【課題】転写マスクが高い位置精度でマスクホルダーに収容された転写マスク収容体を提供する。
【解決手段】マスクホルダー３０は、転写マスク２０を収容するための凹状収容部３３と、該凹状収容部３３に形成された内部面３４とを有する。転写マスク２０は、開口パターン３が形成された薄膜２と、前記薄膜２を支持する、シリコンからなる支持枠１とを有し、前記薄膜２の端部５には、開口パターン３の形成と同時にエッチング加工された、マスクホルダー３０内における転写マスクの移動を規制するガイド面が形成されている。転写マスクのガイド面が、マスクホルダーの凹状収容部３３に形成された内部面３４と対向して、マスクホルダー３０に収容されている。 （もっと読む）

【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハＷの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第１チャンバ１６と、減圧雰囲気に維持され、第１チャンバ１６から搬送されたウエハＷに所定の処理を施す第２チャンバ１２とを備える。そして、第２チャンバ１２内の温度を、第１チャンバ１６内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハＷの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 （もっと読む）

【課題】所定の温度に調節された恒温流体を供給可能な温度調節システムを提供する。
【解決手段】第１の温度調節手段１０１は、流体の温度を調節し、第２の温度調節手段１０８、１０９、１１０は、第１の温度調節手段１０１より高精度に流体の温度を調節する。第１の温度調節手段１０１の下流側の流路は、第１の外部機器１０４に向かう流路と、第２の温度調節手段１０８、１０９、１１０に向かう流路とに分岐している。第１の外部機器１０４に向かう流路は、第１の温度調節手段１０１と第１の外部機器１０４との間で循環路を形成している。第２の温度調節手段１０８、１０９、１１０の下流側には、第２の外部機器１０５、１０６、１０７が配置され、第２の外部機器１０５、１０６、１０７の下流側の流路は、循環路の一部であって第１の外部機器１０４の下流側にある流路に接続している。 （もっと読む）

【課題】 輻射熱の遮蔽および排気効率の点で有利な排気装置の提供。
【解決手段】 構造体と、前記構造体を介して排気する真空ポンプと、前記構造体の温度を調節する調節手段とを有する排気装置であって、前記構造体は、前記真空ポンプ側の第１の端面と、前記第１の端面とは反対側の第２の端面とが柱状の貫通孔で結ばれている、排気装置とする。 （もっと読む）

【課題】取り回しに優れ、転写面側へ近接することが可能なマスクホルダを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によるマスクホルダによれば、ステンシルマスクの側壁面とマスクホルダの保持部の側壁面とに傾斜形状を持たせることにより、両者が面接触で保持されることから、ステンシルマスクをマスクホルダに保持することが出来、取り外しも容易である。このとき、ステンシルマスクの転写面側表面は、マスクホルダの転写面側底面よりも転写面側へ突き出した状態で保持することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、真空雰囲気内で露光を行う露光装置および真空雰囲気内で使用される電子機器に関し、真空チャンバ中の機器の熱対策を効果的に行うことを目的とする。
【解決手段】 本発明の露光装置は、ほぼ真空に減圧された空間内で物体に露光光を照射する露光装置であって、内部をほぼ真空に減圧可能な真空チャンバと、前記真空チャンバ中の局所領域と前記真空チャンバ外側との間に媒体を介在させる局所媒体機構とを備えることを特徴とする。本発明の電子機器は、容器内に収納された基板を含み、真空空間内で使用される電子機器であって、前記基板上に配置された電子素子と、前記電子素子と前記容器とを熱的に接続する熱伝導物質とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、真空露光装置、真空検査装置等に使用されるゲートバルブおよびゲートバルブを備えた露光装置に関し、弁体の開閉に伴う振動の発生を低減することを目的とする。
【解決手段】 バルブ本体の開口部を弁体の移動により開閉するゲートバルブにおいて、前記弁体の移動を案内する静圧軸受を有していることを特徴とする。また、前記静圧軸受を、前記バルブ本体に配置してなることを特徴とする。さらに、前記開口部の閉時に前記開口部を遮蔽する差動排気シールを有していることを特徴とする。 （もっと読む）

運動感応性機器（１０）、例えば、電子ビームリソグラフィ機械は、光学測定システムを備え、光学測定システムは、参照平面（Ａ）において機器の位置を測定して、該平面における機器の意図されない変位、例えば、前記リソグラフィ機械の普通なら固定された電子ビームカラム（１１）の下方端の熱誘導シフトを検出するように動作する。システムは、ガラス材料の一体形プレート（１７）を備え、一体形プレート（１７）は、レーザまたは他の測定用光ビームを反射するための、高い光学精度を有する、互いに直交する２つの反射面（１９）を備える。プレート（１７）は、複数のマウント（１８）によって機器（１０）上に調整可能に且つ着脱自在に搭載され、複数のマウント（１８）は、平面（Ａ）に対する面（１９）の正確な設定を可能にし、また、所望に応じてプレートの取外しを可能にする。マウント（１８）は、割れを生じる可能性がある応力の生成を防止するようにプレート（１７）を締結するよう設計される。
（もっと読む）

