【課題】マイクロレンズアレイと基板との間に異物が入り込むことを防止することができ、基板の異常接近及び前記異物によりマイクロレンズに傷がつくことを防止できる露光装置及び光学部材を提供する。
【解決手段】透明基板１の上方に複数個のマイクロレンズ３ａが形成されたマイクロレンズアレイ３が配置され、このマイクロレンズアレイ３はその端面６でマスク４に接合されている。マスク４には、マイクロレンズアレイ３の両側にアライメントマーク台１２が接合されており、このアライメントマーク台１２の基板１との対向面にアライメントマーク１１が形成されている。アライメントマーク台１２と基板１との間の間隔は、マイクロレンズアレイ３と基板１との間隔よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】縦置き又は横置きで基板を載置可能であるとともに、センサの個数を削減することができるプリアライメント装置を提供する。
【解決手段】プリアライメント装置１２は、基板Ｗの長辺をＸ方向に沿って縦置きに配置可能であるとともに、基板Ｗの長辺をＹ方向に沿って横置きに配置可能な基板保持部２２と、基板保持部２２に縦置き又は横置きに配置された基板の基準辺を検出可能な複数のエッジセンサ２７と、を備える。そして、エッジセンサ２７の少なくとも一つは、縦置きに配置された基板Ｗの基準辺及び横置きに配置された基板Ｗの基準辺を検出するように、回転駆動可能に構成される共用センサ３０である。 （もっと読む）

【課題】センサ及び／またはセンサ用のターゲット上に残された液滴の潜在的な弊害が低減されるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置が開示される。この液浸リソグラフィ装置は、表面と、センサ及び／またはセンサ用のターゲット、センサ及び／または液浸液に対して疎液性の第１領域と液浸液に対して親液性の第２領域とを有するターゲット、から選択された少なくとも一つと、を有するテーブルと、センサ及び／またはターゲット上の液体を移動させるよう構成された液体移動装置であって、ガス流を第１領域および第２領域に導くよう構成された少なくとも一つのガス出口開口部を備える。第１領域に導かれたガス流の一部の特性は、第２領域に導かれたガス流の一部の特性と異なる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。基板１０が露光及び位置合わせユニット１５の真下で走査を受けるとき、基板のそれぞれの部分が最初に検出器ユニット１６の下方を通過し、次いで露光ユニット１７の下方を通過する。したがって、基板１０のそれぞれの部分に関して検査器ユニット１６によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット１７に伝達可能であり、基板が露光ユニット１７の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された裏面側マーク及び表面側マークを検出することができる検出装置を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンが転写される基板の表面側及び裏面側のそれぞれに形成された表面側マーク及び裏面側マークを検出する検出装置であって、前記基板を透過する波長を有する第１の光と前記基板を透過しない波長を有する第２の光とを射出する光源と、光電変換素子と、前記光源から射出した第１の光を前記基板の表面側から前記裏面側マークに照射して前記裏面側マークで反射した第１の光により前記裏面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成すると共に、前記光源から射出した第２の光を前記基板の表面側から前記表面側マークに照射して前記表面側マークで反射した第２の光により前記表面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成する光学系と、を有することを特徴とする検出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】照明開口絞りと結像開口絞りとの位置ずれの影響を低減する。
【解決手段】瞳面に配置させた第２照明開口絞り４Ｂを通過した照明光を用いて結像系の結像開口絞りＡＳの像を第２像検出素子に撮像させ、次に、回転盤４を回転させて瞳面に第１照明開口絞り４Ａを配置させ、第１照明開口絞りを通過した照明光を用いて第１照明開口絞りの像を第２像検出素子４１に撮像させ、撮像された結像開口絞りの像と第１照明開口絞りの像とに基づいて、結像開口絞りに対する第１照明開口絞りの位置ずれの影響を低減するように第１照明開口絞りの補正処理を行う。位置検出装置は、補正処理が行われた前記第１照明開口絞りを通過した照明光を用い、第１像検出素子１１により検出されたマークの像の位置に基づいて被検物体の位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】
原版または基板のファインアライメントでの先行確認計測が不要で高スループットなアライメント検出系およびそのアライメント検出系を有する露光装置を提供する。
【解決手段】
被検物体への照明光を照射する照明光学系と、前記被検物体から反射される前記反射光を集光して、前記被検物体の第１の結像倍率の像を形成する第１の光学系、前記第１の結像倍率よりも高い前記被検物体の第２の結像倍率の像を形成する第２の光学系、前記第１の光学系と前記第２の光学系とを切替える切替え手段、前記第１の結像倍率の像を光電変換する第１の像検出手段および前記第２の結像倍率の像を光電変換する第２の像検出手段から成る結像光学系と、を有し、前記第１の結像倍率の像の視野での第１の計測の情報を基に前記第２の結像倍率の像の視野での第２の計測を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ投影露光用の装置（１０）は、結像光線（１５）によってマスクパターン（１６）を投影することにより基板（２０）の表面（２１）にマスクパターン（１６）を結像するための光学系（１８）を備え、光学系（１８）は、ＥＵＶおよび／または高周波数の波長領域で作動するように構成されている。測定光線（３４）を案内するための測定光路（３６）を備え、光学系（１８）の少なくとも２つの光学素子（２２）が測定光路に含まれ、測定光路（３６）は、光学系（１８）が装置（１０）の作動時に測定光線（３４）によって部分的にのみ照射されるように、光学系（１８）の内部に延在している。
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【課題】 アライメントマークの検出時間を短縮すること。
【解決手段】 アライメントマークの検出方法において、今回の基板８のアライメントマークＭ１を検出するときに、ＣＣＤカメラ３７の撮像領域を、前回の基板８のマーク存在領域Ｒに最初に位置付けるように移動装置４１を制御し、前回の基板８のマーク存在領域ＲでアライメントマークＭ１を検出できなかったときに、ＣＣＤカメラ３７の撮像領域を、このマーク存在領域Ｒを出発点とし、かつ、検出範囲Ｂ内におけるサーチテーブルＣに従う撮像順序で各撮像領域に順に位置付けるように移動装置４１を制御するもの。 （もっと読む）

