説明

Fターム[5F173AF38]の内容

Fターム[5F173AF38]に分類される特許

101 - 106 / 106


【課題】アルミニウム・ガリウム、砒化物、ガリウム・インジウム・砒素・リン、インジウム・リン(AlGaInAs/GaInAsP/InP)材料系およびその組み合わせを用いる半導体レーザーダイオードを提供する。
【解決手段】活性層の設計および光学空洞の設計の両方が最適化され、活性領域の温度上昇を最小化することにより、活性層の温度上昇がレーザー効率に及ぼす影響を少なくする。その結果、1.30〜1.61マイクロメートル波長の高出力エネルギー半導体レーザーが得られ、エルビウムをドーピングした導波管デバイスのポンピングとして用いることもでき、または軍事、医療、または工業用途に直接使用することもできる。 (もっと読む)


【課題】 窒素と窒素以外のV族元素を含む混晶半導体を活性層とする自励発振型半導体レーザにおいて、安定して自励発振する半導体レーザ等を提供することを目的としている。
【解決手段】 基板上に、窒素と窒素以外のV族元素との混晶半導体で構成された活性層と、前記活性層の上下に設けられたクラッド層を含む導電層からなる自励発振型半導体レーザにおいて、前記活性層とほぼバンドギャップエネルギーが等しく、窒素と窒素以外のV族元素との混晶半導体で構成された可飽和吸収層を備え、前記可飽和吸収層はAlを含んでいる構成とする。 (もっと読む)


【課題】 熱処理工程や通電によってクラッド層から拡散した不純物が活性層中をさらに拡散することを抑制し、高出力かつ高信頼性の半導体レーザを提供する。
【解決手段】 n−GaAs基板101上にn−GaAsバッファ層102、n−(Al0.7Ga0.30.5In0.5Pクラッド層103(Siドープ)、活性層104(Siドープ)、第1のp−(Al0.7Ga0.30.5In0.5Pクラッド層105(Znドープ)をこの順に含むダブルへテロ接合構造部が形成されている。活性層104は、4層のGa0.5In0.5P井戸層202A〜202D(Siドープ)とその間の3層の(Al0.5Ga0.50.5In0.5Pバリア層203A〜203C(Siドープ)とそれらをはさむように形成された(Al0.5Ga0.50.5In0.5P光ガイド層201、204(Siドープ)とで構成されている。 (もっと読む)


【課題】 発振波長1.0μm以下の近赤外波長帯半導体レーザ素子において、自由電子吸収の抑制と、それとトレードオフの関係にある温度特性、素子抵抗、発振横モードの安定性を両立させる。
【解決手段】 基板上101に、n型クラッド層103と、p型クラッド層107,109を含む複数のp型導電型層m(m=1、2…k)(kは自然数)と、活性層105とを備えた発振波長が1.0μm以下の半導体レーザ素子において、基板上の全ての層に存在する光量の総和に対するp型導電型層mに存在する光量の割合を光閉じ込め係数Γ(m)とし、p型導電型層mのドーピング濃度をP(m) (cm−3)としたとき、Γ(m)とP(m)の積の総和


を8.0×1017cm−3 以下とする。 (もっと読む)


【課題】 活性層を構成するGaInAsP系材料の非混和性領域による相分離を抑制する。
【解決手段】 (100)面から<011>方向へ12°以上20°以下の角度傾けた面もしくはこの面と等価な結晶面を主面とするn−GaAs基板16を共通基板として、このn−GaAs基板16上にn−GaAs基板16とそれぞれが格子整合するn導電型半導体材料の第1nクラッド層122とこの第1nクラッド層122の上に配設されたGaIn(1−x)As(1−y) (1≧x>0、1≧y>0)で形成された層を含むMQW活性層124とn−GaAs基板と格子整合するp導電型半導体材料の第1pクラッド層126とを有する短波長用LD12と赤色LD14を隣接配置したものである。 (もっと読む)


レーザーダイオードは結晶基板(1)を含み、その上に、一組のn型層、一組の光活性層(5)及び一組のp型層が順次結晶成長によって積層される。一組のn型層は、バッファ層(2)、ボトムn型クラッド層(3)及びボトムn型導波路層(4)を少なくとも含む。一組のp型層は、電子障壁層(EBL)を含むアッパーp型導波路層(6)、アッパーp型クラッド層(7)及びp型コンタクト層(8)を少なくとも含む。電子障壁層は、マグネシウムをドープした混合物InxAlyGa1-x-yN(ただし、1≧x>0.001、1≧y≧0)を含む。本発明では、一組のn型層(2,3,4)、一組の光活性層(5)及び一組のp型層(6,7,8)を順次エピタキシャル積層し、アッパーp型導波路層(6)及びアッパーp型クラッド層(7)を、インジウムが存在する状態においてプラズマ支援分子線エピタキシー法で積層する。 (もっと読む)


101 - 106 / 106