【課題】光学系を介したアライメントを行う場合でもアライメント用の特殊な装置が不要である露光装置、位置検出方法及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】光源装置から射出された照明光を投影光学系ＰＬに備えられた複数の光学要素を介して感光層を有する基板Ｗに露光する露光装置であって、感光層を感光させない波長を有するアライメント用の電子線ＥＢを基板表面に照射して基板位置を検出するアライメント系４０を備え、少なくとも一部の光学要素Ｅには、照明光の光路以外の領域に基板表面に向かう電子線ＥＢが通過する通過孔ＴＨ１が設けられ、電子線ＥＢは通過孔ＴＨ１を介して基板Ｗに照射される。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件又は複数の結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を信号処理アルゴリズムを用いて解析処理することにより検出信号の波形の変形に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果に対するＴＩＳが評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件又は複数の結像条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果に対するＴＩＳが最小になるようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された裏面側マーク及び表面側マークを検出することができる検出装置を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンが転写される基板の表面側及び裏面側のそれぞれに形成された表面側マーク及び裏面側マークを検出する検出装置であって、前記基板を透過する波長を有する第１の光と前記基板を透過しない波長を有する第２の光とを射出する光源と、光電変換素子と、前記光源から射出した第１の光を前記基板の表面側から前記裏面側マークに照射して前記裏面側マークで反射した第１の光により前記裏面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成すると共に、前記光源から射出した第２の光を前記基板の表面側から前記表面側マークに照射して前記表面側マークで反射した第２の光により前記表面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成する光学系と、を有することを特徴とする検出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】マークごとの変化の影響が低減されたアライメント構成及びアライメント方法を提供する。
【解決手段】アライメント測定構成は、光源、光学システム及び検出器を含む。光源は、複数の波長範囲を含む放射ビームを生成する。光学システムは、放射ビームを受光し、アライメントビームを生成し、アライメントビームをオブジェクト上に位置するマークに誘導し、そのマークから戻るアライメント放射を受光し、受光した放射を伝送する。検出器は、アライメント放射を受光し、アライメントマークの画像を検出し、各々が波長範囲の１つに関連付けられた複数のアライメント信号ｒを出力する。プロセッサは、検出器と通信し、アライメント信号を受信し、アライメント信号の信号品質を決定し、アライメント信号の整列位置を決定し、信号品質、整列位置、及び整列位置を波長範囲とマーク深さ及びマーク非対称性を含むマーク特性とに関連付けるモデルに基づいてアライメントマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】観察画像のコントラストを高くする。
【解決手段】顕微鏡で観察する被観察物を照明する照明装置であって、互いに波長の異なる複数の単波長光源と、照明された被観察物を観察した観察像のコントラストの大きさを検出するコントラスト検出部と、コントラスト検出部により検出されたコントラストに応じて、複数の単波長光源の強度比を設定する強度比設定部とを備える。上記照明装置は、強度比を変化させながら被観察物を照明した場合に、コントラスト検出部が検出したコントラストの大きさを監視して、前記コントラストがより大きくなる強度比を決定する強度比決定部を更に備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して対象物上のアライメントマークの位置を高精度に検出する。
【解決手段】パターン描画装置では、描画対象である基板の対象面上のアライメントマークが描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して撮像部１５にて撮像され、マーク像強度分布３１１として記憶部３１に記憶される。また、パターン描画装置の記憶部３１には、対象面の高さに点光源を配置した場合に撮像部１５にて取得される点像強度分布３１３が記憶されている。マーク像強度分布３１１および点像強度分布３１３を用いて演算部３２の像回復部３２１にて像回復が行われ、アライメントマークを示すマーク強度分布３１２が取得される。これにより、対象物上のアライメントマークの位置が高精度に検出される。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ測定機構を提供すること。
【解決手段】
位置合わせ機構は、広帯域光源と光学系と検出器に接続されたプロセッサを有する。検出器を有する。広帯域光源は、第１及び第２の波長範囲を有する放射ビームを発生する。光学系は、発生された放射ビームを受け取り、位置合わせビームを生成し、そのビームを対象物上に配置されたマークに向け、マークから戻ってきた位置合わせ放射を受け取り、その位置合わせ放射を送り出す。検出器は、その位置合わせ放射を受け取り、対象物上のマークの像を検出し、前記第１及び第２の波長範囲にそれぞれ関連付けられた第１及び第２の位置合わせ信号をそれぞれ生成する。プロセッサは、該位置合わせ信号を受け取り、信号品質表示パラメータを使用して該位置合わせ信号の第１及び第２の信号品質をそれぞれ決定し、その信号品質に基づいて位置合わせマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】被測定物の位置を高精度に検出することができる位置検出装置を提供する。
【解決手段】波長幅を有する光のうち互いに異なる複数の波長の光のそれぞれに対する結像光学系の結像特性を取得する第１の取得部と、前記複数の波長の光のそれぞれに対する前記被測定物の光学像を取得する第２の取得部と、前記結像光学系の結像特性に基づいて前記被測定物の光学像の前記結像光学系に起因する劣化を補正して、前記複数の波長の光のそれぞれに対する前記被測定物の光学像を復元する復元部と、前記複数の波長の光のそれぞれに対する前記被測定物の光学像を合成して、前記複数の波長を含む光に対する前記被測定物の光学像を生成する生成部と、前記被測定物の光学像に基づいて、前記被測定物の位置を決定する決定部と、を有する。 （もっと読む）

