターン付き放射ビームの少なくとも一部分を受け取るように配置された処理部分とを含む。センサの受容部分は、基板を保持するための基板テーブル中に一体化されている。 （もっと読む）

【課題】物体上の複数のマークを効率的に、かつ高精度に検出する。
【解決手段】複数の検出領域を備えたアライメント系でウエハマークを検出するマーク検出方法であって、第１検出領域ＡＬ１ｆで検出した基準マークＦＭを、基準マークＦＭを備えたステージの位置情報を計測しつつ第２検出領域ＡＬ２₄ｆに移動して、第２検出領域ＡＬ２₄ｆで基準マークＦＭを検出し、検出領域ＡＬ１ｆ，ＡＬ２₄ｆで基準マークＦＭを検出した結果と、位置計測装置からの位置情報とを用いて、検出領域ＡＬ１ｆ，ＡＬ２₄ｆの相対位置情報を求めた後、検出領域ＡＬ１ｆ，ＡＬ２₄ｆで実質的に同時に別の位置のウエハマークを検出する。 （もっと読む）

【課題】基板の露光中に基板の線形伸縮等の位置合わせ情報が次第に変化するような場合にも、高い重ね合わせ精度を得る。
【解決手段】第１のウエハの露光前及び露光後にアライメントマークの座標を計測して、アライメントのパラメータの変動量Δｐｉを求める（ステップ２０１，２０４，２０５）。第２のウエハの露光前にアライメントマークの座標を計測してアライメントのパラメータｐｉを求め（ステップ２０７）、このパラメータｐｉを第１のウエハについて求めた変動量Δｐｉで補正して得たパラメータｐｉ’に基づいて（ステップ２０８）、その第２のウエハの位置合わせ及び露光を行う（ステップ２０９）。 （もっと読む）

【課題】 アライメントマークの計測の高速度化を図りつつ、マーク位置を高精度に計測できるようにする。
【解決手段】 ウエハＷを載置して移動するウエハステージＷＳと、ウエハステージＷＳ上に載置されたウエハＷに形成されたアライメントマークＡＭ１〜９を検出するアライメントセンサＡＳ１〜３と、アライメントマークＡＭ１〜９をアライメントセンサＡＳ１〜３で検出する際のウエハステージＷＳの移動方向であるＹ方向に沿って、ウエハステージＷＳ上に配列的に設けられた複数のステージマークＳＭ１Ｒ〜ＳＭ９Ｒ，ＳＭ１Ｌ〜ＳＭ９Ｌと、アライメントセンサＡＳ１〜３がウエハマークＡＭ１〜９を検出しているときに、ステージマークＳＭ１Ｒ〜ＳＭ９Ｒ，ＳＭ１Ｌ〜ＳＭ９Ｌを検出するステージマークセンサＳＳ１〜２と、これらセンサＡＳ１〜３，ＳＳ１〜２の検出結果に基づいて、アライメントマークＡＭ１〜９の位置を求める制御装置ＦＩＡＵとを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】パターンどうしを良好に位置合わせでき、基板を効率良く多重露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、第１パターンＰＡ１の像を第１露光領域ＡＲ１に形成可能であり、第１パターンＰＡ１と異なる第２パターンＰＡ２の像を第２露光領域ＡＲ２に形成可能な投影光学系ＰＬと、第１パターンＰＡ１の像の位置情報、及び第２パターンＰＡ２の像の位置情報の少なくとも一方を求めるための第１検出系１０とを備える。検出結果に基づいて、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像と基板Ｐ上の所定領域Ｓとの位置関係を調整し、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像で基板Ｐ上の所定領域Ｓを多重露光する。基板を効率良く多重露光できる。 （もっと読む）

【課題】マークの計測精度を向上させ、かつ、その計測時間を短縮する。
【解決手段】ウエハマークＭからは、この照明光の反射光が射出される。ウエハマークＭは、後述するように、回折格子状のマークであり、このマークからの反射光は、０次光と、±ｎ（ｎは、１以上の正の整数）次の回折光となる。ウエハマークＭからの各回折光は、第１対物レンズ４８と、第２対物レンズ５８とによって形成される結像光学系の瞳面内の異なる位置を通過するようになる。この平行光は空間フィルタユニット５０が備える空間フィルタに入射する。空間フィルタは、そのマークからの偶数次回折光を確実に遮蔽する。これにより、撮像素子６０上のウエハマークＭの空間強度像の奇数高調波成分は、その次数の回折光と０次光とのビート成分のみとなり、その成分からウエハマークの位置情報を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 照明光の波長程度以下の微細パターンを干渉縞を用いて安価に形成可能であるとともに、その干渉縞のコントラスト等の特性を効率的に調整できる露光技術を提供する。
【解決手段】 開口絞り１７からの照明光を２枚の回折格子Ｇ１１及びＧ２１を介して照射することによって干渉縞ＩＦを形成し、干渉縞ＩＦでウエハを露光する。露光前に回折格子Ｇ１１，Ｇ２１を同方向に等しい角度で回転する工程と、回折格子Ｇ１１，Ｇ２１を所定角度比で回転する工程とを組み合わせて、開口絞り１７の開口部１８の長手方向と干渉縞ＩＦの長手方向とが平行になり、かつ干渉縞ＩＦのコントラストが最大になるようにする。 （もっと読む）

【課題】標準を外れた基板を適切にレベリングする基板ホルダおよびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】第一基板Ｗ１を基板テーブルＷＴに装着した後に、ＩＩＩ／Ｖ化合物半導体などの第二基板Ｗ２を、ウェハ、ガラス基板などの第一基板Ｗ１の表面３上で位置決めされる。投影ビームが第二基板Ｗ２の目標部分Ｃに投影されるように第一基板Ｗ１を投影システムに対して位置合わせされる。第二基板を、パターン形成した放射線に露光する。 （もっと読む）