【課題】物体の裏面に設けられた被検マークの位置情報を高精度に検出する。
【解決手段】マーク検出方法は、ウエハの表面の第１のデフォーカス量を計測するステップ３２４と、第１のデフォーカス量に基づいてウエハの表面の合焦を行いつつ、ウエハの表面で反射する波長の光を含むアライメント光を用いてウエハの表面のマークを検出するステップ３２６と、ウエハの表面の第２のデフォーカス量を計測するステップ３４０と、その第２のデフォーカス量を補正して得られるデフォーカス量に基づいてウエハの裏面の合焦を行いつつ、ウエハを透過する波長の光を含むアライメント光を用いてウエハの裏面のマークを検出するステップ３４２と、を含む。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】 アライメント検出系ＡＳを用いてウエハＷ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出され、得られた検出信号が複数のフィルタ処理を用いて解析され（ステップ３０２〜３０６）、その解析結果に基づいて複数のフィルタ処理の処理条件を含む複数の照明条件及び結像条件以外の検出条件が最適化される（ステップ３０８〜３１４）。これにより、アライメントマークの検出条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】マークごとの変化の影響が低減されたアライメント構成及びアライメント方法を提供する。
【解決手段】アライメント測定構成は、光源、光学システム及び検出器を含む。光源は、複数の波長範囲を含む放射ビームを生成する。光学システムは、放射ビームを受光し、アライメントビームを生成し、アライメントビームをオブジェクト上に位置するマークに誘導し、そのマークから戻るアライメント放射を受光し、受光した放射を伝送する。検出器は、アライメント放射を受光し、アライメントマークの画像を検出し、各々が波長範囲の１つに関連付けられた複数のアライメント信号ｒを出力する。プロセッサは、検出器と通信し、アライメント信号を受信し、アライメント信号の信号品質を決定し、アライメント信号の整列位置を決定し、信号品質、整列位置、及び整列位置を波長範囲とマーク深さ及びマーク非対称性を含むマーク特性とに関連付けるモデルに基づいてアライメントマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光装置においてウエハ上に形成された計測用マークを検出する。
【解決手段】マークが形成されたウエハの表面に撥液膜を形成し（ステップ６００）、該撥液膜を介してマークが形成されたウエハ上の領域に光を照射し、該光の物体からの戻り光を受光して前記領域を撮像し（ステップ６０８）、該撮像結果からマークの形成状態を検出する（ステップ６１０）。このため、検出に際して液体の付着が問題とならず、常時液浸タイプの露光装置においても、結像式アライメントセンサ等を用いてマークの形成状態の高精度な検出を、支障なく行うことが可能となる。さらに、撥液膜の膜厚等に応じて検出光の波長帯域を決定し（ステップ６０２）、その波長の検出光を用いて前記領域を撮像することにより、撥液膜による薄膜干渉の影響を受けることなく、マークの形成状態を正確に検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】安価に、精度よく基板及び露光マスクの位置合わせ行なうことができる近接露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 被露光対象ワークＷを載置して搬送する搬送手段４と、ワークＷに近接対向させて露光マスク３１と、ワークＷ上のアライメントマークＷＢと露光マスク３１上のアライメントマーク３１ｄと、を同時に撮像する撮像手段５とを備え、撮像手段５により撮像された、アライメントマークＷＢとアライメントマーク３１ｄの夫々の画像に基づいて、ワークＷと露光マスク３１との位置合わせをしながら露光する近接露光装置であって、撮像手段５とワークＷまたは露光マスク３１との間に配設されて、撮像手段５とワークＷまたは露光マスク３１との間の光学距離（Ｌ１またはＬ２）を不連続に可変にする光学部材５２ａを有する光学距離補正手段５２を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
原版または基板のファインアライメントでの先行確認計測が不要で高スループットなアライメント検出系およびそのアライメント検出系を有する露光装置を提供する。
【解決手段】
被検物体への照明光を照射する照明光学系と、前記被検物体から反射される前記反射光を集光して、前記被検物体の第１の結像倍率の像を形成する第１の光学系、前記第１の結像倍率よりも高い前記被検物体の第２の結像倍率の像を形成する第２の光学系、前記第１の光学系と前記第２の光学系とを切替える切替え手段、前記第１の結像倍率の像を光電変換する第１の像検出手段および前記第２の結像倍率の像を光電変換する第２の像検出手段から成る結像光学系と、を有し、前記第１の結像倍率の像の視野での第１の計測の情報を基に前記第２の結像倍率の像の視野での第２の計測を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被測定物の位置を高精度に検出することができる位置検出装置を提供する。
【解決手段】波長幅を有する光のうち互いに異なる複数の波長の光のそれぞれに対する結像光学系の結像特性を取得する第１の取得部と、前記複数の波長の光のそれぞれに対する前記被測定物の光学像を取得する第２の取得部と、前記結像光学系の結像特性に基づいて前記被測定物の光学像の前記結像光学系に起因する劣化を補正して、前記複数の波長の光のそれぞれに対する前記被測定物の光学像を復元する復元部と、前記複数の波長の光のそれぞれに対する前記被測定物の光学像を合成して、前記複数の波長を含む光に対する前記被測定物の光学像を生成する生成部と、前記被測定物の光学像に基づいて、前記被測定物の位置を決定する決定部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】露光光として複数波長を用いた場合でも、発生した色収差がＴＴＬ計測において計測誤差要因とならず、レチクルとウエハの相対位置合わせを好適に行える露光技術の実現。
