【課題】半導体装置の歩留まりが低下することを抑制する。
【解決手段】配線パターンを示す配線パターンデータを取得する（ステップＳ１０）。次いで、配線パターンデータを解析して、第１方向パターン及び第２方向パターンを特定する（ステップＳ２０）。第１方向パターンは、第１の方向に延伸するパターンであり、第２方向パターンは、第１の方向に直交する方向に延伸するパターンである。次いで、第１方向パターと第２方向パターンの交点を検出する。そして、この交点から延伸するパターンのうち、ビア、コンタクト及び他のパターンのいずれにも接続していないパターンを不要パターンとして検出し、検出した不要パターンを除去する（ステップＳ３０）。そしてその後、設計した配線パターンに対して光近接効果補正を行う（ステップＳ４０）。 （もっと読む）

【課題】信号の重要度を考慮に入れたセルの自動配置を行うアルゴリズムは存在しない。従って、重要配線が不必要に長くなる場合がある。重要配線が長くなると、重要配線を伝達する信号を劣化させる原因となり得る。そのため、信号の重要度を考慮に入れたセルの自動配置を行うことで、重要度の高い信号の品質を維持する半導体装置を設計できる半導体設計装置、が望まれる。
【解決手段】半導体設計装置は、半導体装置に含まれる複数のセルを接続する複数の信号配線から、伝達する信号が重要であることを示す重要配線情報が付された重要配線と、複数の信号配線のそれぞれに接続されているセルの数を示すセル接続数と、を抽出する配線情報抽出部と、配線情報抽出部が抽出した重要配線及びセル接続数に応じて、複数のセルの配置を決定するセル自動配置部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】配線すべき複数の信号線を、ユーザの指定する目的に従って適切にグループ化する。
【解決手段】配線すべき複数の信号線を複数のグループに分けるための方法は、ユーザから、複数の信号線のグループ化の条件の指定を受け付けるステップと、指定された、グループ化の条件と、データ格納部に格納されている、複数の信号線の始点端子群と終点端子群との配置パターンとに基づいて、複数の信号線のグループ化の処理を切り替えて実施する実施ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】チップサイズを縮小することができる、半導体集積回路の設計装置、及び半導体集積回路の設計方法を提供する
【解決手段】下位階層の機能ブロック４に配置された複数のセル間を接続する第一の配線を設計する下位階層配線設計部３１１と、上位階層の機能ブロック間を接続する第二の配線を設計する上位階層配線設計部３１２とを備えており、下位階層配線設計部３１１は、機能ブロック４を複数の小領域４ａに分割し、小領域４ａごとに機能ブロック４内配線に必要となる必要配線層数Ｌ_ｎを算出して、最下部の配線層から必要配線層数Ｌ_ｎ枚の配線層を配線可能領域として同領域内に第一の配線を配置し、上位階層配線設計部３１２は、第一の配線における配線可能領域以外の機能ブロック４の配線層に第二の配線を配置する。 （もっと読む）

【課題】フロアプラン設計におけるイタレーションを防ぎ、設計期間を短縮する。
【解決手段】複数の回路モジュールの接続情報を含むネットリストと、前記複数の回路モジュールにグループを設定するためのグループ設定情報と、を記憶部に記憶し、ネットリスト及びグループ設定情報に基づき、複数の回路モジュールにグループを設定し（Ｓ２１）、設定されたグループ間におけるタイミング制約を満たす距離を算出し（Ｓ２３）、算出されたグループ間の距離を含み、フロアプランを作成するためのフロアプラン作成情報を生成する（Ｓ２５）。 （もっと読む）

【課題】レイアウト設計において、複数のＩ／Ｏバッファセルを２列以上に配列する場合、Ｉ／Ｏバッファ領域の近傍にリピータを挿入する領域を確保し、手戻りをできるだけ抑えることができる、半導体集積回路設計支援装置、半導体集積回路設計方法およびプログラムを提供する。
【解決手段】リピータを含まないフィルセル（ＦＣ）と、リピータを含むフィルセル（ＦＣＲ）とが用いられる。フィルセル（ＦＣ）は、同列で互いに隣接したＩ／Ｏバッファセル（Ｂ_{ｍ＝１、ｎ}、Ｂ_{ｍ＝１、ｎ＋１}など）間に配置される。なお、複数のＩ／Ｏバッファセルは、２列に配置されている。Ｉ／Ｏバッファセルからプリミティブセルまでの配線長に基づいて、すでに配置されているフィルセル（ＦＣ）が、リピータを含むフィルセル（ＦＣＲ）に置換される。 （もっと読む）