【目的】撮像条件調整をシステム化した装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の基板位置撮像装置は、チャンバ３４４と、チャンバ３４４内で基板１０１を支持する支持ピン３４５と、基板１０１のエッジ部分が照明領域に含まれるように基板に向けて照明光を照射する照明装置３４６と、基板１０１のエッジ部分のカラー像を撮像するＣＣＤカメラ３４８と、撮像されたカラー像の３原色の各濃度と予め設定された３原色の各基準濃度とを用いて、所定の関係になるように照明光の光量を制御する制御計算機１３０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、撮像条件の調整作業を効率化することができる。 （もっと読む）

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。
【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。 （もっと読む）

【課題】基板上に少なくとも４本のラインを含むマーク構造を提供する。
【解決手段】ラインは相互に平行で第一方向に延在し、ラインの対間に第一方向とは直角である第二方向に配向されたピッチが配置される。選択されたラインの各対間のピッチは選択されたラインの他の各対間のピッチとは異なる。 （もっと読む）

【課題】基板の下面に位置するアライメントマークの位置を正確に測定する。
【解決手段】リソグラフィアライメント装置は、１０００ナノメートルまたはそれより長い複数の波長で放射を生成するよう構成された放射源と、１つまたは複数の赤外線放射波長を選択するよう構成された制御システ１１と、放射がアライメントマークにより反射された後に、回折格子を有し、回折格子の少なくとも一部は、異なる回折格子周期を有し、放射を検出するよう構成された複数の非結像検出器１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。
【解決手段】 製品の位置はその製品上のアライメントマークを使用して測定される。放射がアライメントマークに向かって伝送され、アライメントマーク内のパターンによって回折される。位置情報は回折された放射の位相関係から決定される。アライメントマークは、それから回折された放射が収集される相互に平行な導電体トラックのセットを備え、そのパターンは連続するトラックの間のピッチが、製品の表面に沿った位置の関数として変化するパターンによって決定される。したがって例えばパターンは、ピッチが第１および第２の値をそれぞれ有する交互となった第１および第２の領域を備える。第１および第２の領域のようなパターンの異なる部分においてトラックは互いに平行なのでより良い測定が可能である。 （もっと読む）

【課題】光学部材が調整されて位置計測に関する条件が変化しても高精度に検出可能な位置検出器、位置検出方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、被検物体に設けられたマークの位置を検出する位置検出器１６であって、撮像部３４と光学系とノイズ取得部３６と補正部３８とをそなえる。撮像部３４は、被検物体の像を撮像する。光学系は、撮像部３４の撮像面に被検物体の像を形成する。ノイズ取得部３６は、光学系に含まれる光学部材２０，２４，４５，４６が調整されたことに応じて光学系及び撮像部３４を用いてマーク以外の領域を撮像しノイズの情報を取得する。補正部３８は、光学系及び撮像部３４を用いて取得されたマークの像をノイズ取得部３６により取得されたノイズの情報を用いて補正する。 （もっと読む）

