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Fターム[5F051AA03]の内容

光起電力装置 (50,037) | 本体材料 (7,491) | 4族 (3,976) | 多結晶 (957)

Fターム[5F051AA03]に分類される特許

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【課題】従来の樹脂封止シートの特徴である透明性、接着性、耐クリープ特性を維持したまま、安価に、かつ、シート幅方向のばらつきが少ない樹脂封止シートを提供する。また、従来問題とされている残留有機過酸化物の問題やその分解による太陽電池セル等の他の部材に対する悪影響、真空ラミネートの真空機械に酢酸等の揮発成分による機械へのダメージ等の問題を解決することができる樹脂封止シートを提供する。
【解決手段】樹脂を軟化させて密着させる樹脂封止シートにおいて、環状ダイを用いて製膜したことを特徴とする樹脂封止シート。 (もっと読む)


【課題】透明導電層を最適化することによって、光電変換装置の短絡電流を向上させる。
【解決手段】基板1上に第1透明電極層2と、発電層3と、第2透明電極層6と、裏面電極層4とを備える光電変換装置100であって、前記第2透明電極層6の膜厚が80nm以上100nm以下であり、波長600nm以上1000nm以下の領域における前記第2透明電極層6の光吸収率が1.5%以下であることを特徴とする光電変換装置。及び、前記第2透明電極層6の膜厚が80nm以上100nm以下であり、前記第2透明電極層6及び前記裏面電極層4で反射された光の反射率が、波長600nm以上1000nm以下の領域で91%以上であることを特徴とする光電変換装置。 (もっと読む)


【課題】高変換効率を有し、量産性に優れた大面積光電変換装置を提供する。
【解決手段】基板上に結晶質シリコン層を含む光電変換層を形成した光電変換装置であって、結晶質シリコン層が結晶質シリコンi層を有し、結晶質シリコンi層における非晶質シリコン相のラマンピーク強度に対する結晶質シリコン相のラマンピーク強度の比であるラマンピーク比の平均値が4以上8以下、ラマンピーク比の標準偏差が1以上3以下、かつ、ラマンピーク比が4以下となる領域の割合が0%以上15%以下で表される基板面内分布を有することを特徴とする光電変換装置。基板の前記光電変換層を形成した面の大きさが1m角以上であり、結晶質シリコンi層におけるラマンピーク比の平均値が5以上8以下、ラマンピーク比の標準偏差が1以上3以下、かつ、ラマンピーク比が4以下となる領域の割合が0%以上10%以下で表される基板面内分布を有することを特徴とする光電変換装置。 (もっと読む)


【課題】 端子ボックスの剥離に起因するバックシートの剥離による太陽電池モジュールの外観不良を生じにくくできる太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】 太陽電池モジュール1は、透光性基板2と、透光性基板2の裏面に積層される受光側充填層5と、受光側充填層5上に積層される太陽電池素子4と、太陽電池素子4上に積層される裏面側充填層6と、裏面側充填層6上に積層され、端子ボックス8によって覆われる開口部3aが形成される第1バックシート3と、第1バックシート3と太陽電池素子4との間でかつ前記開口部3aが形成される部位で、少なくとも端子ボックス8の投影領域Sを含む範囲に設けられ、第1バックシート3よりも高い剛性を有する第2バックシート7とを有する。 (もっと読む)


【課題】選択エミッタを用いた太陽電池用拡散層を容易に形成することが可能な太陽電池用拡散層の製造方法および太陽電池セルの製造方法を得る。
【解決手段】リンが拡散されたリン拡散層とリンガラス層とを基板表面にこの順で有するシリコン基板のリンガラス層表面に撥水剤を塗布して撥水剤層を形成する工程と、撥水剤層を形成したシリコン基板に対してレーザ照射を行って所定のパターン領域の撥水剤層および少なくともリンガラス層の一部を除去する工程と、レーザ照射を行ったシリコン基板の表面にリン酸またはリン酸溶液を塗布して所定のパターン領域にリン酸またはリン酸溶液を選択塗布する工程と、リン酸またはリン酸溶液を塗布したシリコン基板を熱処理することにより、低抵抗拡散層を形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】裏面構造の表面形状を最適化することによって、発電層の光吸収特性を向上させた光電変換装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に、該基板1側から順に、第1透明電極層2と、発電層3と、第2透明電極層6と、裏面電極層4とを備える光電変換装置であって、前記裏面電極層4が銀薄膜を備え、前記第2透明電極層6の前記裏面電極層4側の表面が微細な凹凸形状を有し、前記表面の投影面積に対する表面積増加率が、10%以上32%以下であることを特徴とする光電変換装置。及び、基板1上に、該基板1側から順に、第1透明電極層2と、発電層3と、第2透明電極層6と、裏面電極層4とを備える光電変換装置であって、前記裏面電極層4が銀薄膜を備え、前記第2透明電極層6の前記裏面電極層4側の表面が微細な凹凸形状を有し、前記第2透明電極層6が、針状結晶を有することを特徴とする光電変換装置。 (もっと読む)