【課題】マクロの全端子で配線が引き出し可能かを判定できるレイアウト設計装置、レイアウト設計方法およびレイアウト設計プログラムを提供する。
【解決手段】記憶部１１は内部にマクロを含んだ多層回路の階層レイアウトの設計データを記憶する。チャネル数算出部１３は設計データに基づいて、マクロの各端子から所定の配線層まで配線を引き出すために使用可能なチャネル数を端子毎に算出する。経路算出部１５は算出したチャネル数の少ない端子から順に、端子から所定の配線層まで配線を引き出すための経路を算出する。経路判定部１６はマクロの全ての端子について引き出し経路を算出できたか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】従来のＬＳＩ設計フローではクロックの遅延やスキューが無いことを前提とするため，クリティカルパスにてタイミングが仕様を満たさないことがＳＴＡ後に判明する。
【解決手段】ハードウェア記述ファイルと制約条件ファイルとから第１のクロックと第２のクロックのそれぞれのクロックツリーによる想定遅延値をそれぞれ生成し，第１のクロックと第２のクロックの想定遅延値をもとにしてクリティカルパスをデータベースへ登録するデータベース構築工程と，ハードウェア記述ファイルと制約条件ファイルについて論理合成を行うとともに，クリティカルパスをそれ以外のパスよりも優先して最適化し，ネットリストを生成する論理合成工程とを有するＬＳＩ設計方法。 （もっと読む）

【課題】チップ面積を増加させることなく、効率良くリーク電流を抑制することができる半導体集積回路装置を提供する。
【解決手段】半導体集積回路装置は論理が同一のセルＡ−１，Ｂ−１，Ｃ−１を備えている。セルＢ−１はセルＡ−１よりセル幅Ｗ２が大きいが、ＭＯＳトランジスタのゲート長Ｌ１はセルＡ−１と等しい。セルＣ−１は、セルＢ−１とセル幅Ｗ２が等しいが、ゲート長Ｌ２が大きいＭＯＳトランジスタを有しており、セルＡ−１，Ｂ−１と比べて回路遅延は遅くなるがリーク電流は小さくなる。このため例えば、空き領域に隣接したセルＡ−１をセルＢ−１に置き換え、タイミングに余裕があるパスにおけるセルＢ−１をセルＣ−１に置き換えることによって、チップ面積を増加させることなく、リーク電流を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】チップ面積を小さくすることのできるレイアウト設計方法を提供する。
【解決手段】レイアウト設計方法は、所定のタイミング制約Ｆ１を満足させるように、セルを配置し、低抵抗配線が形成される第１配線層を使用してセル間のパスの接続配線を形成する処理（ステップＳ２〜Ｓ４）を有する。また、レイアウト設計方法は、タイミング制約Ｆ１を満足させたまま、パスの接続配線のうち、セル間に配置されるバッファ回路によって区切られる複数のステージ中の少なくとも一つのステージに対応する接続配線におけるレシーバ側からの一部を、第１配線層から該第１配線層よりも配線遅延が大きくなる第２配線層に置き換えて形成する配線置換処理（ステップＳ５）を有する。 （もっと読む）

【課題】チップサイズを縮小する。
【解決手段】レイアウト設計方法は、レイアウト設計装置が、半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域３と階層ブロック用のユニットセル配置領域４とを含む階層ブロック配置領域２を、チップ領域１に設定し、チップ領域１における階層ブロック配置領域２を包囲する周辺領域５のユニットセル配置領域、および、階層ブロック配置領域２内の空きユニットセル配置領域３を用いて、配置配線を行う。 （もっと読む）

