研磨組成物の製造法、更に詳しくは、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨組成物の製造法を提供する。該製造法は、研磨粒子の反応器後サイジングを直接湿式粉砕及び遠心分離によって実施し、所望によりその後、真空脱水及び解凝集と組み合わせた水圧チャンバプレスフィルタリングを行う。特定の粒径範囲を標的にすることにより、高い被膜清掃レベルが、シリカ製品自体の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが分かった。その結果、特に望ましい清掃利益を示すそのような分級研磨シリカ製品を含む歯磨剤が、歯の硬質表面に悪影響を及ぼすことなく改良された歯磨き、ホワイトニングなどのために提供できる。本発明はまた、この選択的プロセススキームによる製品及びそのような特製及び分級シリカ製品を含有する歯磨剤も包含する。 （もっと読む）

本発明は、無彩色のマストーンを有する半透明の干渉顔料に関する。この顔料は、基材、ならびに金属スズおよび少なくとも１種の金属酸化物を含む被膜を有する。本発明はまた、この顔料の製造法、およびその使用に関する。 （もっと読む）

化粧品毛髪又は皮膚組成物を噴霧するための製品放出システムがあって、（ａ）耐圧包装と、（ｂ）毛管を含むスプレーヘッドと、（ｃ）少なくとも１種のＵＶフィルターを含む噴射剤を含有する化粧品組成物と、を有する。噴霧は、毛管を用いて実施される。前記毛管が、好ましくは、０．１〜１ｍｍの直径、及び５〜１００ｍｍの長さを有する。噴霧速度が、好ましくは０．０１〜５ｇ／ｓである。組成物は、特にジェル、ワックス、又はエマルションとすることができる。 （もっと読む）

本発明は、干渉顔料の混合物に関する。前記混合物は、基質と金属鉄を含む被膜とを備える少なくとも１種の干渉顔料（Ａ）と、基質と金属スズに加えて少なくとも１種の金属酸化物を含む被膜とを備える干渉顔料（Ｂ）と、を含む。本発明は、化粧品、ラッカー、ペイント、プラスチック材料、フィルム、印刷セキュリティ書類、書類および身元証明書におけるセキュリティ特色で、種子の染色、食品の着色、レーザーマーキングのために、または薬剤のコーティング、ならびに顔料調製物および乾燥調製物の製造にそれらを使用することにも関し、本発明の混合物を含む化粧品、ラッカー、ペイント、プラスチック材料、フィルム、書類および身元証明書、種子もしくは食品、または薬剤のコーティング、顔料調製物および乾燥調製物にも関する。 （もっと読む）

（ａ）耐圧包装と、（ｂ）毛管を含むスプレー噴霧ヘッドと、（ｃ）噴射剤を含有する化粧品組成物とを有しており、該組成物が少なくとも１つの毛髪セッティング若しくは毛髪コンディショニングの非イオン性、アニオン性、両性、又は双極性ポリマーを含有する、毛髪用化粧品組成物を噴霧する製品放出システムについて説明する。噴霧は、毛管を使用して行われる。毛管は、好ましくは直径０．１〜１ｍｍ、長さ５〜１００ｍｍを有する。噴霧速度は、好ましくは０．０１〜５ｇ／ｓである。組成物は、特に、ゲル、ワックス、又はエマルションであることができる。 （もっと読む）

本発明は、
・ 生理学的に許容される媒体、
・ 該組成物が施与される基体上に単分散粒子の規則正しい格子を形成するのに適する単分散粒子、ならびに
・ 上記格子の形成を妨げるのを回避するのに十分大きい該単分散粒子より大きい粒子、
を含む化粧料組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、
・ 生理学的に許容される媒体；および
・ 各粒子が、該媒体に不溶であるコアを含み、該媒体に可溶なポリマー鎖が、該コアの表面から、特にグラフト化により、延びている単分散粒子、但し該単分散粒子は、該組成物が施与される表面上に単分散粒子の規則正しい格子を形成するのに適している、
を含む化粧料組成物に関する。
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本発明は、
・ 生理学的に許容できる媒体；および
・ 組成物の全重量に対して少なくとも15重量％の、80〜500nmの範囲にある平均粒径を有する単分散粒子
を含み、該単分散粒子は、組成物が施与される基体上に単分散粒子の規則正しい格子を形成するのに適している化粧組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】高い彩度を持ちながら、大きな反射角領域において明度を向上させ、立体物の輪郭の強調効果や、デザイン上の優れた色彩効果が得られる複合有機粉末と、その配合化粧料、樹脂、塗料、インキを提供すること。特に化粧料において毛穴の目立ちを押さえ、化粧崩れした際に汚く崩れにくいことを特徴とする化粧料を提供すること。
【解決手段】半球状〜略半球状の形態を有する有機粉末の表面を、一次粒子径が5μｍ未満である顔料及び／又は有機色素と結合剤とで被覆したことを特徴とする複合有機粉末。 （もっと読む）

本発明は、以下を含む第１の組成物：
・ 生理学的に許容される媒体；および
・ 該組成物が施与される基体上に単分散粒子の規則正しい格子を形成するのに適する単分散粒子、ならびに
・ ポリマーを含む第２の組成物、該第2の組成物は第1の組成物の層の下に施与される、
を含むキットに関する。 （もっと読む）