【課題】改良された自由パラメータ選択方法でスペクトルをモデル化する方法を提供する。
【解決手段】分光器のモデルに使用される１セットのパラメータは、自由パラメータ及び固定パラメータを含む。第一スペクトルを生成するために、パラメータの第一セットの値が設定され、モデルが使用される。固定パラメータの１つの値が変更され、第二スペクトルが生成される。次に、パラメータの１セットの値を生成するために、分光器のモデルの逆数が第二スペクトルに適用され、この値は、１つ又は複数の自由パラメータを除いて、第一セットの値と同じである。自由パラメータが大幅に変化している場合、固定パラメータは自由パラメータに指定される。 （もっと読む）

【課題】生成物層スタック上にプリントされたオブジェクトのプロファイルを測定する際に、スタック中の生成物層によって再構成式に組み込まれる自由度の数を低減、または、排除することができる検査装置、リソグラフィ装置等を提供する。
【解決手段】オブジェクトプロファイルの測定に影響を与える１つ以上の生成物層の不明なパラメータが生じないように、層上にあるスキャトロメトリオブジェクトのプロファイルを測定する前に１つ以上の生成物層の厚さが測定される。実施形態においては、直前に露光された生成物層の自由度のみが各測定工程において不明な状態となるように、複数の生成物層における各層が、露光される際に測定される。複数の生成物層における各層が測定された後で、かつスキャトロメトリオブジェクトが層の最上部にあるとき、該スキャトロメトリオブジェクトの自由度のみが不明であり、オブジェクトのプロファイルのみ測定する必要がある。 （もっと読む）

【課題】多数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置及び位置調整測定方法の提供。
【解決手段】リソグラフィ装置は、第１の検出器によって対象物に配置された第１の位置調整用マークを検出し、第１の位置調整信号を生成し、第１の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、第２の検出器によって同じ第１のマークを検出し、第２の位置調整信号を生成し、第１の検出器から第１の位置調整信号を受信し、第１の位置調整信号に基づき少なくとも第１のマークの第１の位置を算出し、第２の検出器から第２の位置調整信号を受け、第２の位置調整信号に基づき少なくとも第１のマークの別の第１の位置を算出することによって、同じマークに関する位置調整測定を行うために使用される、複数の異なる位置調整装置を有する。 （もっと読む）

【課題】高精度かつ短時間に、マークの位置情報を検出する。
【解決手段】マーク５０Ｍに含まれるマークｍ０〜ｍ５のうちいずれか３つのマークの組合せからなる指標パターンＴ１等は、マーク５０Ｍの中心付近に配置されているので、マーク検出系４２の撮像視野ｆｖがマーク５０Ｍの領域内にある場合、その撮像視野ｆｖ内に、指標パターンＴ１等のうちの少なくとも１つのマークが存在するようになる。したがって、その指標パターンをマーク５０Ｍの撮像結果から検出することにより、撮像視野ｆｖが、マーク５０Ｍのどの辺りを捉えているのかを把握することが可能となる。この指標パターンを基に、Ｌ／ＳパターンＬＳｘ，ＬＳｙから、マーク５０Ｍの位置を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】液浸結像系の測定に適し、且つ浸漬液による測定精度の低下を回避する測定システムを提供する。
【解決手段】結像系の物体面上に配置されたパターンを結像系の像面上に結像するために設けられた光学結像系であって、結像系の物体側及び像側の少なくとも一方の上に配置された浸漬液によって結像することができる液浸系として構成される光学結像系の光学測定用の測定システムにおいて、測定構造体を有する少なくとも１つの構造体キャリアであって、浸漬液の領域内に配置されるように設けられ、且つ保護システムを割り当てられ、それにより、浸漬液によって引き起こされる劣化に対する測定構造体の耐性を高めるようにした構造体キャリアを備える、測定システム。 （もっと読む）