【課題】 位置決めの正確さおよび／または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第１および第２検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第２オブジェクト上の基準位置に対する第１オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】物体上の複数のマークを効率的に、かつ高精度に検出する。
【解決手段】少なくとも１軸方向に関する検出領域が互いに異なる複数のアライメント系で、少なくともその１軸方向に関して互いに異なる位置に配置されたウエハ上のマークを検出するマーク検出方法であって、複数のアライメント系の検出領域にそれぞれウエハ上のマークを移動するステップ３１５と、ウエハをＺ方向にスキャンして複数のアライメント系の検出信号及びデフォーカス量に対応するフォーカス信号を取り込むステップ３１６と、複数のアライメント系の検出信号とフォーカス信号とからフォーカス信号のオフセットを求めるステップ３１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】放射線の位置合わせビームを供給する照明システムを有し、位置合わせビームの反射から位置データが導出される、光学位置評価装置および方法を提供する。
【解決手段】基板を基板テーブル上に支持し、投影システムを使用して、位置合わせビームを基板の目標部分に投影する。位置決めシステムは、基板と投影システムとの相対運動を引き起こす。レンズのアレイは、アレイの各レンズが位置合わせビームの個々の部分を目標部分の個々の一部に集束するように配置構成される。検出器のアレイは、アレイの各検出器が、アレイの個々のレンズを通して基板から反射した光を検出し、個々のレンズを通して基板からそれに反射した光の強度を表す出力を提供する。プロセッサは、基板に対するレンズアレイの位置を表すデータを検出器の出力から導出するために、検出器の出力に接続される。 （もっと読む）

【課題】光学部材を駆動することなく、被検面のパターン又は反射率の影響を低減させて、被検面の法線方向の位置情報を検出する。
【解決手段】レチクルＲの下面上にピンホールＡ１〜Ａ９の像Ｂ１〜Ｂ９を形成する送光光学系３０Ａと、その下面からの反射光を受光してピンホールの像Ｃ１〜Ｃ９を形成する受光光学系３０Ｂと、像Ｃ１〜Ｃ９をピンホールＤ１〜Ｄ９を通して検出する光電センサ４４と、レチクルＲを走査するステージと、レチクルＲの走査によって得られる光電センサ４４の検出信号に基づいて、レチクルＲの下面の一連の計測点のＺ方向の位置を求めるＲＡＦ制御系５２Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】残留デフォーカスによる測定誤差を示さないか、またはより小さい程度に示す角度分解スキャトロメータおよびスキャトロメータ測定方法を提供する。
【解決手段】角度分解スキャトロメータに、瞳面の像の中に延びる少なくとも１つの掩蔽部を含んだ開口プレートが設けられている。ターゲットパターンのデフォーカス値は、掩蔽部の像の最も内部の点と瞳像の名目上の中心との間の半径方向距離から決定される。複数の異なるデフォーカス位置で基準板を使用して複数の正規化用の像を取り込み、さらにターゲットパターンの測定スペクトルから適切な正規化を引くことによって、デフォーカスエラーは補償される。 （もっと読む）

