【課題】基板に形成された裏面側マーク及び表面側マークを検出することができる検出装置を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンが転写される基板の表面側及び裏面側のそれぞれに形成された表面側マーク及び裏面側マークを検出する検出装置であって、前記基板を透過する波長を有する第１の光と前記基板を透過しない波長を有する第２の光とを射出する光源と、光電変換素子と、前記光源から射出した第１の光を前記基板の表面側から前記裏面側マークに照射して前記裏面側マークで反射した第１の光により前記裏面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成すると共に、前記光源から射出した第２の光を前記基板の表面側から前記表面側マークに照射して前記表面側マークで反射した第２の光により前記表面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成する光学系と、を有することを特徴とする検出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との位置合わせを安定して処理可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 アライメントマークを使用してマスクに対し処理基板を移動させて当該マスクと処理基板との位置合わせをして露光を行う技術である。画像でのマスク側のアライメントマークＭ２の画素数が、予め設定した基準閾値と一致若しくは当該基準閾値以上となるように撮像装置１６の焦点を調整してマスク側の基準位置を演算する。同様にして、基板側の基準位置を演算する。上記演算したマスク側の基準位置を基準として、マスク側の基準位置と処理基板側の基準位置とが一致若しくは予め設定した許容誤差内となるまで、上記処理基板側のアライメントマークＭ１の画像を取得して当該処理基板側の基準位置を演算する処理を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して対象物上のアライメントマークの位置を高精度に検出する。
【解決手段】パターン描画装置では、描画対象である基板の対象面上のアライメントマークが描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して撮像部１５にて撮像され、マーク像強度分布３１１として記憶部３１に記憶される。また、パターン描画装置の記憶部３１には、対象面の高さに点光源を配置した場合に撮像部１５にて取得される点像強度分布３１３が記憶されている。マーク像強度分布３１１および点像強度分布３１３を用いて演算部３２の像回復部３２１にて像回復が行われ、アライメントマークを示すマーク強度分布３１２が取得される。これにより、対象物上のアライメントマークの位置が高精度に検出される。 （もっと読む）

【課題】
撮像素子の出力信号の評価値に複数のピークが検出された場合であっても、フォーカス位置のばらつきを抑制するようにした技術を提供する。
【解決手段】
撮像素子と撮像素子の撮像面に被検物体の像を形成する光学系とを有する光学位置検出装置のフォーカス位置を検出する位置検出方法であって、光学系の光軸方向における被検物体の位置と撮像素子の出力信号の評価値との関係を求め、当該求めた関係において評価値のピークが複数ある場合、基準フォーカス位置に近い位置のピークを選択し、当該選択したピークの位置をフォーカス位置として検出する。 （もっと読む）

【課題】光学部材が調整されて位置計測に関する条件が変化しても高精度に検出可能な位置検出器、位置検出方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、被検物体に設けられたマークの位置を検出する位置検出器１６であって、撮像部３４と光学系とノイズ取得部３６と補正部３８とをそなえる。撮像部３４は、被検物体の像を撮像する。光学系は、撮像部３４の撮像面に被検物体の像を形成する。ノイズ取得部３６は、光学系に含まれる光学部材２０，２４，４５，４６が調整されたことに応じて光学系及び撮像部３４を用いてマーク以外の領域を撮像しノイズの情報を取得する。補正部３８は、光学系及び撮像部３４を用いて取得されたマークの像をノイズ取得部３６により取得されたノイズの情報を用いて補正する。 （もっと読む）

【課題】上下方向の変動による基準マークの位置検出誤差を、スループットを低下させずに補正する。
【解決手段】アライメントユニット２４のカメラ２５に、基板上面の合焦位置からの変動量Δを計測するＺ方向センサ２６を設ける。基準マークの撮影画像を補正する歪み補正部５８として、上記合焦位置からの変動量Δに対応する歪み補正データを、複数の変動量Δについて記憶した補正データ記憶部５９と、Ｚ方向センサ２６の計測値に応じて適した歪み補正データを選択もしくは算出して決定する補正データ決定部６０と、補正データ決定部６０によって決定された歪み補正データを用い、撮影画像の歪みを補正する画像補正処理部６１とを設ける。これにより、上下方向の変動による基準マークの位置検出誤差を、基板を上下動させずに補正することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィック装置、位置合せ装置、デバイス製造方法、位置合せ方法及び装置を変換する方法を提供する。
【解決手段】検出器２２によって投影ビームＰＢ若しくは位置合せビームの光路内の液体の量が検出され、次にコントローラ２１によって、複数の補償光エレメントの中から、投影ビーム若しくは位置合せビームを基板Ｗの表面に集束させるために必要な光エレメント１０が決定される。適切な光エレメント１０が、それぞれ投影システムＰＬ若しくは投影位置合せシステムの最終エレメントとして投影ビーム若しくは位置合せビームの光路に直接配置される。 （もっと読む）

