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国際特許分類[B01J27/122]の内容

国際特許分類[B01J27/122]に分類される特許

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【課題】 オキシ塩素化触媒の粒子毎の金属成分の偏在が小さく、オキシ塩素化触媒の粒子毎の活性が均一となることから活性、選択性に優れるオキシ塩素化触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも下記の(1)〜(3)工程を経るオキシ塩素化触媒の製造方法。
(1)工程;中空円筒形状のアルミナ担体に少なくとも塩化銅及び周期表1族元素の塩化物を担持する工程。
(2)工程;(1)工程の後の少なくとも塩化銅及び周期表1属元素の塩化物を担持した中空円筒形状のアルミナ担体を気流下、0〜35℃の温度範囲内で乾燥を行う工程。
(3)工程;(2)工程の後の少なくとも塩化銅及び周期表1属元素の塩化物を担持した中空円筒形状のアルミナ担体の焼成を行いオキシ塩素化触媒とする工程。 (もっと読む)


【課題】 オキシ塩素化触媒の粒子毎の金属成分の偏在が小さく、活性、選択性に優れるオキシ塩素化触媒の製造法を提供する。
【解決手段】 少なくとも下記の(1)〜(2)工程を経るオキシ塩素化触媒の製造法。
(1)工程;中空円筒形状のアルミナ担体に少なくとも塩化銅及び周期表1族元素の塩化物を担持する工程。
(2)工程;(1)工程の後の少なくとも塩化銅及び周期表1属元素の塩化物を担持した中空円筒形状のアルミナ担体を蓋付トレイ内に入れ、バッチ式の焼成装置で焼成を行いオキシ塩素化触媒とする工程。 (もっと読む)


【課題】 エチレン、塩化水素及び酸素から1,2−ジクロロエタンを高選択性かつ安定に製造するオキシ塩素化触媒を提供する。
【解決手段】 アルミナ担体に少なくとも塩化銅および周期表1族元素の塩化物を担持した中空円筒形状を有するオキシ塩素化触媒であって、細孔直径3〜15nm未満の範囲内の細孔および細孔直径15〜50nmの範囲内の細孔を有し、塩化銅に対する周期表1族元素の塩化物のモル比の標準偏差が0.1以下であるオキシ塩素化触媒。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、優れたAMPA受容体阻害作用および/またはカイニン酸受容体阻害作用を示す新規化合物を提供する。
【解決手段】 下記式で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの水和物である。
【化1】


〔式中、QはOを示し;X1、X2およびX3は単結合を示し;A1、A2およびA3は同一または相異なってそれぞれ置換基を有していてもよいC3-8シクロアルキル基、C3-8シクロアルケニル基、5乃至14員非芳香族複素環式基、C6-14芳香族炭化水素環式基または5乃至14員芳香族複素環式基を示し;R17およびR18は同一または相異なって水素原子、ハロゲン原子またはC1-6アルキル基を示す。〕 (もっと読む)


【課題】 エチレン、塩化水素及び酸素から1,2−ジクロロエタンを製造する際の高選択性に優れるオキシ塩素化触媒を提供する。
【解決手段】 アルミナ担体に少なくとも塩化銅および周期表1族元素の塩化物を担持した中空円筒形状を有するオキシ塩素化触媒であって、細孔直径3〜15nm未満の範囲内の細孔および細孔直径15〜250nmの範囲内の細孔を有するオキシ塩素化触媒。 (もっと読む)


【課題】本発明では、被表面処理部材の材質および形状を問わず、所望の位置に微細構造体を形成することができる、被表面処理部材の表面処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被表面処理部材に対する表面処理方法であって、(a)被表面処理部材を準備するステップと、(b)シリコン系高分子を含む表面処理剤を調製するステップと、(c)前記被表面処理部材の少なくとも一部に、前記表面処理剤を設置するステップと、(d)触媒を含み、ガス流が存在する環境下において、前記表面処理剤が設置された被表面処理部材を800℃以上の温度で焼成することにより、ケイ化物の繊維状構造体を形成するステップであって、前記ガス流は、前記被表面処理部材の表面積50mあたり0.01L/min以上の流量で供給されるステップと、を有する表面処理方法。 (もっと読む)


(a)銅酸化物、(b)レニウム酸化物および(c)アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む触媒存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。 (もっと読む)


(a)銅酸化物、(b)マンガン酸化物および(c)アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む触媒存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。 (もっと読む)



【課題】工業的な観点から、アリールブロミド化合物やアリールヨージド化合物よりも廉価な原料であるアリールクロライド化合物を用いて、ビアリール化合物を製造する方法が求められていた。
【解決手段】金属銅及び銅塩の存在下、式(1)
Ar−Cl (1)
(式(1)中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物をカップリングする工程を含む式(2)
Ar−Ar (2)
(式(2)中、Arはそれぞれ独立であり、前記式(1)と同義である。)
で示されるビアリール化合物の製造方法。 (もっと読む)


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