【課題】より小さいアライメントマーカや異なる波長の放射を使用できるようにし、プロセス変動を受けたマーカを検出できる改良アライメントシステムを提供する。
【解決手段】アライメントセンサは、放射ビームを角度分解スキャトロメータに供給する空間干渉性放射源を含む。瞳面は、放射の半径方向位置が基板での入射角を規定し、角度位置が放射の方位角を規定する。検出器は、基板ターゲットの２次元角度散乱スペクトルを測定できるように、２次元検出器であることが好ましい。アライメントは、スキャトロメータに対して基板をスキャンしている間に、散乱スペクトル内でうなりを検出することによって実行される。 （もっと読む）

【課題】ノイズの効果を低下させ、オーバレイエラーの計算がさらに正確になるオーバレイエラーの代替計算方法を提供する。
【解決手段】複数の回折格子などを含むターゲットマークからの反射放射が、ピクセルのアレイによって検出される。各ピクセルの回折格子のオーバレイエラーが検出され、オーバレイエラーのアレイが割り出される。全ピクセルのオーバレイエラー値を単純に平均するのではなく、フィルタリングが実行される。ピクセルは、オーバレイエラーの検出値又はピクセルの検出強度に従ってフィルタリングすることができる。 （もっと読む）

【課題】 位置決めの正確さおよび／または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第１および第２検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第２オブジェクト上の基準位置に対する第１オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の位置検出装置の光学系の特性計測用のマークを正確に形成すると共に、その光学系の収差等を高精度に補正する。
【課題を解決するための手段】マークを検出する位置検出装置の調整方法であって、調整用のウエハ１１Ａ上で計測方向に凹部３３ａ，３５ｂと凸部３３ｂ，３５ａとが交互に周期的に配列されると共に、互いにその凹部とその凸部とを反転した形状の２個のマークＨＭ１，ＨＭ２を近接して形成しておき、照明系によってマークＨＭ１，ＨＭ２を照明し、検出用光学系を介して計測されるマークＨＭ１，ＨＭ２の間隔に基づいてその照明系の所定の光学特性を調整する。 （もっと読む）

【課題】スキャトロメトリターゲットを提供すること、およびターゲットの回折格子のサイズが低減するのを可能にするが、回折格子のピッチが測定放射ビームの波長よりも小さい場合に、より高次の回折次数を損なわないターゲットの製作方法を提供すること。
【解決手段】ｎ個ごとに１個の構造が構造の残りとは異なる、構造の周期的なアレイを含む、基板上のオーバーレイターゲットが開示される。周期的なアレイは、望ましくは、交錯した２つの回折格子から形成され、アレイ内に非対称性を形成するために、それらの回折格子の一方が他方の回折格子とは異なるピッチを有する。次いで、この非対称性を、オーバーレイターゲットから反射された放射の回折スペクトルを測定することによって測定することができる。非対称性のばらつきが、連続する層上にオーバーレイターゲットがプリントされる基板上の層内に、オーバーレイエラーがあることを示す。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイを測定する方法、及び、オーバーレイ測定に使用するターゲットであって、基板上の所要スペースが少なくかつ測定方向間のクロストークを防ぐターゲットを提供する。
【解決手段】スキャトロメータと共に使用するオーバーレイマーカは、重なり合う二つの２次元格子を有する。この二つの格子は同一のピッチを有するが、上方の格子のデューティ比は、下方の格子のデューティ比に比べて小さい。このようにすることで、Ｘオーバーレイ測定値とＹオーバーレイ測定値の間のクロストークを防ぐことができる。格子は、直接重なり合っていてもよく、あるいは、一方向又は二方向で交互に配置されるようにずれていてもよい。 （もっと読む）