Fターム[5F083EP21]の内容
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Fターム[5F083EP21]の下位に属するFターム
CGを有するもの (4,415)
CG、FG、SG以外のゲートを有するもの (262)
SGを有するもの (2,694)
ゲート/チャネル/ゲート構造 (16)
Fターム[5F083EP21]に分類される特許
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不揮発性半導体メモリ装置
【課題】不揮発性半導体メモリ装置、特に、埋め込み半導体装置で書き込みと消去を繰り返し得る不揮発性メモリ機能を提供する不揮発性半導体メモリ装置を提供する。
【解決手段】半導体基板と、前記半導体基板に形成された第1活性領域及び第2活性領域を分離する素子分離領域と、前記第1活性領域に第1絶縁膜を媒介として形成されたトランジスタ電極と、前記第1活性領域に第2絶縁膜を媒介として形成された第1キャパシタ電極と、前記第2活性領域に第3絶縁膜を媒介として形成されて、前記トランジスタ電極及び前記第1キャパシタ電極に電気的に接続した第2キャパシタ電極と、を備える。
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