【課題】検出光学系で検出した基板上のマークの信号から検出光学系による劣化を修復し、修復されたマークの信号を用いてマークの位置を正確に検出する。
【解決手段】基板上のマークの位置を計測する計測装置を、基板上のマークを信号として検出する検出光学系と、検出光学系の伝達特性を記憶する記憶部と、
検出光学系で検出したマークの信号を伝達特性に基づいて補正する演算部とで構成する。 （もっと読む）

【課題】環境変化に対する光学性能の変化を低減することができる結像光学系の設計方法を提供する。
【解決手段】第１の焦点距離ｆ１を有する第１のレンズ群と、第２の焦点距離ｆ２を有する第２のレンズ群とを有し、物体面のパターンの像を像面上に結像する結像光学系の設計方法であって、結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気又は大気雰囲気から真空雰囲気に環境変化した場合において、第１の焦点距離ｆ１と第２の焦点距離ｆ２との比ｆ１／ｆ２に応じて生じるピント位置差Δｄ１を、ａ１及びｂ１を定数としてΔｄ１＝ａ１・（ｆ１／ｆ２）＋ｂ１と定義したときに、定数ａ１及びｂ１を求めるステップと、環境変化によるピント位置差の許容値をΔｄ_Ｔ１として、第１の焦点距離ｆ１と第２の焦点距離ｆ２との比ｆ１／ｆ２を、ｆ１／ｆ２＝（Δｄ_Ｔ１−ｂ１）／ａ１に基づいて決定するステップとを有することを特徴とする設計方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】非対称な色ムラを有するようなマークの位置を計測してもマーク位置の計測誤差を低減することができ、これにより、製造原価を上げることなく、アライメント装置毎の性能を均一化してアライメント装置間での機差を低減すること。
【解決手段】照明波長を変えて、測定マークのサイズを計測し、波長帯域によるマークサイズの変化量にもとづいて、結像手段の結像性能を調整する。具体的には、結像光学系に於ける第１リレーレンズの空気間隔を変化させて、結像光学系の倍率色収差を調整する。 （もっと読む）

【課題】 暗視野照明による位相パターンの像から観察光学系のコマ収差またはケラレを正確に検出することができる観察光学系の検査装置を提供する。
【解決手段】 被検物Ｗを暗視野照明する照明光学系と、前記被検物Ｗからの光束を集光して前記被検物の像を形成する結像光学系とを有する観察光学系の検査装置において、前記被検物Ｗに形成された位相パターンＷＭを前記照明光学系により暗視野照明し、前記結像光学系を介して形成された前記位相パターンＷＭの像を光電検出する光電検出手段１６，１７と、前記光電検出手段１６，１７から得られる出力の非対称性からコマ収差または前記観察光学系のケラレを検出する検出手段３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 被投影基板を的確に位置合わせをして被投影基板上にパターンを形成することができる簡素な構成な投影露光装置を提供する。
【解決手段】 アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成でありながら、環境変化に対する光学性能の変化を低減することができる結像光学系、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 物体面のパターンの像を像面上に結像する結像光学系であって、真空雰囲気での結像倍率αを有し、第１の結像位置に結像する第１の結像光学系と、真空雰囲気での結像倍率βを有し、第２の結像位置に結像する第２の結像光学系とを有し、前記結像光学系が配置される環境が、真空雰囲気から大気雰囲気、又は、大気雰囲気から真空雰囲気に変化した場合において、前記第１の結像位置が光軸に沿って変化する方向と、前記第２の結像位置が光軸に沿って変化する方向とが、互いに逆方向であることを特徴とする結像光学系を提供する。 （もっと読む）

【課題】 波長に依存する測定誤差を最小にすることができる位置測定装置を提供すること。
【解決手段】 被検物１５に照明光を照射する照明光学系１と、前記被検物の像を撮像装置２５に結像する結像光学系２と、前記撮像装置からの信号を処理する画像処理装置３を有する位置測定装置において、複数の狭波長帯域の光それぞれを前記被検物にテレセントリックに照明する前記狭波長帯域の光毎の専用照明光学系１Ｒ、１Ｇ、１Ｂと、前記被検物からの前記複数の狭波長帯域の光それぞれをテレセントリックに結像する前記狭波長帯域の光毎の専用結像光学系２Ｒ、２Ｇ、２Ｂを有し、前記専用照明光学系を選択する照明光学系選択手段２７と前記専用結像光学系を選択する結像光学系選択手段２６を有する位置測定装置。 （もっと読む）