【課題】太陽電池の光電変換効率を向上させる、容易で且つコストの低い太陽電池用半導体基板の粗面化方法を提供すること。
【解決手段】本発明の太陽電池用半導体基板の粗面化方法は、所定の孔パターンが形成されたマスク用テープ10を準備する工程と、マスク用テープ10を半導体基板Wの表面に貼合する工程と、半導体基板Wをエッチング液に浸漬し、半導体基板W表面を選択的にエッチングするとともに、マスク用テープWを除去する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】 印刷性を損なうことなく細幅寸法で断面積の大きな印刷パターンを好適に形成し得る太陽電池電極用導電性ペースト組成物を提供する。
【解決手段】 45〜47(%)とエトキシ化度の低いエチルセルロースが樹脂全体の60(%)以上の割合で含まれることから、ペーストのチキソトロピーが高められるので、スキージング時の適度な流動性を確保しながら、ペーストの塗布面における広がりを好適に抑制できる。そのため、印刷性を損なうことなく細幅寸法で断面積の大きな印刷パターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】曲線因子の劣化を防ぎながら、液相から製膜される光反射低減効果の高い反射防止膜により光反射を低減させることにより短絡電流を増大した、太陽電池特性に優れた太陽電池セルを製造可能な太陽電池セルの製造方法を得ること。
【解決手段】PN接合部を有する半導体基板の一主面側に電極を形成する第1工程と、前記電極を覆って封止する保護層を形成する第2工程と、前記保護層を形成した前記半導体基板上に前記半導体基板の表面の屈折率よりも低い屈折率を有する反射防止膜を塗布形成する第3工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】
荷重による太陽電池素子の破損を抑制することができる太陽電池モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】
透光性部材1の上に、第1の架橋性樹脂7、少なくとも1つの太陽電池素子2、第2の架橋性樹脂8及び裏面部材9を順に積層して成るモジュール積層体20を準備する準備工程と、モジュール積層体20に対して圧力を加えて歪ませる加圧工程と、モジュール積層体20を歪ませた状態で、第1の架橋性樹脂7及び第2の架橋性樹脂8を、それぞれの架橋温度以上の温度条件で加熱する加熱工程と、加熱工程の後、上記圧力を開放する減圧工程と、を備える太陽電池モジュールの製造方法とする。
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【課題】 坩堝のノズル部からのシリコン融液の排出を中断することなく、結晶シリコン粒子を連続的に低コストに製造することができる結晶シリコン粒子の製造方法及び結晶シリコン粒子の製造装置を提供すること。
【解決手段】 結晶シリコン粒子の製造方法は、坩堝1のノズル部1aからシリコン融液4を粒状に排出し、排出された粒状のシリコン融液4を冷却して凝固させることによって結晶シリコン粒子8を製造する結晶シリコン粒子8の製造方法であって、シリコン融液の単位時間当たりの排出量から排出速度を測定し、坩堝1へ供給されたシリコン原料の単位時間当たりの溶融量である溶融速度が排出速度以上となるようにシリコン原料の供給重量を制御する。 (もっと読む)


【課題】微細かつ低抵抗な細線電極を備える太陽電池の製造方法及び太陽電池を提供する。
【解決手段】
受光により光生成キャリアを生成する光電変換部と、光電変換部上に形成される複数本の細線電極とを備える太陽電池の製造方法が、光電変換部上に、多数の孔隙を有する多孔質層を形成する工程Aと、多孔質層上に導電性材料を配置することにより複数本の細線電極を形成する工程Bとを備え、工程Bにおいて、導電性材料は、多孔質層に浸透することにより光電変換部に達する。 (もっと読む)


【課題】得られる電極の適切な電気的性能と基板との密着性を確保する。
【解決手段】導電性組成物は、銀粉末とPbOを含有しないガラス粉末と有機物からなるビヒクルとを含み、窒化ケイ素層11を貫通して窒化ケイ素層11の下に形成されたn型半導体層12と導通する電極13を形成する。銀粉末の組成物中の比率が70質量%以上95質量%以下であり、ガラス粉末が銀粉末100質量部に対して1質量部以上10質量部以下であり、ガラス粉末の塩基度が0.16以上0.44以下であってガラスの転移点が300℃〜450℃である。PbOを含有しないガラス粉末はBi23−B23の2元系ガラスであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】粒径の均一な結晶シリコン粒子を高い生産性で低コストに製造することができる結晶シリコン粒子の製造方法、及びその製造方法に用いられる耐シリコン融液部材を提供する。
【解決手段】坩堝1のノズル部1aからシリコン融液6を滴状に排出して、シリコン融液4を冷却して凝固させることによって結晶シリコン粒子5を製造する結晶シリコン粒子5の製造方法において、ノズル部1aは窒化珪素を含む材料から成るとともに少なくとも表層部が酸窒化珪素から成る。 (もっと読む)