【課題】簡易に露光データを作成することができ、かつショット数を低減して、露光のスループットを向上させることができるマスクパターン作成方法、露光データ作成方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】１つのセルに含まれる格子点の数、１つの前記セルの前記格子点に配置されるホールの最大数、および格子間隔を設定する（ステップＳＴ１）。格子点にホールを配置した場合における異なるホール数および配置をもつ全てのセルを求める（ステップＳＴ３）。複数の前記セルの中から、セルの移動によりホール配置が同じとなるセルを削除して、セル数を削減する（ステップＳＴ４）。マスク中での各セルの配置を決定して、マスク中での各セルの配置情報と、各セル中のホール配置の情報を含むマスクデータおよび記憶テーブルを作成する。 （もっと読む）

【課題】 磁場の変動が抑制されており、スループットの向上を図ることが可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置１は、ベースプレート１０上に位置するステージプレート２０をベースプレート１０に対して略平行に移動せしめるものである。そして、ステージ装置１は、一方向に延在しており、ベースプレート１０に略平行に配置され磁性を有するねじ部３１と、ねじ部３１に取り付けられねじ部３１の軸線Ｌ周りの回転に伴ってねじ部３１に沿って移動すると共に、磁性を有するナット３２と、ベースプレート１０とステージプレート２０との間に配置されステージプレート２０に固定されると共に、ナット３２を保持するナットホルダ５０と、ねじ部３１の延在方向に延びており磁性材料からなる磁気シールド部６０であって、ナットホルダ５０とステージプレート２０との間に配置される磁気シールド部６０と、を備える。 （もっと読む）

概して第１の態様において、本発明は、共通の光源から導出された第１のビームおよび第２のビームを異なった経路に沿って差向け、該２つのビームを結合して異なった経路間の光路差に関する位相を有する出力ビームを形成するように構成された干渉計を含む干渉分光システムを特徴とする。第１のビームの経路は測定物体と接触している。干渉分光システムは、第１のビームの経路内に位置決めされた無限焦点系であって、第１のビームが干渉計から測定物体に向かって伝播する際に第１のビームの寸法を増大させるとともに、第１のビームが測定物体から戻り干渉計に向かって伝播する際に第１のビームの寸法を低減させるように構成された無限焦点系も含む。
（もっと読む）

【課題】マスク基板の搬送エラーの無い、高信頼性のマスク描画が行なわれるマスク基板収納カセットおよびマスク基板の描画搬送ラインを提供する。
【解決手段】はマスク基板２の端縁が掛けられる多段の載置部４を有するマスク基板収納カセットにおいて、前記載置部４が下向きの傾斜面４Ａと、傾斜面４Ａの下端に連なる平坦面４Ｂとを有する。またマスク基板２の両端縁が掛けられるように載置部４を向き合わせて設け、傾斜面４Ａと平坦面４Ｂの交点を両載置部間に亘って結ぶ長さＬと、マスク基板２の両端間の長さＬｍをほぼ同じとした。 （もっと読む）

【課題】 励磁条件の時間的変動や物体の移動を加味した上で高精度な解を高速に得ることの出来る磁気シールドの解析手法を得る。
【解決手段】 解析対象を複数に分割してなるサブ領域の磁界状態を設定する第１ステップと、この磁界状態から積分方程式を用いて境界条件を求める第２ステップと、この境界条件を用いて有限要素法によりサブ領域内の磁界の状態を求める第３ステップとからなる解析ルーチンを有し、初期時間（ｔ＝０）から時間的な条件の変動を与えつつ、所定時間ステップずつ時間を経過させながらこの解析ルーチンを繰り返して行って磁気シールド解析を行う。さらに渦電流の影響を加味して第１〜第３ステップを再度行ってサブ領域内の磁界の状態を求める。 （もっと読む）

【課題】 露光時のウエハの温度を安定化させ、また、ウエハを搬送する際の搬送時間を短縮した露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】 前記基板を複数枚格納する基板ホルダを減圧雰囲気中に備え、前記基板ホルダから処理する基板を選択して露光するため、ウエハの温度の安定化が図られ、露光時におけるウエハの温度を高精度に設定することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、試料を接地する際に、パーティクルの発生を抑えつつ試料と接地電極の接触抵抗を低減することを目的とする。
【解決手段】 試料接地機構は、試料３０の表面に接触して試料３０を接地する接地電極３７、３８及び試料４０の表面に接触して試料４０を接地する接地電極４７、４８と、接地電極３７、３８と試料３０との間に表面活性化電流を流して接地電極３７、３８と試料３０との間の接触抵抗を低減する電源６１及び接地電極４７、４８と試料４０との間に表面活性化電流を流して接地電極４７、４８と試料４０との間の接触抵抗を低減する電源７１と、を備える。 （もっと読む）

レーザー干渉計ミラー・アセンブリである。このレーザー干渉計ミラー・アセンブリ(1)は、ガラス・ベース(2)と、第1および第2の直角のガラス・ミラー・ブロック(3、4)と、を備えている。それぞれのミラー・ブロックは、ガラス・ベースの上面(5)において、1組の足(6、7、8、9)を使用して、支持されている。 （もっと読む）