【課題】複数の下位階層ブロックに跨るセル同士を各下位階層ブロックに設けた端子を経由して相互に接続する場合に、セル間を結ぶ経路が迂回経路となること。
【解決手段】階層レイアウト設計装置は、第１の下位階層ブロックに含まれるセルから出力された信号を受信する出力端子を該セルの近傍に配置する出力端子配置部と、第２の下位階層ブロックに含まれる複数のセルへ前記出力端子から出力された信号を供給する入力端子を、該複数のセルを囲む最小の矩形領域の境界上であって、前記出力端子が配置された箇所からの距離が最短の箇所に配置する入力端子配置部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】マクロのレイアウト情報に基づいて、当該マクロが使用されるＬＳＩのレイアウト設計時に発生する可能性がある設計規則違反を予め検出する。
【解決手段】マクロ用レイアウト検証装置は、マクロの端子にビアコンタクトを配置したと仮定する手段と、ビアコンタクトとマクロ内レイアウトとの関係が設計規則に違反するか否かを判定する手段と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】モジュール間の配線を自動的に削減する。
【解決手段】モジュール１１Ａ及び１１Ｂの間に接続された配線に関する情報を含む仮配置／仮配線情報３３に基づき、モジュール１１Ａ及び１１Ｂの間に接続された配線の本数を抽出し、抽出された配線の本数と、予め設定された、配線の本数に対する閾値を少なくとも含む閾値情報３４とを比較し、比較の結果、配線の本数が閾値を超えた場合に、モジュール１１Ａ及び１１Ｂのうち、送信側のモジュール１１Ａに、パラレル信号をシリアル信号に変換するパラレルシリアル変換回路１３を挿入するとともに、受信側のモジュール１１Ｂに、シリアル信号をパラレル信号に変換するシリアルパラレル変換回路１４を挿入し、モジュール１１Ａ及び１１Ｂの間の接続をパラレル接続からシリアル接続に変更する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路の遅延時間の変動を抑制すること。
【解決手段】回路設計支援装置１は、選択部１ｂと配置部１ｃとを有している。選択部１ｂは、設計対象の半導体集積回路モデルが備えるレジスタモデル２ｂにクロック信号を供給するクロック信号線の分岐点Ｐ１からレジスタモデル２ｂのクロック信号入力端子に至る第１の経路と、分岐点Ｐ１からレジスタモデル２ｂのデータ信号入力端子に至る第２の経路の、配線に関する物理パラメータの差分値に基づいて、物理パラメータが異なる配線負荷を有する複数の遅延回路モデルから遅延回路モデルＢを選択する。配置部１ｃは、選択された遅延回路モデルＢをデータ信号入力端子に接続されるデータ信号線に配置する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路のレイアウト設計において、幅が広い第１の配線と幅が狭い第２の配線との間に無駄なスペースが発生することによる配線性の悪さを改善する。
【解決手段】このレイアウト設計方法は、回路情報に基づいて、レイアウト領域において複数の横ラインと複数の縦ラインとが交差する格子点上に、複数の回路素子の接続点を配置するステップ（ａ）と、回路情報及び複数の回路素子の配置に基づいて、いずれかの横ライン又は縦ラインの位置を始点として、第１の方向に格子間隔よりも大きい所定の幅を有する第１の配線を配置するステップ（ｂ）と、ステップ（ｂ）において配置された第１の配線に第１の方向と反対の第２の方向において隣接する横ライン又は縦ライン上に、最小幅を有する第２の配線を配置するステップ（ｃ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】配線の遅延特性のばらつきを抑制すること。
【解決手段】回路設計支援装置１は、設定部１ａと生成部１ｂとを有している。設定部１ａは、半導体集積回路モデル２の層２ａ、２ｂそれぞれに、積層方向および面方向に隣接するユニット３の配線方向が互いに異なる方向に配線が生成される複数の矩形のユニット３を設定する。生成部１ｂは、ユニット３の境界で異なる層のユニット３に跨る配線を生成する。 （もっと読む）

【課題】配線が混雑する領域であっても最適な配線をすることができる半導体集積回路の設計方法を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる半導体集積回路の設計方法は、所定の単位領域に配置されたレイアウトセルの端子数を調査し、単位領域のうち前記レイアウトセルの端子数が所定の値よりも大きい単位領域において、端子が存在する配線トラックである端子存在トラックと端子が存在しない配線トラックである空トラックとに分類すると共に、当該端子存在トラックが所定数以上連続する箇所を調査し、端子存在トラックが所定数以上連続する箇所における端子の位置を移動する。 （もっと読む）

【課題】結晶化半導体薄膜に対して適正かつ効率的なフォトマスクの作成を可能にする。
【解決手段】１実施形態に係る設計ライブラリデータベースは、２次元的に区画して各々薄膜トランジスタのチャネル領域のサイズを超える複数の結晶粒規定領域が配置された結晶化半導体薄膜を用いる薄膜トランジスタ回路の設計ライブラリデータベースであって、各々のチャネル領域が単一の前記結晶粒規定領域内の固定位置に配置される２個以上の薄膜トランジスタおよび前記２個以上の薄膜トランジスタを相互接続する配線を含む様々な論理ゲート回路をそれぞれ表す複数のスタンダードセル、並びに前記様々な論理ゲート回路の様々な組み合わせをそれぞれ表す複数のマクロセルの少なくとも一方のセルのライブラリ、および前記複数の結晶粒規定領域が配置された結晶化アレイパターンのスタンダードセルのライブラリを含みハードディスクに登録される。 （もっと読む）

【課題】配線設計において、簡易的に配線混雑を回避することが可能な配線設計方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の第１方向配線の配線層及び複数の第２方向配線の配線層を備える基板対して概略配線を行い、基板を複数のタイルに分割し、複数のタイルに対応するように、複数の第１方向配線の配線層及び複数の第２方向配線の配線層を分割して、複数の第１方向配線の部分配線領域と、複数の第２方向配線の部分配線領域と、を形成し、タイルにおける第１方向配線がオーバーフローしている場合には、このタイルに対応する第２方向配線の部分配線領域を、第１方向配線の部分配線領域に変更する。 （もっと読む）