【課題】低コスト化と光電変換効率向上とを両立可能な太陽電池とその製造方法を提供すること。
【解決手段】HIT型太陽電池層と色素増感型太陽電池層とを積層して構成された太陽電池の製造方法であって、シリコン基板(1)の一面上に、第1の液体材料を塗布し、焼成することによって真性アモルファスシリコン層(3)を形成し、真性アモルファスシリコン層の上側に、第2の液体材料を塗布し、焼成することによって不純物アモルファスシリコン層(4)を形成し、不純物アモルファスシリコン層の上側に、第3の液体材料を塗布し、焼成することによって触媒層(6)を形成し、一面に半導体電極(12)及び色素層(13)を有する透明基板(10)を、当該一面側をシリコン基板の一面側と対向させて配置し、透明基板とシリコン基板との隙間に電解質層(15)を形成する、太陽電池の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】太陽電池を安価で製造可能な構造と、その製造方法とを提供すること。
【解決手段】異なる仕事関数値を有する導電膜を形成した2枚の基板間に絶縁体隔壁を設けることで基板間の導通を防止でき、信頼性の高い太陽電池とすることができる。また、絶縁体隔壁に包囲された領域内に液状シリコン組成物を充填し、これを熱処理してシリコン層とすることで、信頼性の高い太陽電池を安価で提供可能となる。 (もっと読む)


【課題】ガスアトマイズ法によって形成された溶融金属の微小液滴とハロゲン化シランとの反応において、十分に高い反応率を示すシリコン粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)で示されるハロゲン化シランを含むアトマイズガスGを、ノズル1aから吐出された溶融金属に吹き付けることによって当該溶融金属の微小液滴Pを形成するアトマイズ工程を備え、このアトマイズ工程においてハロゲン化シランと微小液滴とを接触させることにより、ハロゲン化シランを還元してシリコン粒子を得る。SiH4−n(1)[式中、nは0〜3の整数;Xは、F、Cl、Br及びIからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。nが0〜2のとき、Xは互いに同一でも異なっていてもよい] (もっと読む)


【課題】太陽電池の反りを抑制するとともに、配線材と接続用電極との良好な接続を維持する。
【解決手段】太陽電池モジュールが、配列方向に沿って配列された複数の太陽電池と、前記複数の太陽電池を互いに電気的に接続する配線材とを備え、前記複数の太陽電池のうち少なくとも一の太陽電池は、受光により光生成キャリアを生成する光電変換部と、前記光電変換部上において前記配列方向に沿って形成される接続用電極とを有し、前記配線材は、前記配列方向に沿って前記接続用電極上に配設され、前記配線材は、前記接続用電極と対向する対向面に形成された複数の凹部を有しており、前記配線材は、前記複数の凹部それぞれに配設された導電性接着剤を介して前記接続用電極に接続される。 (もっと読む)


【課題】
実質的に鉛とビスマスを含まず、環境,安全,コストを配慮した上で、耐湿性が良く、しかも銀,銅,アルミニウム等の電極配線を腐食しない低温で軟化させることの可能なガラス組成物を提供する。また、そのガラス組成物を用いた封着材料,配線材料,構造材料,光学材料を提供する。さらに、これら材料を用いたプラズマディスプレイパネル等の画像表示装置,シーズヒータ,太陽電池素子等の電子デバイスを提供する。
【解決手段】
ガラス組成物が実質的に鉛とビスマスを含まず、少なくとも酸化バナジウムと酸化リンを主成分として含み、25℃での比抵抗を109Ωcm以上、軟化点を500℃以下とする。さらに成分として、酸化マンガンと酸化バリウムとを含む。また、アルカリ金属,アンチモン,テルル,亜鉛,ケイ素,アルミニウム,ニオブ,希土類元素,鉄,タングステン,モリブデンの酸化物のいずれかを含むことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】作業員の負担を軽減させるとともに、製造効率と歩留まりを向上させることができ、さらに、膜質の計測を高精度で行うことができる結晶質シリコン膜の膜質計測装置、結晶質シリコン膜の膜質計測方法、及び結晶質シリコン膜の膜質評価方法を提供する。
【解決手段】結晶質シリコン膜が形成された基板Wに対して結晶質シリコン膜の形成された膜面側から白色光を照射する光源装置11と、白色光が照射されている状態での基板Wからの反射光を検出するカラーラインカメラ12と、カラーラインカメラ12の検出結果に基づいて反射光の輝度に係るパラメータを計測し、この反射光の輝度に係るパラメータに基づいて基板W上の結晶質シリコン膜の膜質を計測する演算装置13と、カラーラインカメラ12の周囲を覆う遮光部材14とを設け、遮光部材14の基板Wに対向する部位に、反射光の通過を許容する反射光通過部14aを設ける。 (もっと読む)


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