【課題】基板の位置情報を精確に取得して、基板を良好に効率良く露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板の位置情報を計測用の第１液体を介して取得するための第１光学部材と、露光ビームを射出する第２光学部材と、基板を保持して、第１光学部材と対向する第１位置及び第２光学部材と対向する第２位置を含む所定領域内を配置可能な第１可動部材と、第１位置に移動可能な第１液体保持部材とを備え、第１可動部材、及び第１液体保持部材の少なくとも一方を第１位置に配置することによって、第１可動部材、第１可動部材に保持された基板、及び第１液体保持部材の少なくとも一つと、第１光学部材との間に、第１液体を保持可能な第１空間を形成し続ける。 （もっと読む）

【課題】 グローバルアライメント、フォーカスマッピングの高精度の同時計測を行える露光装置、これを用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 上記露光装置は、感光剤が塗布されたウェハ５の位置を計測するためのアライメント検出系１７と、アライメント検出系１７とは分離されて構成され、露光に先立ってウェハ５の高さ形状を予め測定するフォーカス検出系１６とを有する。フォーカス検出系１６がウェハ５の高さ形状の測定を行っている際に、アライメント検出系１７が同時にウェハ５の位置合わせ計測を行う。 （もっと読む）

【課題】角度分解スペクトロスコピリソグラフィを特徴付けるための装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】基板のすべての部分を検査するために、基板テーブルは回転移動および直線移動することができる。さらに、ディテクタは回転移動することができる。これにより、基板表面のすべての部分を該基板に平行な面のすべての角度から検査することが可能となる。直線移動を少なくすることが必要とされるため、当該装置は必要とする空間が小さく、かつ振動も小さい。 （もっと読む）

【課題】回折アライメントビームを偏向させるためのより強固で、簡単かつ安価な方法を提供する。
【解決手段】アライメントツールは、基板Ｗ上のアライメントマークＰ１をアライメントビームで照らし、反射スペクトルを測定する。この反射スペクトルは基準マークＧ９１、Ｇ９３、Ｇ９６と比較され、ミスアライメントの有無を判断する。アライメントマークＰ１から基準マークＧ９１、Ｇ９３、Ｇ９６上へとアライメントビームを回折することによってもたらされたサブビームを偏向するためにブレーズ型サブ波長格子１０を使用する。 （もっと読む）

【課題】高精度の位置決めを実現する。
【解決手段】放射が光学アーム１０ａ，１０ｂの中を通るように配された第１の窓および第２の窓を含む光学システムが、基板テーブルに設けられる。少なくとも２つのミラー１２が、前記光学アーム１０ａ，１０ｂ内に設けられ、かつ前記窓を通過した放射を反射するように配される。少なくとも２つのレンズ１６，１８が、前記ミラー１２から反射された放射を受けるように位置付けられ、前記第１の窓には第１のアライメントマークＷＭ１が設けられ、かつ前記少なくとも２つのミラー１２および前記少なくとも２つのレンズ１６，１８は、前記第２の窓に前記第１のアライメントマークの像２０ａを形成するように配される。第２のアライメントマークＷＭ１が、前記第２の窓の中に、または前記第２の窓に隣接した位置にある前記基板テーブルの中に設けられる。 （もっと読む）

【課題】スループットの低下を防止しつつ重ね合わせ精度を向上させることができる露光システム及び露光方法、並びに当該露光システム又は露光方法を用いたデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光システムは、ウェハＷを保持するウェハホルダＷＨを載置するウェハステージＷＳＴを備え、レチクルＲのパターンＤＰをウェハＷ上に露光する露光ユニット１と、計測ユニット２と、搬送装置３とを含んでなる。計測ユニット２は、複数のセンサ３１を備えており、露光ユニット１のウェハステージＷＳＴに保持される前のウェハホルダＷＨに保持されたウェハＷ上の互いに異なる位置に形成されている複数のアライメントマークＡＭを複数同時に計測する。搬送装置３は、ウェハＷを保持するウェハホルダＷＨを計測ユニット２と露光ユニット１との間で搬送する。 （もっと読む）