【課題】環境負荷が小さく且つクラックの発生が抑制された圧電セラミックス膜を形成することができる圧電セラミックス膜形成用組成物、圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】圧電セラミックス膜形成用組成物は、ビスマス及び鉄を含む金属錯体混合物と、エチルセルロースと、ターピネオールと、溶媒と、を含む。高分子材料であるエチルセルロースと、沸点の高いターピネオールとを含むことにより、圧電セラミックス膜を製造する工程において発生する残留応力を低減させることができる。これにより、鉄酸ビスマス系の圧電材料からなりクラックの発生が抑制された圧電セラミックス膜を形成することができるものとなる。また、鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】エッチング方法を変化させてビットラインの損失を防止する半導体メモリ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の絶縁膜１０２上に金属配線層とエッチング停止膜１１２を形成する。金属配線層とエッチング停止膜１１２をパターニングして金属配線１１０を形成する。そして、第１の絶縁膜１０２上に第２の絶縁膜１１４を形成し、エッチング停止膜１１２が露出されるように第１のエッチングガスで第２の絶縁膜１１４の一部をエッチングする。続いて金属配線１１０が露出されるように第２のエッチングガスでエッチング停止膜１１２を除去する。それによって、たとえば比抵抗が低いアルミニウムを金属膜１０６として用い、そのアルミニウム金属膜１０６によるビットラインにビアホール１２０を連結する際、エッチングガスを変化させるだけで別途に追加膜を形成せずともアルミニウム金属膜１０６のエッチング損傷を抑制できる。 （もっと読む）