【解決手段】露光光源からの露光光で原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板上に投影する投影光学系と、前記露光光を計測光として用いて前記投影光学系を介して前記原版と前記基板の相対位置を計測する計測手段と、を有し、前記計測手段による計測結果に基づき前記原版と前記基板の位置合わせを行い、複数の波長又は広帯域の波長の前記露光光を用いて前記基板を露光する露光装置において、前記計測手段は、前記原版と前記基板の相対位置を計測する際に、前記計測光としての前記露光光の波長を特定の波長又は狭帯域の波長に切り換える。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度および／または耐久性の改良されたリソグラフィ装置用アライメント・システムを提供すること。
【解決手段】 リソグラフィ装置用アライメント・システムは、第１の波長および第２の波長のアライメント放射の供給源、第１の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第１の波長チャネルおよび第２の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第２の波長チャネル、および検出システムと連絡した位置決定ユニットを備える。位置決定ユニットは、第１の波長チャネルからの情報または第２の波長チャネルからの情報または組み合わせた第１および第２の波長チャネルからの情報を処理して、組み合わされた情報に基づいて、第２の物体上の基準位置に対して第１の物体のアライメント・マークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハによらず最適なコントラストを得ること。
【解決手段】波長の異なる発光ダイオードＬＤ１〜ＬＤ３のうち少なくとも１つを選択し、選択した発光ダイオードＬＤを点灯するとともにその光量を調整する光源制御回路として機能する増幅回路と制御装置を備え、光源制御回路によって選択された発光ダイオードＬＤの発光による照射光を半導体ウェハ１８と半導体ウェハ１８に重ねるように配置されたマスク４０の照明エリアに対して照射する。半導体ウェハ１８とマスク４０に対して波長の異なる光を照射できるとともに、照射光の光量を調整することができるので、半導体ウェハ１８の種類によらずアライメント精度のばらつきを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定機構を提供すること。
【解決手段】位置合わせ機構は、広帯域光源と光学系と検出器に接続されたプロセッサを有する。検出器を有する。広帯域光源は、第１及び第２の波長範囲を有する放射ビームを発生する。光学系は、発生された放射ビームを受け取り、位置合わせビームを生成し、そのビームを対象物上に配置されたマークに向け、マークから戻ってきた位置合わせ放射を受け取り、その位置合わせ放射を送り出す。検出器は、その位置合わせ放射を受け取り、対象物上のマークの像を検出し、前記第１及び第２の波長範囲にそれぞれ関連付けられた第１及び第２の位置合わせ信号をそれぞれ生成する。プロセッサは、該位置合わせ信号を受け取り、信号品質表示パラメータを使用して該位置合わせ信号の第１及び第２の信号品質をそれぞれ決定し、その信号品質に基づいて位置合わせマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハのプロセス条件が変化しても、重ね合わせ測定値を高い信頼性で求めることができる重ね合わせ測定装置を提供する。
【解決手段】 基板１１の異なる層に形成された第１マークと第２マークの像を形成する結像光学系１９〜２５と、基板と結像光学系との相対位置を調整し、第１マークと第２マークの焦点合わせを行う手段１２,２７,２８と、焦点合わせの後、相対位置のオフセットおよび／または結像光学系の像面に入射する光の波長域を変化させて光学条件を順に設定する手段１２,３Ｂ,２７と、各光学条件で第１マークと第２マークの画像を取り込み、該画像から重ね合わせずれ量を求める手段２７と、オフセットが同じで波長域が異なる複数の光学条件での重ね合わせずれ量のばらつきを、各オフセットごとに求め、該ばらつきが最も小さいオフセットをレシピに登録すべき情報として決定する手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 画像から求めた重ね合わせずれ量が正しいか否かの判断を行うことができる重ね合わせ測定装置を提供する。
【解決手段】 基板１１の異なる層に形成された第１マークと第２マークの画像を測定波長域の光によって取り込み、該測定波長域での画像に基づいて、第１マークと第２マークとの重ね合わせずれ量を求める第１計測手段(１３〜２７)と、第１マークと第２マークの画像を測定波長域とは異なる評価波長域の光によって取り込み、該評価波長域での画像に基づいて、第１マークと第２マークとの重ね合わせずれ量を求める第２計測手段(１３〜２７)と、第１計測手段が測定波長域で求めた重ね合わせずれ量と、第２計測手段が評価波長域で求めた重ね合わせずれ量とに基づいて、測定波長域での重ね合わせずれ量の信頼性に関わる指標を算出する算出手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ＡＦ用の結像光学系に色収差があっても、基板から発生する光の波長特性に応じたフォーカス誤差を確実に低減できるオートフォーカス装置を有する結像装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも対物レンズ１９を介して基板１１を照明する手段(１３〜１９)と、基板から発生する光Ｌ２を少なくとも対物レンズを介して受光し、予め定めた複数の波長帯域のうち各波長帯域ごとに、基板と対物レンズとの相対位置に応じたフォーカス信号を生成する手段(４１〜４９)と、各波長帯域ごとに生成されるフォーカス信号どうしのオフセット情報を予め記憶する手段２７と、少なくとも１つの波長帯域におけるフォーカス信号とオフセット情報とに基づいて、基板と対物レンズとの相対位置を調整する手段２７とを備える。 （もっと読む）