【課題】使用波長帯域を光学フィルタによって切り替え可能で、かつＣＣＤと光学系とに起因して発生する固定パターンノイズを使用波長帯域に合わせて補正可能な重ね合わせ画像計測装置を提供する。
【解決手段】基板６上の被検マーク７を照明する照明光学系と、マーク７からの反射光を結像する結像光学系と、マーク７の像を撮像する撮像手段１０と、前記照明光学系或いは前記結像光学系に配置されており、透過させる光の波長帯域が異なる複数の光学フィルタを備え当該複数の光学フィルタのうちの１つを光路内に選択的に配置する波長帯域選択手段２と、波長帯域ごとにシェーディングを補正する補正データを記憶している記憶手段Ｗ，Ｒ，Ｇ，Ｂと、撮像手段１０で撮像されたマーク７の画像を前記補正データに基づき補正する画像演算手段１１とを有し、画像演算手段１１で得られた補正画像によりマーク７位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】計測精度を維持してウエハアライメントのスループット性を向上させた位置計測方法等を提供すること。
【解決手段】Ｚステージ１８をフォーカス方向における第１移動範囲（ラフ計測範囲）内で、複数の計測箇所に移動・停止させて、各計測箇所でアライメントマークＡＭ１、ＡＭ２の撮像信号を取得するラフ計測を行い（Ｓ１０２）、このラフ計測結果から第１移動範囲よりも狭い第２移動範囲（ファイン計測範囲）を絞り込み（Ｓ１０４）、この絞り込んだ第２移動範囲内において、Ｚステージ１８を、ラフ計測時よりも短い間隔の複数の計測箇所に移動・停止させて、各計測箇所でアライメントマークＡＭ１、ＡＭ２の撮像信号を取得するファイン計測を行い（Ｓ１０５）、このファイン計測により最適フォーカス位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、リソグラフィ装置およびその方法、およびデバイス製造方法に関する。特に、リソグラフィ装置でのパターン形成において、整合マーカーを整合させるためにＴＩＳ測定を使用することで生じる欠点を解消し、簡単に高精度の整合を可能にする技術を提供する。
【解決手段】本発明の一実施例によれば、第一の整合マーカーを第二の整合マーカーに対して整合させる方法が提供され、この方法によればレンズが第一および第二の整合マーカーの間に配置される。整合ビームが与えられ、この整合ビームはこのレンズを通して第一の整合マーカーを第二の整合マーカー上に結像させる。少なくとも一つの第一および第二の整合マーカーの相対位置を測定するための測定装置として、レンズ干渉計が備えられる。このレンズ干渉計により相対位置を測定して、測定した相対位置に基づいて少なくとも一つの第一および第二の整合マーカーの位置を整合させる。 （もっと読む）

【課題】 ＡＦ用の結像光学系に色収差があっても、基板から発生する光の波長特性に応じたフォーカス誤差を確実に低減できるオートフォーカス装置を有する結像装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも対物レンズ１９を介して基板１１を照明する手段(１３〜１９)と、基板から発生する光Ｌ２を少なくとも対物レンズを介して受光し、予め定めた複数の波長帯域のうち各波長帯域ごとに、基板と対物レンズとの相対位置に応じたフォーカス信号を生成する手段(４１〜４９)と、各波長帯域ごとに生成されるフォーカス信号どうしのオフセット情報を予め記憶する手段２７と、少なくとも１つの波長帯域におけるフォーカス信号とオフセット情報とに基づいて、基板と対物レンズとの相対位置を調整する手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 調整用の光学素子の配置を感度良く微調整する。
【解決手段】 第１ピッチで配列された複数の第１マークと、第１ピッチとは異なる第２ピッチで配列された複数の第２マークとを含む調整用マークに対し、所定の波長帯域の照明光を照射する(Ｓ５,Ｓ６)。調整用マークから発生する回折光のうち、開口絞りを通過して結像光学系の像面に到達した光に基づいて、画像を取り込む(Ｓ５,Ｓ６)。調整用マークの画像の輝度情報のうち、第１マークと第２マークに関わる輝度情報の対称/非対称性を加味し、第１マークと第２マークとの位置ずれ量を算出する(Ｓ５,Ｓ６)。照明光の波長帯域を変更する(Ｓ５,Ｓ６)。照明光の波長帯域が異なるときに算出した各々の位置ずれ量に基づいて、結像光学系の瞳面と開口絞り面との間に配置された調整用の光学素子を微調整し、開口絞り面における瞳像の結像位置ずれを補正する(Ｓ８,Ｓ９)。 （もっと読む）